JP5675249B2 - 電極対アレイ板、電極対アレイ板の製造方法、描画装置、および物品の製造方法 - Google Patents

電極対アレイ板、電極対アレイ板の製造方法、描画装置、および物品の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP5675249B2
JP5675249B2 JP2010221796A JP2010221796A JP5675249B2 JP 5675249 B2 JP5675249 B2 JP 5675249B2 JP 2010221796 A JP2010221796 A JP 2010221796A JP 2010221796 A JP2010221796 A JP 2010221796A JP 5675249 B2 JP5675249 B2 JP 5675249B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode pair
array
array plate
forming
wiring layers
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2010221796A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2012079475A (ja
JP2012079475A5 (enrdf_load_stackoverflow
Inventor
吉洋 平田
吉洋 平田
通 山崎
通 山崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP2010221796A priority Critical patent/JP5675249B2/ja
Publication of JP2012079475A publication Critical patent/JP2012079475A/ja
Publication of JP2012079475A5 publication Critical patent/JP2012079475A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5675249B2 publication Critical patent/JP5675249B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Electron Beam Exposure (AREA)
JP2010221796A 2010-09-30 2010-09-30 電極対アレイ板、電極対アレイ板の製造方法、描画装置、および物品の製造方法 Expired - Fee Related JP5675249B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010221796A JP5675249B2 (ja) 2010-09-30 2010-09-30 電極対アレイ板、電極対アレイ板の製造方法、描画装置、および物品の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010221796A JP5675249B2 (ja) 2010-09-30 2010-09-30 電極対アレイ板、電極対アレイ板の製造方法、描画装置、および物品の製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2012079475A JP2012079475A (ja) 2012-04-19
JP2012079475A5 JP2012079475A5 (enrdf_load_stackoverflow) 2014-02-27
JP5675249B2 true JP5675249B2 (ja) 2015-02-25

Family

ID=46239499

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010221796A Expired - Fee Related JP5675249B2 (ja) 2010-09-30 2010-09-30 電極対アレイ板、電極対アレイ板の製造方法、描画装置、および物品の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5675249B2 (enrdf_load_stackoverflow)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015023286A (ja) * 2013-07-17 2015-02-02 アイエムエス ナノファブリケーション アーゲー 複数のブランキングアレイを有するパターン画定装置
JP2018160533A (ja) * 2017-03-22 2018-10-11 株式会社ニューフレアテクノロジー マルチビーム用のブランキング装置
JP6965222B2 (ja) * 2018-09-14 2021-11-10 株式会社東芝 半導体装置
JP7222874B2 (ja) * 2019-11-12 2023-02-15 東芝デバイス&ストレージ株式会社 半導体装置

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62122213A (ja) * 1985-11-22 1987-06-03 Hitachi Ltd 電子線露光装置のブランキング装置
JP3565652B2 (ja) * 1996-04-25 2004-09-15 富士通株式会社 荷電粒子ビーム露光装置用透過マスク及びそれを利用した露光装置
JP2000252198A (ja) * 1999-03-02 2000-09-14 Advantest Corp 荷電ビーム露光装置
JP2004165076A (ja) * 2002-11-15 2004-06-10 Advantest Corp 偏向器の製造方法、偏向器、及び露光装置
JP4150363B2 (ja) * 2004-08-10 2008-09-17 株式会社日立ハイテクノロジーズ マルチ電子ビーム描画装置用デバイスの製造方法
JP4939143B2 (ja) * 2006-08-04 2012-05-23 キヤノン株式会社 荷電粒子線偏向器アレイ、該アレイを用いた露光装置及びデバイス製造方法
JP5373329B2 (ja) * 2008-07-14 2013-12-18 日本電子株式会社 荷電粒子ビーム描画装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2012079475A (ja) 2012-04-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4459568B2 (ja) マルチ荷電ビームレンズおよびそれを用いた荷電ビーム露光装置
US7109494B2 (en) Deflector, method of manufacturing deflector, and charged particle beam exposure apparatus using deflector
JP7453314B2 (ja) マルチビーム検査装置
TWI467618B (zh) 偏轉器陣列、帶電粒子束描繪設備、裝置製造方法、以及偏轉器陣列製造方法
US20130078577A1 (en) Charged particle beam drawing apparatus, drawing data generation method, drawing data generation program storage medium, and article manufacturing method
JP5048283B2 (ja) 偏向器アレイ、描画装置およびデバイス製造方法
JP5675249B2 (ja) 電極対アレイ板、電極対アレイ板の製造方法、描画装置、および物品の製造方法
JP2007266525A (ja) 荷電粒子線レンズアレイ、該荷電粒子線レンズアレイを用いた荷電粒子線露光装置
IL277822B1 (en) Multi-beam test rig
JP4615816B2 (ja) 電子レンズ、その電子レンズを用いた荷電粒子線露光装置、デバイス製造方法
TW202312206A (zh) 聚焦能力增進的多射束產生單元
JP2015070213A (ja) 描画装置、および物品の製造方法
US8637835B2 (en) Drawing apparatus, method of manufacturing article, and processing apparatus
JP4541798B2 (ja) 荷電粒子線レンズアレイ、及び該荷電粒子線レンズアレイを用いた荷電粒子線露光装置
DE102023204477B4 (de) MEMS mit einem optischen Bauteil und mehreren gestapelten integrierten Schaltkreisen
JP4939143B2 (ja) 荷電粒子線偏向器アレイ、該アレイを用いた露光装置及びデバイス製造方法
JP2004055166A (ja) マルチ荷電ビームレンズ及びこれを用いた荷電粒子線露光装置ならびにデバイス製造方法
JP2008066359A (ja) 荷電ビームレンズアレイ、露光装置及びデバイス製造方法
JP4252813B2 (ja) 荷電ビーム用レンズ、荷電ビーム露光装置及びデバイス製造方法
JP4143204B2 (ja) 荷電粒子線露光装置及び該装置を用いたデバイス製造方法
JP2006049703A (ja) 荷電粒子線レンズアレイ、及び該荷電粒子線レンズアレイを用いた荷電粒子線露光装置
JP2007019248A (ja) 偏向器、荷電粒子線露光装置およびデバイス製造方法
JP5737984B2 (ja) 描画装置、および、物品の製造方法
JP2012235070A (ja) 描画装置、および、物品の製造方法
JP4532184B2 (ja) 電極およびその製造方法ならびに偏向器アレイ構造体の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20130930

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140109

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20140313

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140408

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140609

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20141125

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20141224

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees