JP5659011B2 - 基板上に多層コーティングを作成するための方法及び装置 - Google Patents
基板上に多層コーティングを作成するための方法及び装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5659011B2 JP5659011B2 JP2010504727A JP2010504727A JP5659011B2 JP 5659011 B2 JP5659011 B2 JP 5659011B2 JP 2010504727 A JP2010504727 A JP 2010504727A JP 2010504727 A JP2010504727 A JP 2010504727A JP 5659011 B2 JP5659011 B2 JP 5659011B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal
- methods
- metals
- deposition
- precursor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 157
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 26
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 98
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 98
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 81
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 66
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 61
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 50
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 44
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 42
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 40
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims description 37
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 35
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 claims description 35
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 29
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 29
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 27
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 26
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 23
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 22
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 claims description 19
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 18
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 17
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 17
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 15
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 claims description 14
- 239000006260 foam Substances 0.000 claims description 14
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 claims description 14
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 claims description 13
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 13
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 12
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 11
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 10
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 10
- -1 sulfahexafluoride Substances 0.000 claims description 9
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 claims description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 7
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 7
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 claims description 7
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 claims description 7
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- GQPLMRYTRLFLPF-UHFFFAOYSA-N Nitrous Oxide Chemical compound [O-][N+]#N GQPLMRYTRLFLPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 6
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N nitrogen oxide Inorganic materials O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 6
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 claims description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 5
- 239000010953 base metal Substances 0.000 claims description 5
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 claims description 5
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 5
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 claims description 5
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 claims description 5
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 claims description 5
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 4
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 4
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- NNPPMTNAJDCUHE-UHFFFAOYSA-N isobutane Chemical compound CC(C)C NNPPMTNAJDCUHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 4
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 4
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 claims description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 3
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 claims description 3
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims description 3
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910001960 metal nitrate Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000012702 metal oxide precursor Substances 0.000 claims description 3
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 3
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 claims description 3
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 claims description 2
- 238000012696 Interfacial polycondensation Methods 0.000 claims description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 claims description 2
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011324 bead Substances 0.000 claims description 2
- 239000001273 butane Substances 0.000 claims description 2
- UBAZGMLMVVQSCD-UHFFFAOYSA-N carbon dioxide;molecular oxygen Chemical compound O=O.O=C=O UBAZGMLMVVQSCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052878 cordierite Inorganic materials 0.000 claims description 2
- JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N dimagnesium dioxido-bis[(1-oxido-3-oxo-2,4,6,8,9-pentaoxa-1,3-disila-5,7-dialuminabicyclo[3.3.1]nonan-7-yl)oxy]silane Chemical compound [Mg++].[Mg++].[O-][Si]([O-])(O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2)O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2 JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000012674 dispersion polymerization Methods 0.000 claims description 2
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 claims description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 2
- 239000001307 helium Substances 0.000 claims description 2
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000001282 iso-butane Substances 0.000 claims description 2
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N mesitylene Substances CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000001827 mesitylenyl group Chemical group [H]C1=C(C(*)=C(C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 2
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 claims description 2
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000001272 nitrous oxide Substances 0.000 claims description 2
- 239000001294 propane Substances 0.000 claims description 2
- 230000003134 recirculating effect Effects 0.000 claims description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 claims description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 2
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 2
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 claims description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 2
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 claims description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims 2
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 claims 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- JCXJVPUVTGWSNB-UHFFFAOYSA-N Nitrogen dioxide Chemical compound O=[N]=O JCXJVPUVTGWSNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims 1
- GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce] GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 claims 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims 1
- 229910052574 oxide ceramic Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000011224 oxide ceramic Substances 0.000 claims 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 claims 1
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 46
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 25
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 17
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 13
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 11
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 10
- QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N barium oxide Chemical compound [Ba]=O QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 241000264877 Hippospongia communis Species 0.000 description 6
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 6
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 6
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 6
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 5
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 5
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 5
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N ceric oxide Chemical compound O=[Ce]=O CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910000422 cerium(IV) oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N benzonitrile Chemical compound N#CC1=CC=CC=C1 JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N diisopropylamine Chemical compound CC(C)NC(C)C UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 3
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SVTBMSDMJJWYQN-UHFFFAOYSA-N 2-methylpentane-2,4-diol Chemical compound CC(O)CC(C)(C)O SVTBMSDMJJWYQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDSNLYIMUZNERS-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropanamine Chemical compound CC(C)CN KDSNLYIMUZNERS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- WGQKYBSKWIADBV-UHFFFAOYSA-N benzylamine Chemical compound NCC1=CC=CC=C1 WGQKYBSKWIADBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 description 2
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 2
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 2
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 2
- GNTDGMZSJNCJKK-UHFFFAOYSA-N divanadium pentaoxide Chemical compound O=[V](=O)O[V](=O)=O GNTDGMZSJNCJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 2
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 2
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 2
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 description 2
- 229960001730 nitrous oxide Drugs 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 238000002407 reforming Methods 0.000 description 2
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 description 2
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 239000012855 volatile organic compound Substances 0.000 description 2
- POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M (z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound C\C([O-])=C\C(C)=O POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M 0.000 description 1
- BMVXCPBXGZKUPN-UHFFFAOYSA-N 1-hexanamine Chemical compound CCCCCCN BMVXCPBXGZKUPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AKEXVWKYUAMNKL-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylpropanoic acid;silver Chemical compound [Ag].CC(C)(C)C(O)=O AKEXVWKYUAMNKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSWUGSZXXFPBPE-UHFFFAOYSA-N CC(C(C([O-])([O-])C)(C)C)CCCC.[Ag+2] Chemical compound CC(C(C([O-])([O-])C)(C)C)CCCC.[Ag+2] PSWUGSZXXFPBPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RFFFKMOABOFIDF-UHFFFAOYSA-N Pentanenitrile Chemical compound CCCCC#N RFFFKMOABOFIDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018503 SF6 Inorganic materials 0.000 description 1
- FOIXSVOLVBLSDH-UHFFFAOYSA-N Silver ion Chemical compound [Ag+] FOIXSVOLVBLSDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- DDPNPTNFVDEJOH-UHFFFAOYSA-N [O-2].[Zr+4].[O-2].[Ce+3] Chemical compound [O-2].[Zr+4].[O-2].[Ce+3] DDPNPTNFVDEJOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 238000003915 air pollution Methods 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 238000000889 atomisation Methods 0.000 description 1
- ZJRXSAYFZMGQFP-UHFFFAOYSA-N barium peroxide Chemical compound [Ba+2].[O-][O-] ZJRXSAYFZMGQFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002056 binary alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960004424 carbon dioxide Drugs 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005495 cold plasma Effects 0.000 description 1
- 239000011246 composite particle Substances 0.000 description 1
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 238000006356 dehydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 229940043279 diisopropylamine Drugs 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005485 electric heating Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 1
- 229940051250 hexylene glycol Drugs 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012705 liquid precursor Substances 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000002082 metal nanoparticle Substances 0.000 description 1
- 238000002488 metal-organic chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 235000013842 nitrous oxide Nutrition 0.000 description 1
- 231100000252 nontoxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000003000 nontoxic effect Effects 0.000 description 1
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 1
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N propionitrile Chemical compound CCC#N FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 238000011403 purification operation Methods 0.000 description 1
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000012429 reaction media Substances 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 1
- SFZCNBIFKDRMGX-UHFFFAOYSA-N sulfur hexafluoride Chemical compound FS(F)(F)(F)(F)F SFZCNBIFKDRMGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960000909 sulfur hexafluoride Drugs 0.000 description 1
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 1
- 229910002058 ternary alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
- 239000006200 vaporizer Substances 0.000 description 1
- 238000003911 water pollution Methods 0.000 description 1
- 239000002759 woven fabric Substances 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/06—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of metallic material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/40—Oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/02—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
- C23C18/12—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
- C23C18/1204—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material inorganic material, e.g. non-oxide and non-metallic such as sulfides, nitrides based compounds
- C23C18/1208—Oxides, e.g. ceramics
- C23C18/1216—Metal oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/02—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
- C23C18/12—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
- C23C18/1225—Deposition of multilayers of inorganic material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/02—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
- C23C18/12—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
- C23C18/1229—Composition of the substrate
- C23C18/1245—Inorganic substrates other than metallic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/02—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
- C23C18/12—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
- C23C18/125—Process of deposition of the inorganic material
- C23C18/1287—Process of deposition of the inorganic material with flow inducing means, e.g. ultrasonic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/02—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
- C23C18/12—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
- C23C18/125—Process of deposition of the inorganic material
- C23C18/1295—Process of deposition of the inorganic material with after-treatment of the deposited inorganic material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B25/00—Single-crystal growth by chemical reaction of reactive gases, e.g. chemical vapour-deposition growth
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Description
本発明は方法を実施するための装置にも関する。
この方法及びこの装置は特に多層コーティング又は触媒システムのためのヘテロ構造を作るのに役立つ。
−超臨界流体において触媒金属塩類の溶液を形成するために、流体の臨界温度及び臨界圧力より上の温度及び圧力で超臨界流体内に、ニッケル、鉄、銅、コバルト、及び、貴金属のような触媒金属塩類を溶解させる段階と;
−特に、アルミナ又はジルコニアのようなセラミックの高表面積比を有する多孔質担持体を、超臨界流体における触媒金属塩の溶液によって、例えば、浸漬によって、接触させる段階と、
−前記担持体の全比表面を実質的に貫通するために超臨界流体における触媒金属の溶液に対して要求されている時間中前記臨界圧力及び温度で超臨界流体において触媒金属塩の溶液を維持する段階と;
−前記多孔質担持体の表面上の触媒金属塩のフィルムを蒸着し、かつ、超臨界流体を回復可能なガスに変換するために、流体の臨界圧力より下に前記溶液の温度又は圧力を降下させる段階と;を含んでいる。
−固体担持体;
−前記固体担持体上に一つ以上の金属酸化物の均一、均質、及び、連続したフィルム;
−連続又は不連続なフィルムを構成するか、あるいは、一つ以上の酸化物の前記均一、均質、及び、連続したフィルム上に分散された1つ以上の金属又は金属合金の粒子;を含んでおり、
この方法はとりわけ単純であり、信頼し得るものであり、この方法は限られた数の段階及び反応物質を含んでおり、この方法は限られた数の装置を使用し、この装置は清潔であり、かつ、汚染を出さないものであり、及び、この方法は複雑な形状を有する担持体に容易に適合可能である。
−固体担持体上又は、固体坦持体上に既に蒸着された下敷層上に、1つ以上の金属酸化物の粒子が均一、均質及び連続したフィルム、あるいは、一つ以上の金属酸化物が均一、均質に分散した粒子からなる少なくとも一つの層、
及び、
−固体担持体上又は下敷層上の、一つ以上の金属又は一つ以上の金属合金、あるいは、一つ以上の金属又は一つ以上の金属合金の分散されたナノ粒子、の連続又は不連続なフィルムからなる少なくとも一つの層を含む。この基板を作成する方法は、以下の段階を含む:
a)加熱された、固体担持体または既に蒸着された下敷層を、金属酸化物の前駆体を超臨界流体に溶解させた溶液に含浸して、固体担持体上又は下敷層上に、一つ以上の金属酸化物の粒子、あるいは、一つ以上の金属酸化物の均一、均質な分散された粒子からなる均一、均質及び連続したフィルムを蒸着する段階。
b)固体担持体上又は下敷層上に、1つ以上の金属又は1つ以上の金属合金の連続又は不連続なフィルム、あるいは、一つ以上の金属又は1つ以上の金属合金の分散されたナノ粒子を、一つ以上の前駆体から、化学気相蒸着CVDによって蒸着する段階。
そして、段階a)と段階b)とは同一のチャンバ、同一の反応器で実行される。
−固体担持体;
−前記固体担持体上の一つ以上の金属酸化物;
−前記均一、均質、及び連続したフィルム上の、一つ以上の金属又は一つ以上の金属合金の、ナノ粒子、又は連続、もしくは不連続なフィルム;
前記方法は以下の連続した段階を含んでいる:
a)加熱された固体担持体を、金属酸化物の前駆体を超臨界流体に溶解させた溶液に含浸し、前記固体担持体上に、一つ以上の金属酸化物の均一、均質及び連続したフィルムを蒸着する段階と、
b)1つ以上の金属又は1つ以上の金属合金の分散したナノ粒子、又は連続、もしくは不連続なフィルムを、一つ以上の前駆体から、化学気相蒸着CVDによって蒸着する段階と、を含んでいる。
前記段階a)及び前記段階b)は同一のチャンバ、同一の反応器内で実行される。
覆うことが可能であり、これは容易に産業上利用可能なプロセスである。さらにまた、環境維持及び特に空気と水に関して、CVD技術は電気メッキのような合成プロセスを汚染するのとは反対に“清浄な”技術である。
特に完全な触媒システムを蒸着するために役立つ。
同一の有機金属前駆体又は金属塩類を使用した二つのプロセスの結合及び一つ及び同一の
反応器における貴金属又は卑金属のナノ粒子のウォッシュコートに続く分散を作るために適していることである。
10〜500μm−2、好ましくは50〜200μm−2の濃度と、を有している。
−固体担持体が配置されるチャンバ又は反応器と;
−流体を超臨界状態にもたらす装置と;
−1つ以上の酸化物前駆体を超臨界流体に溶解させる装置と;
−超臨界流体内の単数又は複数の金属酸化物の前駆体の溶液を反応器に搬送して、前記固体担持体と接触させるか又は既に蒸着された層と接触させて、これにより、均一、均質、及び、一つ以上の金属酸化物の連続したフィルム又は均一に分散された粒子を前記固体担持体上又は前記層上に蒸着する装置と;
−蒸着の完了時に、膨張した超臨界流体を前記反応器から抜き取り、未反応の前記前駆体を前記流体から分離して、前記流体を前記反応器に再循環させる装置と;
−一つ以上の金属又は金属合金の一つ以上の前駆体を含んでいるガスを前記反応器に搬送する装置と;
−前記固体担持体又は既に蒸着された層を加熱する装置と;
−前記反応器を真空下又は圧力下に配置する装置と;を含んでいる。
例えば、1〜400nmの寸法、直径を一般的に有する形態をした多孔質フィルムとして規定し得る。
−前駆体の単数又は複数の化学溶液を貯蔵するための単数又は複数のタンク(27);連続又は不連続なフィルム又は単一の金属から成るナノ粒子、単一のタンク(27)が設けられた場合;その有機金属前駆体の溶解が共通の溶媒内に実行できない場合、複数のタンクが使用される;
−単数又は複数のフィルタ(30)を装備した一つ以上の単数又は複数の送給管路(29)によって単数又は複数の液体貯蔵タンク(27)に接続された、例えば、ガソリン又はディーゼルエンジンタイプの1つ以上の射出器(28);
−射出器(28)内で最高点に達するベクトルガス(31)又は不活性ガス(例えば、窒素)を供給するための管路;
−及び、蒸発装置(32)(蒸発器)。
[実施例1]
この実施例では、20ppi(1インチあたりの孔数)を有するアルミナ−ジルコニア発泡体(アルミナ/二酸化チタン)から成る多孔質セラミック担持体上のアルミナ、二酸化セリウム、酸化バリウム、二酸化ジルコニウムから成る酸化物の層の蒸着が超臨界二酸化炭素媒体における含浸によって実行される。
・電子顕微鏡による特性
実施例1(図2)で作成された酸化層の電子顕微鏡による特性が第一に実施される。
特性は実施例2(実施例2と、図3及び図4で得られた蒸着)のプラチナナノ粒子の蒸着のX線回折スペクトロスコピーによって実施される。
2 担持体
3 ジャケット
4 グリッド
5 再循環管路
6 二酸化炭素
7 圧縮装置
8 ポンプ
9 バルブ
10 バルブ
11 液化タンク
12 ポンプ
15 バルブ
16 管路
17、18 分離機
19、20 自動リリーフバルブ
23、24 バルブ
25 “冷却”熱交換機
26 剥離装置
27 タンク
28 射出器
29 送給管路
30 フィルタ
31 ベクトルガス
Claims (57)
- 固体担持体と、前記固体担持体上の複数の層と、からなり、前記複数の層が、
−前記固体担持体上又は、前記固体坦持体上に既に蒸着によって形成された下敷層上に、一つ以上の金属酸化物の粒子が均一、均質及び連続したフィルム、あるいは、一つ以上の金属酸化物が均一、均質に分散した粒子から成る少なくとも一つの層、
及び、
−前記固体担持体上又は、前記下敷層上に、一つ以上の金属又は一つ以上の金属合金の連続した又は不連続なフィルム、あるいは、一つ以上の金属又は一つ以上の金属合金が分散したナノ粒子から成る少なくとも一つの層、
を含む基板を作成する方法であって:
前記方法は、
a)加熱された、固体担持体または前記固体担持体上に既に蒸着された下敷層を、金属酸化物の前駆体を超臨界流体に溶解させた溶液に含浸して、前記固体担持体上又は前記下敷層上に、一つ以上の金属酸化物の粒子から成る均一、均質及び連続したフィルム、あるいは、一つ以上の金属酸化物が均一、均質に分散された粒子を蒸着する段階と、
b)前記固体担持体上又は前記下敷層上に、一つ以上の金属又は1つ以上の金属合金の連続した又は不連続なフィルム、あるいは、一つ以上の金属又は1つ以上の金属合金が分散したナノ粒子を、一つ以上の前駆体から、化学気相蒸着CVDによって蒸着する段階と、を含み、前記段階a)と前記段階b)とが同一のチャンバ、同一の反応器で実行される方法。 - 段階a)に続いて段階b)が連続して実行される、請求項1に記載の方法。
- 段階b)に続いて段階a)が連続して実行される、請求項1に記載の方法。
- 前記段階a)又は前記段階b)、あるいは、前記段階a)に続く前記段階b)若しくは前記段階b)に続く前記段階a)の各々が1乃至10回繰り返される、請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の方法。
- 金属粒子をポリマーで被覆する有機合成段階が、段階a)及び/又は段階b)の後に実行される、請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の方法。
- a)加熱された固体担持体を、金属酸化物の前駆体を超臨界流体に溶解させた溶液に含浸し、前記固体担持体上に、一つ以上の金属酸化物の均一、均質及び連続したフィルムを蒸着する段階と、
b)一つ以上の前駆体から、化学気相蒸着CVDによって、前記均一、均質及び連続したフィルム上に分散された、一つ以上の金属又は一つ以上の金属合金の分散したナノ粒子、又は連続、もしくは不連続なフィルムを蒸着する段階と、が連続して実行される、請求項1に記載の方法。 - 金属粒子をポリマーで被覆する有機合成段階が、段階a)及び段階b)の間及び/又は段階a)に続いて段階b)の連続後に実行される、請求項6に記載の方法。
- 前記有機合成が界面重縮合、乳化重合、及び分散重合から選択された方法によって実行される、請求項5または請求項7に記載の方法。
- 前記固体担持体は稠密又は微孔質である、請求項1に記載の方法。
- 前記固体担持体は、発泡体の形態を有する、請求項1から請求項9のいずれか1項に記載の方法。
- 前記発泡体は、セラミック、ハニカム、多孔質チューブ、あるいは細粒、バーミチェリ、あるいは、ビード若しくはファイバーの形態を有する、請求項10に記載の方法。
- 前記固体担持体は、セラミックスから選択された一つ以上の素材;金属及び金属合金;ポリマー;ゼオライト;シリコン;ガラス;織物;及びこれらの複合材料から成る、請求項1に記載の方法。
- 前記セラミックスは単一又は混合された酸化セラミックス、窒化物、及びカーバイドから選択される、請求項12に記載の方法。
- 前記セラミックスは、コーディエライト(2Al2O3.2SiO2.5MgO)、シリコンカーバイド(SiC)、アルミナ/二酸化チタン(Al2O3/TiO2)、アルミナ/ジルコニア(Al2O3/ZrO2)、二酸化チタン(TiO2)、アルミナ(Al2O3)、ジルコニア(ZrO2)、及びシリカ(SiO2)から選択される、請求項13に記載の方法。
- 前記固体担持体はアルミナ/二酸化チタン(Al2O3/TiO2)の発泡体である、請求項14に記載の方法。
- 前記連続した又は不連続なフィルム又は前記均一に分散された粒子の単数又は複数の前記金属酸化物は、アルミニウム、セリウム、バリウム、ジルコニウム、チタニウム、バナジウム、これらの金属の混合された酸化物、これらの酸化物の混合物、及び混合された酸化物、並びにゼオライトから選択される、請求項1から請求項15のいずれか1項に記載の方法。
- 単数又は複数の前記金属酸化物の単数又は複数の前記前駆体は有機金属化合物及び金属塩類から選択される、請求項1から請求項16のいずれか1項に記載の方法。
- 前記有機金属前駆体は、金属アルコキシド、金属β−ジケトナート、金属カルボン酸キシレートから選択される、請求項17に記載の方法。
- 前記均一且つ連続したフィルムは50〜800nmの厚さを有している、請求項1から請求項18のいずれか1項に記載の方法。
- 前記超臨界流体は、二酸化炭素、スルファヘキサフルオライド、窒素酸化物、二酸化一窒素、1〜6の炭素原子を有する軽量アルカン、1〜5の炭素原子を有するアルケン、及び、有機液体から選択される、請求項1から請求項19のいずれか1項に記載の方法。
- 前記軽量アルカンは、メタン、エタン、プロパン、ブタン、イソブタン、ペンタン、ヘキサンである請求項20に記載の方法。
- 前記アルケンは、エチレンまたはプロピレンである請求項20に記載の方法。
- 前記有機液体は、メタノール、エタノール、イソプロパノール、またはブタノールである請求項20に記載の方法。
- 段階a)において、前記流体の温度及び圧力は、それぞれ、100〜600℃及び10〜50MPaである、請求項1から請求項23のいずれか1項に記載の方法。
- 段階a)の間、前記フィルムはゾルゲルプロセス及び/又は熱分解プロセスによって蒸着される、請求項1から請求項24のいずれか1項に記載の方法。
- 段階a)の完了且つ段階b)より前に、前記固体担持体が配置される反応器は前記固体担持体を超臨界流体で洗浄することによって一掃且つ清掃される、請求項1から請求項25のいずれか1項に記載の方法。
- 段階b)の間に蒸着された単数又は複数の前記金属は、元素周期表のVIIIB及びIB族の"貴金属"と呼ばれる金属、または、触媒作用を有する卑金属から選択され、段階b)の間に蒸着された単数又は複数の合金はこれらの金属を一緒にした合金及びこれらの金属を他の金属と一緒にした合金から選択される、請求項1から請求項26のいずれか1項に記載の方法。
- 前記単数又は複数の金属は銀、ロジウム、プラチナ、パラジウム、イリジウム、銅、ニッケル、及び金から選択される、請求項27に記載の方法。
- 前記合金は、元素周期表のVIIIB及びIB族の金属の中から選択される、請求項1から請求項28のいずれか1項に記載の方法。
- 前記金属は、銀、ロジウム、プラチナ、パラジウム、イリジウム、銅、ニッケル、または金である請求項29に記載の方法。
- 段階b)における前記蒸着は、酸化反応ガスまたは還元反応ガスが存在する場合に実施される、請求項1から請求項30のいずれか1項に記載の方法。
- 段階b)における前記蒸着は、前記酸化反応ガスの体積比50%以上のガスが存在する場合に実施される、請求項31に記載の方法。
- 前記酸化反応ガスは酸素、二酸化炭素、オゾン、一酸化二窒素N2O、及びこれらの混合物から選択される、請求項31または請求項32に記載の方法。
- 前記還元反応ガスは水素、アンモニア、アルコール蒸気、炭化水素、及びこれらの混合物から選択される、請求項31に記載の方法。
- 前記ガスは、酸化反応ガスまたは還元反応ガス、及び不活性ガスの混合物からなる、請求項31から請求項34のいずれか1項に記載の方法。
- 前記不活性ガスは、アルゴン、窒素、ヘリウム、及びこれらの混合物から選択される、請求項35に記載の方法。
- 前記ガスは、酸化反応ガス及び不活性ガスの混合物からなり、酸化反応ガスの流量の不活性ガスの流量に対する比率は1.0より高い、請求項35または請求項36に記載の方法。
- 段階b)において、前記前駆体は有機化合物及び金属塩類から選択される、請求項1から請求項37のいずれか1項に記載の方法。
- 段階b)において、前記前駆体は金属カルボン酸キシレート、及びβ−ジケトナートから選択された有機前駆体である、請求項38に記載の方法。
- 前記金属塩類は金属硝酸塩から選択される、請求項38に記載の方法。
- 段階b)の間、有機金属の単数又は複数の前記前駆体が、有機溶媒内で溶液の形態として使用される、請求項1から請求項40のいずれか1項に記載の方法。
- 前記溶液における単数又は複数の前駆体の濃度は0.01〜0.6mol/lである、請求項41に記載の方法。
- 前記溶媒は単数又は複数の前記前駆体の分解温度未満の蒸着温度を有する、請求項41または請求項42に記載の方法。
- 前記溶媒は標準圧力状態において、200℃までの周囲温度で液体である有機化合物から選択される、請求項43に記載の方法。
- 前記溶媒はメシチレン、シクロヘキサン、キシレン、トルエン、n−オクタン、イソプロパノール、テトラヒドロフラン、アセチルアセトン、エタノール、水、及びこれらの混合物から選択される、請求項44に記載の方法。
- 前記溶液はアミン及び/又はニトリルを更に含んでいる、請求項41から請求項45のいずれか1項に記載の方法。
- 段階b)の間に、前記蒸着は500℃以下の固体担持体温度で実行される、請求項1から請求項46のいずれか1項に記載の方法。
- 段階b)の間に、前記蒸着は大気圧で実行される、請求項1から請求項46のいずれか1項に記載の方法。
- 段階b)の間に、前記蒸着は真空下で実行される、請求項1から請求項47のいずれか1項に記載の方法。
- 段階b)における前記蒸着の持続時間は2〜90分の間である、請求項1から請求項49のいずれか1項に記載の方法。
- 前記蒸着はプラズマ増進によって実行される、請求項1から請求項50のいずれか1項に記載の方法。
- 同一の前駆体が段階a)及び段階b)で使用される、請求項1から請求項51のいずれか1項に記載の方法。
- 段階b)の間に、分散されたナノ粒子が蒸着される、請求項1から請求項52のいずれか1項に記載の方法。
- 前記ナノ粒子は1〜400nmの寸法を有している、請求項53に記載の方法。
- 前記ナノ粒子は10〜500μm-2を有している、請求項53または請求項54に記載の方法。
- 段階a)の完了時に、熱温度は、400〜800℃で実行される、請求項1から請求項55のいずれか1項に記載の方法。
- 請求項1に記載の方法を実施するための装置であって、
−固体担持体が配置されるチャンバ又は反応器と;
−流体を超臨界状態にもたらす装置と;
−1つ以上の酸化物前駆体を超臨界流体に溶解させる装置と;
−超臨界流体内の単数又は複数の金属酸化物の前駆体の溶液を反応器に搬送して、前記固体担持体と接触させるか又は既に蒸着された層と接触させて、これにより、均一、均質、及び、一つ以上の金属酸化物の連続したフィルム又は均一に分散された粒子を前記固体担持体上又は前記層上に蒸着する装置と;
−蒸着の完了時に、膨張した超臨界流体を前記反応器から抜き取り、未反応の前記前駆体を前記流体から分離して、前記流体を前記反応器に再循環させる装置と;
−一つ以上の金属又は金属合金の一つ以上の前駆体を含んでいるガスを前記反応器に搬送する装置と;
−前記固体担持体又は既に蒸着された層を加熱する装置と;
−前記反応器を真空下又は圧力下に配置する装置と;を含んでいる装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR0754815A FR2915753B1 (fr) | 2007-05-02 | 2007-05-02 | Procede et dispositif de preparation d'un revetement multicouche sur un substrat |
FR0754815 | 2007-05-02 | ||
PCT/EP2008/055208 WO2008135444A1 (fr) | 2007-05-02 | 2008-04-29 | Procede et dispositif de preparation d'un revetement multicouche sur un substrat |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010526650A JP2010526650A (ja) | 2010-08-05 |
JP2010526650A5 JP2010526650A5 (ja) | 2014-06-05 |
JP5659011B2 true JP5659011B2 (ja) | 2015-01-28 |
Family
ID=38924315
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010504727A Expired - Fee Related JP5659011B2 (ja) | 2007-05-02 | 2008-04-29 | 基板上に多層コーティングを作成するための方法及び装置 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20100143608A1 (ja) |
EP (1) | EP2155923B1 (ja) |
JP (1) | JP5659011B2 (ja) |
KR (1) | KR20100017179A (ja) |
CN (1) | CN101688298B (ja) |
CA (1) | CA2685586A1 (ja) |
FR (1) | FR2915753B1 (ja) |
WO (1) | WO2008135444A1 (ja) |
Families Citing this family (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8317894B2 (en) * | 2009-04-15 | 2012-11-27 | Korea Institute Of Science And Technology | Method of producing metal nanoparticles continuously and metal nanoparticles produced thereby |
US9770705B2 (en) * | 2010-06-11 | 2017-09-26 | Rennovia Inc. | Oxidation catalysts |
CN102021649B (zh) * | 2010-12-24 | 2012-06-20 | 吉林大学 | 利用添加n2o气体化学气相沉积金刚石单晶的方法 |
JP5971248B2 (ja) * | 2011-07-21 | 2016-08-17 | Jsr株式会社 | 金属体を備える基体の製造方法 |
CN102491777A (zh) * | 2011-11-24 | 2012-06-13 | 南京工业大学 | 一种对陶瓷膜孔径进行连续精密调节的方法 |
TWI498450B (zh) * | 2012-11-22 | 2015-09-01 | Nat Applied Res Laboratories | Closed flow channel reaction tank system for manufacturing catalyst or support material |
FR3000408B1 (fr) * | 2013-01-03 | 2015-02-27 | Commissariat Energie Atomique | Procede de realisation d'un filtre destine a la filtration de nanoparticules, filtre obtenu et procede de collecte et d'analyse quantitative de nanoparticules associe. |
JP6332272B2 (ja) * | 2013-08-07 | 2018-05-30 | 株式会社ニコン | 金属酸化物膜の製造方法、及びトランジスタの製造方法 |
FR3026024B1 (fr) * | 2014-09-24 | 2018-06-15 | Commissariat A L'energie Atomique Et Aux Energies Alternatives | Module catalytique presentant une efficacite amelioree au vieillissement |
JP6458595B2 (ja) * | 2015-03-27 | 2019-01-30 | 東京エレクトロン株式会社 | 成膜装置及び成膜方法並びに記憶媒体 |
WO2018094145A1 (en) * | 2016-11-18 | 2018-05-24 | Alliance For Sustainable Energy, Llc | Catalysts, systems, and methods for the conversion of biomass to chemicals |
WO2018187177A1 (en) | 2017-04-05 | 2018-10-11 | Sang In Lee | Depositing of material by spraying precursor using supercritical fluid |
US11117161B2 (en) | 2017-04-05 | 2021-09-14 | Nova Engineering Films, Inc. | Producing thin films of nanoscale thickness by spraying precursor and supercritical fluid |
KR102271771B1 (ko) * | 2017-05-25 | 2021-07-01 | 삼성전자주식회사 | 박막 형성 방법 및 이를 이용한 집적회로 소자의 제조 방법 |
CN110997197A (zh) * | 2017-08-03 | 2020-04-10 | Hrl实验室有限责任公司 | 用于纳米官能化粉末的系统和方法 |
CN111902564B (zh) * | 2018-03-28 | 2022-01-11 | 株式会社明电舍 | 氧化物膜形成方法 |
CN108654925B (zh) * | 2018-05-11 | 2021-09-17 | 江苏武专科技有限公司 | 螺栓类小工件用浸漆装置 |
FR3082439B1 (fr) | 2018-06-14 | 2021-04-23 | Commissariat Energie Atomique | Reacteur pour le traitement par oxydation hydrothermale d'une matiere organique dans un milieu reactionnel |
WO2020123970A1 (en) * | 2018-12-13 | 2020-06-18 | Averatek Corporation | Nano metal film deposition |
CN111364101A (zh) * | 2020-04-21 | 2020-07-03 | 泉州师范学院 | 大面积准单晶钙钛矿薄膜密闭循环制备装置及其制备方法 |
CN111589311B (zh) * | 2020-05-29 | 2021-09-17 | 大连理工大学 | 一种超临界流体技术制备金属有机骨架分子筛膜的方法 |
FR3112972B1 (fr) * | 2020-07-30 | 2022-11-04 | Safran | Dispositif et procede de depot de revetements epais de nitrures metaliques par la voie fluides supercritique |
CN113275188B (zh) * | 2021-04-08 | 2022-12-30 | 苏氏冠瑾(天津)科技有限公司 | 一种加速金属片表面纳米二氧化硅自动沉积成膜装置 |
CN113862639B (zh) * | 2021-09-15 | 2024-03-01 | 杭州中欣晶圆半导体股份有限公司 | 一种cvd低温氧化膜连续制备系统及制备方法 |
CN115029693B (zh) * | 2022-04-25 | 2023-10-20 | 宁波大学 | 一种利用超高速激光熔覆技术制备银涂层的方法及其产品 |
DE102022206124A1 (de) * | 2022-06-20 | 2023-12-21 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Vorrichtung und verfahren zum bearbeiten einer oberfläche eines optischen elements einer lithographieanlage |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4916108A (en) * | 1988-08-25 | 1990-04-10 | Westinghouse Electric Corp. | Catalyst preparation using supercritical solvent |
BR9610069A (pt) * | 1995-08-04 | 2000-05-09 | Microcoating Technologies | Disposição de vapor quìmico e formação de pó usando-se pulverização térmica com soluções de fluido quase super-crìticas e super-crìticas |
CA2289239C (en) * | 1998-11-23 | 2010-07-20 | Micro Coating Technologies | Formation of thin film capacitors |
JP2005515300A (ja) * | 2001-12-21 | 2005-05-26 | ユニバーシティー オブ マサチューセッツ | 流体による化学的成膜における汚染防止 |
US7119418B2 (en) * | 2001-12-31 | 2006-10-10 | Advanced Technology Materials, Inc. | Supercritical fluid-assisted deposition of materials on semiconductor substrates |
US6780475B2 (en) * | 2002-05-28 | 2004-08-24 | Battelle Memorial Institute | Electrostatic deposition of particles generated from rapid expansion of supercritical fluid solutions |
JP4071612B2 (ja) * | 2002-12-11 | 2008-04-02 | 三菱電機株式会社 | 銅下地膜形成材料、銅下地膜形成方法、銅下地膜および半導体装置 |
US7048968B2 (en) * | 2003-08-22 | 2006-05-23 | Micron Technology, Inc. | Methods of depositing materials over substrates, and methods of forming layers over substrates |
-
2007
- 2007-05-02 FR FR0754815A patent/FR2915753B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
2008
- 2008-04-29 JP JP2010504727A patent/JP5659011B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2008-04-29 KR KR1020097024203A patent/KR20100017179A/ko not_active Application Discontinuation
- 2008-04-29 EP EP08736616.7A patent/EP2155923B1/fr not_active Not-in-force
- 2008-04-29 US US12/598,530 patent/US20100143608A1/en not_active Abandoned
- 2008-04-29 CA CA002685586A patent/CA2685586A1/fr not_active Abandoned
- 2008-04-29 WO PCT/EP2008/055208 patent/WO2008135444A1/fr active Application Filing
- 2008-04-29 CN CN2008800144299A patent/CN101688298B/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2915753B1 (fr) | 2009-09-04 |
CN101688298A (zh) | 2010-03-31 |
KR20100017179A (ko) | 2010-02-16 |
US20100143608A1 (en) | 2010-06-10 |
WO2008135444A1 (fr) | 2008-11-13 |
CA2685586A1 (fr) | 2008-11-13 |
FR2915753A1 (fr) | 2008-11-07 |
CN101688298B (zh) | 2013-08-21 |
EP2155923A1 (fr) | 2010-02-24 |
JP2010526650A (ja) | 2010-08-05 |
EP2155923B1 (fr) | 2018-04-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5659011B2 (ja) | 基板上に多層コーティングを作成するための方法及び装置 | |
AU657121B2 (en) | Catalyst or membrane precursor systems, catalyst or membrane systems, and method of preparing such systems | |
JP5542431B2 (ja) | ナノ粒子のナノ多孔性層の調製方法およびそうして得られる層 | |
JP2010526650A5 (ja) | ||
US6689700B1 (en) | Chemical fluid deposition method for the formation of metal and metal alloy films on patterned and unpatterned substrates | |
Chen et al. | Electroless deposition of Ni nanoparticles on carbon nanotubes with the aid of supercritical CO2 fluid and a synergistic hydrogen storage property of the composite | |
JP2008525635A (ja) | 化学気相堆積によって基質の上に分散した金属または金属合金のナノ粒子を調製する方法 | |
US20110180478A1 (en) | Filtration systems and methods related thereto using carbon nanotube-infused fiber materials of spoolable length as a moving filtration medium | |
US20150188147A1 (en) | Method for Preparation of a Nanocomposite Material by Vapour Phase Chemical Deposition | |
KR101261994B1 (ko) | 수소분리용 필름 모양 자립금속박막 및 그 제조방법 | |
KR100961994B1 (ko) | 연료 저장 장치 | |
US20200009536A1 (en) | Manufacturing methods for supported catalysts and carbon nanostructures | |
KR100878459B1 (ko) | 초임계 및 아임계 이산화탄소를 이용한 금속 담지 촉매의제조방법 | |
WO2012039305A1 (ja) | カーボンナノチューブ製造方法 | |
JP2007229616A (ja) | 水素分離複合体及びその製造方法 | |
Erkey et al. | Synthesis of nanostructured composites of metals by supercritical deposition (SCD) | |
US20070082128A1 (en) | Method for coating a substrate | |
JP5025148B2 (ja) | 排ガス浄化用触媒 | |
Kano et al. | Low temperature deposition of titanium oxide containing thin films in trench features from titanium diisopropoxide bis (dipivaloylmethanate) in supercritical CO2 | |
FR3008716A1 (fr) | Procede de preparation d'un depot de nanoparticules d'un metal ou d'un alliage sur un substrat, substrat ainsi obtenu, et ses utilisations dans un recuperateur thermo-electrique ou une vanne egr. | |
Fisher | The construction of palladium and palladium-alloy supported membranes for hydrogen separation using supercritical fluid deposition | |
JP2011200783A (ja) | 触媒担持ハニカムの製造方法 | |
ZHANG et al. | Application of ionic liquids in the synthesis of nanomaterials |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110415 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120618 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120717 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20121016 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20121023 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130116 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20131015 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20140114 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20140121 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20140213 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20140220 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20140311 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20140318 |
|
A524 | Written submission of copy of amendment under article 19 pct |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A524 Effective date: 20140415 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20141118 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20141201 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5659011 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |