JP5675249B2 - 電極対アレイ板、電極対アレイ板の製造方法、描画装置、および物品の製造方法 - Google Patents
電極対アレイ板、電極対アレイ板の製造方法、描画装置、および物品の製造方法 Download PDFInfo
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Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2010221796A JP5675249B2 (ja) | 2010-09-30 | 2010-09-30 | 電極対アレイ板、電極対アレイ板の製造方法、描画装置、および物品の製造方法 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2010221796A JP5675249B2 (ja) | 2010-09-30 | 2010-09-30 | 電極対アレイ板、電極対アレイ板の製造方法、描画装置、および物品の製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
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JP2012079475A JP2012079475A (ja) | 2012-04-19 |
JP2012079475A5 JP2012079475A5 (enrdf_load_stackoverflow) | 2014-02-27 |
JP5675249B2 true JP5675249B2 (ja) | 2015-02-25 |
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ID=46239499
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2010221796A Expired - Fee Related JP5675249B2 (ja) | 2010-09-30 | 2010-09-30 | 電極対アレイ板、電極対アレイ板の製造方法、描画装置、および物品の製造方法 |
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Country | Link |
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JP (1) | JP5675249B2 (enrdf_load_stackoverflow) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015023286A (ja) * | 2013-07-17 | 2015-02-02 | アイエムエス ナノファブリケーション アーゲー | 複数のブランキングアレイを有するパターン画定装置 |
JP2018160533A (ja) * | 2017-03-22 | 2018-10-11 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | マルチビーム用のブランキング装置 |
JP6965222B2 (ja) * | 2018-09-14 | 2021-11-10 | 株式会社東芝 | 半導体装置 |
JP7222874B2 (ja) * | 2019-11-12 | 2023-02-15 | 東芝デバイス&ストレージ株式会社 | 半導体装置 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62122213A (ja) * | 1985-11-22 | 1987-06-03 | Hitachi Ltd | 電子線露光装置のブランキング装置 |
JP3565652B2 (ja) * | 1996-04-25 | 2004-09-15 | 富士通株式会社 | 荷電粒子ビーム露光装置用透過マスク及びそれを利用した露光装置 |
JP2000252198A (ja) * | 1999-03-02 | 2000-09-14 | Advantest Corp | 荷電ビーム露光装置 |
JP2004165076A (ja) * | 2002-11-15 | 2004-06-10 | Advantest Corp | 偏向器の製造方法、偏向器、及び露光装置 |
JP4150363B2 (ja) * | 2004-08-10 | 2008-09-17 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | マルチ電子ビーム描画装置用デバイスの製造方法 |
JP4939143B2 (ja) * | 2006-08-04 | 2012-05-23 | キヤノン株式会社 | 荷電粒子線偏向器アレイ、該アレイを用いた露光装置及びデバイス製造方法 |
JP5373329B2 (ja) * | 2008-07-14 | 2013-12-18 | 日本電子株式会社 | 荷電粒子ビーム描画装置 |
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2010
- 2010-09-30 JP JP2010221796A patent/JP5675249B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
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JP2012079475A (ja) | 2012-04-19 |
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