JP5658108B2 - Manufacturing method and manufacturing apparatus for substrate with reflector - Google Patents

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Description

本発明は、光電子部品を製造する際に使用される反射体付基板を製造する、反射体付基板の製造方法及び製造装置に関するものである。   The present invention relates to a method of manufacturing a substrate with a reflector and a manufacturing apparatus for manufacturing a substrate with a reflector used when manufacturing an optoelectronic component.

本出願書類を通じて、「光電子部品」という用語は、発光又は受光という機能の少なくともいずれかを有し製品として取り扱われる電子部品を意味する。製品としての電子部品はしばしばパッケージと呼ばれる。光電子部品の例として、LED(発光ダイオード)、LD(レーザダイオード)等のパッケージが挙げられる。「光素子」という用語は、基板(反射体付基板を含む)に装着されるチップ状の電子部品を意味する。光素子には、LEDチップ、LDチップ等が含まれる。以下、光素子としてLEDチップを、光電子部品としてLEDパッケージをそれぞれ例に挙げて説明する。   Throughout this application document, the term “optoelectronic component” means an electronic component that has at least one of the function of light emission or light reception and is handled as a product. Electronic parts as products are often called packages. Examples of optoelectronic components include packages such as LEDs (light emitting diodes) and LDs (laser diodes). The term “optical element” means a chip-like electronic component mounted on a substrate (including a substrate with a reflector). The optical element includes an LED chip, an LD chip, and the like. Hereinafter, an LED chip as an optical element and an LED package as an optoelectronic component will be described as examples.

図1(1)は反射体付基板の第1の例を示す断面図、図1(2)〜(4)はその反射体付基板を使用して光電子部品を製造する工程を順に示す部分断面図である。本出願書類に含まれるいずれの図についても、わかりやすくするために、適宜省略し又は誇張して模式的に描かれている。   1 (1) is a cross-sectional view showing a first example of a substrate with a reflector, and FIGS. 1 (2) to 1 (4) are partial cross-sectional views sequentially showing steps of manufacturing an optoelectronic component using the substrate with a reflector. FIG. Any figure included in the application document is schematically omitted or exaggerated as appropriate for easy understanding.

図1(1)に示されるように、反射体付基板1は基板本体2を有する。基板本体2としては、リードフレームのように金属を基材とするもの、合成樹脂とガラス布との複合材を基材とするもの、セラミックスを基材とするもの等が使用される。基板本体2は、直交する仮想的な境界線3によって複数の格子状の領域4に区切られている。各領域4は、長方形(正方形を含む。以下同じ。)の平面形状を有する。反射体付基板1は、それぞれ図の手前〜奥の方向に沿って延びる5本の境界線3によって、図の左右方向に並ぶ4つの列に区切られている。また、反射体付基板1は、それぞれ図の左右方向に沿って延びる5本の境界線(図示なし)によって、図の手前〜奥の方向に並ぶ4つの列に区切られている。したがって、反射体付基板1は、16(=4×4)個の領域4を有する。   As shown in FIG. 1 (1), the substrate with reflector 1 has a substrate body 2. As the substrate body 2, a material using a metal as a base material, such as a lead frame, a material using a composite material of a synthetic resin and a glass cloth, a material using a ceramic as a base material, or the like is used. The substrate body 2 is divided into a plurality of lattice-like regions 4 by virtual boundary lines 3 that are orthogonal to each other. Each region 4 has a rectangular planar shape (including a square, the same applies hereinafter). The board | substrate 1 with a reflector is divided | segmented into the four rows lined up in the left-right direction of a figure by the five boundary lines 3 each extended along the front-back direction of a figure. Moreover, the board | substrate 1 with a reflector is divided | segmented into four row | line | columns located in a line from the front of this figure to the back by five boundary lines (not shown) which each extend along the left-right direction of a figure. Accordingly, the reflector-equipped substrate 1 has 16 (= 4 × 4) regions 4.

各境界線3において、樹脂材料からなる反射体5が形成されている。反射体5は台形の断面形状を有する。各領域4において、反射体5は、長方形から円を切り抜いた後の形の平面形状を有する。各領域4において、反射体5に囲まれた凹部6における基板本体2の表面7に、光素子(図示なし)が装着される。反射体5の内壁面である斜面8は、光素子(図示なし)が生成した光を上方に向かって反射する反射面として機能する。   In each boundary line 3, a reflector 5 made of a resin material is formed. The reflector 5 has a trapezoidal cross-sectional shape. In each region 4, the reflector 5 has a planar shape obtained by cutting a circle from a rectangle. In each region 4, an optical element (not shown) is mounted on the surface 7 of the substrate body 2 in the recess 6 surrounded by the reflector 5. The slope 8 that is the inner wall surface of the reflector 5 functions as a reflecting surface that reflects light generated by an optical element (not shown) upward.

なお、反射体付基板1を各境界線3に沿って切断して、各領域4に相当する16個の反射体付基板を製造することもできる。各領域4に相当する16個の反射体付基板は、光電子部品の大型のパッケージを製造する場合に適している。   In addition, the board | substrate 1 with a reflector can be cut | disconnected along each boundary line 3, and the 16 board | substrates with a reflector corresponding to each area | region 4 can also be manufactured. The 16 substrates with reflectors corresponding to each region 4 are suitable for manufacturing a large package of optoelectronic components.

以下、図1(2)〜(4)を参照して、光電子部品を製造する一般的な工程を順に説明する。図1(2)には、凹部6における基板本体2の表面7に装着された光素子9を有する封止前基板10が示されている。まず、ダイボンダを使用して、各領域4の凹部6における基板本体2の表面7に光素子9を装着する。次に、ワイヤボンダ又はフリップチップボンダを使用して、光素子9の電極と基板本体2の電極とを導体(図示なし)によって電気的に接続して、封止前基板10を製作する。   Hereinafter, a general process for manufacturing an optoelectronic component will be described in order with reference to FIGS. FIG. 1B shows a pre-sealing substrate 10 having an optical element 9 mounted on the surface 7 of the substrate body 2 in the recess 6. First, the optical element 9 is mounted on the surface 7 of the substrate body 2 in the recess 6 in each region 4 using a die bonder. Next, using a wire bonder or a flip chip bonder, the electrode of the optical element 9 and the electrode of the substrate body 2 are electrically connected by a conductor (not shown) to manufacture the pre-sealing substrate 10.

次に、図1(2)に示されているように、上型11と下型12とを少なくとも有する成形型を準備する。吸着、クランプ等の周知の手段によって上型11の下面に封止前基板10を固定する。下型12には、流動性樹脂によって充填される空間であるキャビティ13が設けられている。キャビティ13には、各領域4にそれぞれ対応する窪み14が設けられている。   Next, as shown in FIG. 1 (2), a mold having at least an upper mold 11 and a lower mold 12 is prepared. The pre-sealing substrate 10 is fixed to the lower surface of the upper mold 11 by known means such as suction and clamping. The lower mold 12 is provided with a cavity 13 that is a space filled with a fluid resin. The cavity 13 is provided with a recess 14 corresponding to each region 4.

次に、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂等の透光性を有する熱硬化性樹脂からなる流動性樹脂(図1(3)の流動性樹脂15参照)によって、図1(2)に示されたキャビティ13を満たされた状態にする。この工程においては、粒状、粉状、塊状、シート状等の固体の樹脂材料をキャビティ13に供給する。成形型に設けられたヒータ(図示なし)を使用して、固体の樹脂材料を加熱して溶融させる。これにより、溶融樹脂からなる流動性樹脂(図示なし)によってキャビティ13を満たされた状態にする。この工程では、ディスペンサを使用して、常温で液状である樹脂材料(液状樹脂)をキャビティ13に供給することもできる。更に、蛍光体の微小な粒が混入された樹脂材料を使用することもできる。   Next, the cavity 13 shown in FIG. 1 (2) is formed by a flowable resin (see the flowable resin 15 in FIG. 1 (3)) made of a thermosetting resin having translucency such as an epoxy resin or a silicone resin. Is in a satisfied state. In this step, a solid resin material such as granular, powder, lump, or sheet is supplied to the cavity 13. A solid resin material is heated and melted using a heater (not shown) provided in the mold. As a result, the cavity 13 is filled with a flowable resin (not shown) made of a molten resin. In this step, a resin material (liquid resin) that is liquid at room temperature can be supplied to the cavity 13 using a dispenser. Furthermore, it is possible to use a resin material in which fine particles of phosphor are mixed.

次に、図1(3)に示されているように、上型11と下型12とを相対的に移動させて上型11と下型12とを型締めする。このことによって、キャビティ13に満たされた流動性樹脂15に反射体5と光素子9とを浸漬する(漬ける)。引き続き流動性樹脂15に圧力(型締め圧)と熱とを加えることによって、流動性樹脂15を硬化させる。このことによって、図1(4)に示された硬化樹脂16が圧縮成形によって形成される。なお、トランスファ成形、射出成形を使用して硬化樹脂16を形成することもできる。図1(3)には、上型11を下降させる例が示されている。上型11と下型12との型締めはこの例に限定されない。例えば、下型12を上昇させることもできる。   Next, as shown in FIG. 1 (3), the upper mold 11 and the lower mold 12 are moved relative to each other to clamp the upper mold 11 and the lower mold 12. As a result, the reflector 5 and the optical element 9 are immersed (immersed) in the fluid resin 15 filled in the cavity 13. Subsequently, the fluid resin 15 is cured by applying pressure (clamping pressure) and heat to the fluid resin 15. As a result, the cured resin 16 shown in FIG. 1 (4) is formed by compression molding. The cured resin 16 can also be formed using transfer molding or injection molding. FIG. 1 (3) shows an example in which the upper mold 11 is lowered. The clamping of the upper mold 11 and the lower mold 12 is not limited to this example. For example, the lower mold 12 can be raised.

次に、図1(4)に示されているように、上型11と下型12とを型開きする。この状態で、上型11の下面には封止済基板17が固定されている。硬化樹脂16は、光素子9を完全に覆う平板部18と、凸レンズとして機能するレンズ部19とを有する。封止済基板17は、それぞれ基板本体2の領域4に対応するとともに光電子部品に対応する領域20と、領域20の集合体の外に位置する不要部21とを有する。   Next, as shown in FIG. 1 (4), the upper mold 11 and the lower mold 12 are opened. In this state, the sealed substrate 17 is fixed to the lower surface of the upper mold 11. The cured resin 16 includes a flat plate portion 18 that completely covers the optical element 9 and a lens portion 19 that functions as a convex lens. The sealed substrate 17 includes a region 20 corresponding to the region 4 of the substrate body 2 and corresponding to the optoelectronic component, and an unnecessary portion 21 located outside the assembly of the regions 20.

次に、図1(4)に示された状態において上型11から封止済基板17を取り外す。次に、ダイサ、レーザ加工機、ウォータージェット加工機等の周知の切断手段を使用して、各境界線3に沿って封止済基板17を切断する。このことにより、封止済基板17を、各領域20にそれぞれ相当する個々の光電子部品と不要部21とに分割する。個々の光電子部品は、図2(1)及び図2(2)に示された光電子部品22に相当する。   Next, the sealed substrate 17 is removed from the upper mold 11 in the state shown in FIG. Next, the sealed substrate 17 is cut along each boundary line 3 using a known cutting means such as a dicer, a laser processing machine, a water jet processing machine or the like. Thus, the sealed substrate 17 is divided into individual optoelectronic components and unnecessary portions 21 corresponding to the respective regions 20. The individual optoelectronic components correspond to the optoelectronic components 22 shown in FIGS. 2 (1) and 2 (2).

図2(1)、(2)は光電子部品の第1の例を示す断面図及び平面図、図2(3)、(4)は光電子部品の第2の例を示す断面図及び平面図である。図2(1)、(3)は、それぞれ図(2)、(4)のA−A断面図である。図2(1)、(2)に示された光電子部品22は、図1(4)に示された各領域20を単位として封止済基板17を切断することによって、製造される。この場合には、封止済基板17(図1(4)参照)を、図の左右方向に沿って並ぶ4つの部分と図の手前〜奥の方向に沿って並ぶ4つの部分とに分割する。したがって、図1(4)に示された封止済基板17から、16(=4×4)個の光電子部品が製造される。   FIGS. 2A and 2B are a cross-sectional view and a plan view showing a first example of the optoelectronic component, and FIGS. 2C and 2D are a cross-sectional view and a plan view showing a second example of the optoelectronic component. is there. 2 (1) and (3) are AA cross-sectional views of FIGS. (2) and (4), respectively. The optoelectronic components 22 shown in FIGS. 2 (1) and 2 (2) are manufactured by cutting the sealed substrate 17 in units of the regions 20 shown in FIG. 1 (4). In this case, the sealed substrate 17 (see FIG. 1 (4)) is divided into four portions arranged along the left-right direction of the drawing and four portions arranged along the front to the back of the drawing. . Therefore, 16 (= 4 × 4) optoelectronic components are manufactured from the sealed substrate 17 shown in FIG.

図2(3)、(4)に示された光電子部品23は、図2(4)のX方向とY方向とに沿ってそれぞれ2個ずつ並ぶ4個の領域20を単位として、図1(4)に示された封止済基板17を境界線3に沿って切断することによって製造される。この場合には、封止済基板17(図1(4)参照)を、図の左右方向に沿って並ぶ2つの部分と図の手前〜奥の方向に沿って並ぶ2つの部分とに分割する。したがって、図1(4)に示された封止済基板17から、4(=2×2)個の光電子部品が製造される。   2 (3) and 2 (4), the optoelectronic component 23 shown in FIG. 1 (4) is divided into four regions 20 arranged in two along the X and Y directions in FIG. 2 (4). It is manufactured by cutting the sealed substrate 17 shown in 4) along the boundary line 3. In this case, the sealed substrate 17 (see FIG. 1 (4)) is divided into two parts arranged along the left-right direction in the figure and two parts arranged along the front to back direction in the figure. . Therefore, 4 (= 2 × 2) optoelectronic components are manufactured from the sealed substrate 17 shown in FIG.

製品としての光電子部品22、23は、次の構成要素を有する。それらの構成要素は、基板24と、反射体25と、光素子9と、硬化樹脂26とである。硬化樹脂26は平板部27とレンズ部28とを有する。光電子部品22、23の側面は、図1(4)に示された封止済基板17を切断した際の切断面29によって構成される。   The optoelectronic components 22 and 23 as products have the following components. Those components are a substrate 24, a reflector 25, an optical element 9, and a cured resin 26. The cured resin 26 has a flat plate portion 27 and a lens portion 28. The side surfaces of the optoelectronic components 22 and 23 are constituted by a cut surface 29 when the sealed substrate 17 shown in FIG.

図1(4)において最も外側に位置する4本の境界線3に沿って、封止済基板17を切断することもできる。図1(4)においてこれらの4本の境界線3は、両端に描かれ図の手前〜奥の方向に沿って延びる2本と、図の最も手前と最も奥とにおいてそれぞれ左右方向に沿って延びる2本(図示なし)とによって構成される。これら4本の境界線3に沿って封止済基板17を切断して、封止済基板17から各不要部21を除去する。このことによって、光電子部品の第3の例として、16(=4×4)個の領域20を有する1個の光電子部品(図示なし)を製造することができる。   The sealed substrate 17 can also be cut along the four boundary lines 3 located on the outermost side in FIG. In FIG. 1 (4), these four boundary lines 3 are drawn along both the left and right sides at the two ends and extending along the front to back direction of the drawing, and the front side and the back side of the drawing. It is constituted by two extending (not shown). The sealed substrate 17 is cut along these four boundary lines 3 to remove the unnecessary portions 21 from the sealed substrate 17. Thus, as a third example of the optoelectronic component, one optoelectronic component (not shown) having 16 (= 4 × 4) regions 20 can be manufactured.

本出願書類においては、封止済基板17を境界線3に沿って切断することによって1個又は複数個の光電子部品を製造することを、個片化(singulation)と呼ぶ。また、反射体付基板1を境界線3に沿って切断することによって1個又は複数個の反射体付基板を製造することも、個片化と呼ぶ。   In the present application document, manufacturing one or a plurality of optoelectronic components by cutting the sealed substrate 17 along the boundary line 3 is called singulation. In addition, manufacturing one or a plurality of substrates with reflectors by cutting the substrate with reflectors 1 along the boundary line 3 is also referred to as individualization.

さて、従来の方法によれば、反射体付基板は、金型に設けられたキャビティに対して白色エポキシ樹脂等の樹脂を金型の注入孔から注入し、その樹脂を硬化させることによって製造される(特許文献1参照)。したがって、注入孔と注入孔に至るまでの樹脂流路(通常、ランナ、スプルー等と呼ばれる)とにおいて硬化した樹脂は、製品である電子部品には何ら寄与することなく廃棄される。従来の別の方法によれば、反射体付基板は、リードフレームの第1面をエッチングして凹凸形状を形成し、その凹凸形状に樹脂モールド加工によって樹脂を充填し、その後にリードフレームの第2面をエッチングするという工程によって製造される(特許文献2参照)。   Now, according to the conventional method, the substrate with a reflector is manufactured by injecting a resin such as a white epoxy resin into the cavity provided in the mold from the injection hole of the mold and curing the resin. (See Patent Document 1). Therefore, the cured resin in the injection hole and the resin flow path leading to the injection hole (usually called a runner, sprue, etc.) is discarded without any contribution to the electronic component that is the product. According to another conventional method, the reflector-equipped substrate forms a concavo-convex shape by etching the first surface of the lead frame, and the concavo-convex shape is filled with resin by resin molding, and then the lead frame first It is manufactured by a process of etching two surfaces (see Patent Document 2).

特開2003−188422号(第7頁、第7図)JP 2003-188422 (7th page, FIG. 7) 特開2011−77366号(第8〜9頁、第8図)JP 2011-77366 A (pages 8-9, FIG. 8)

注入孔からキャビティに注入した樹脂を硬化させる方法は次の問題を有する。第1に、廃棄される硬化樹脂が相当な量存在するので、環境に与える負荷が大きい。第2に、廃棄される硬化樹脂が相当な量存在することから、光電子部品を安価に製造することが困難である。   The method of curing the resin injected from the injection hole into the cavity has the following problems. First, since there is a considerable amount of cured resin to be discarded, the load on the environment is large. Secondly, since there is a considerable amount of cured resin to be discarded, it is difficult to manufacture optoelectronic components at low cost.

リードフレームをエッチングする方法は次の問題を有する。第1に、エッチングにおいてエッチャント(エッチング液)を使用することによって廃液が発生するので、環境に与える負荷が大きい。第2に、フォトレジストの塗布、露光、エッチングという工程を繰り返すこと、及び、樹脂モールド加工を行うことによって多くの工数を必要とするので、光電子部品を安価に製造することが困難である。   The method of etching the lead frame has the following problems. First, since waste liquid is generated by using an etchant (etching liquid) in etching, the load on the environment is large. Secondly, it is difficult to manufacture optoelectronic components at low cost because many steps are required by repeating the steps of applying, exposing, and etching a photoresist and performing resin molding.

解決しようとする第1の課題は、反射体付基板を製造する際に環境に与える負荷が大きいことである。第2の課題は、反射体付基板を安価に製造することが困難であることである。   The first problem to be solved is that a large load is placed on the environment when manufacturing a substrate with a reflector. The second problem is that it is difficult to inexpensively manufacture the substrate with a reflector.

上述の課題を解決するために、本発明に係る反射体付基板の製造方法は、上型と複数の凹部からなるキャビティが設けられた下型とを有する成形型を使用して、基板本体に設けられた複数の第1の領域の所定の面における所定の部分に反射体を形成して反射体付基板を製造する反射体付基板の製造方法であって、上型の下面に基板本体を固定する工程と、キャビティを流動性樹脂によって満たされた状態にする工程と、上型と下型とを型締めすることによって所定の部分を流動性樹脂に浸漬する工程と、流動性樹脂を硬化させて硬化樹脂を形成する工程と、上型と下型とを型開きする工程と、硬化樹脂からなる反射体が形成された基板本体からなる成形済基板を上型から取り外す工程とを備えるとともに、下型には第1の領域にそれぞれ対応する第2の領域が設けられており、第2の領域のそれぞれには凹部が設けられており、第2の領域における凹部の平面形状は1つの閉じた図形から別の閉じた図形を切り抜いた後の形であり、凹部のそれぞれは第2の領域同士の境界線において連通しており、浸漬する工程では、下型において複数のキャビティのうち最も外側のキャビティに連通する樹脂溜まりに流動性樹脂のうち余分な量を流し込み、かつ、互いに連通している凹部のそれぞれに流動性樹脂を均等に満たし、硬化樹脂を形成する工程では、樹脂溜まりにおいて硬化樹脂からなる不要樹脂を形成し、かつ、第1の領域における所定の面のそれぞれにおいて所定の部分以外の部分を露出させることを特徴とする。 In order to solve the above-described problems, a method for manufacturing a substrate with a reflector according to the present invention uses a molding die having an upper die and a lower die provided with a cavity composed of a plurality of recesses, on a substrate body. A method of manufacturing a substrate with a reflector by forming a reflector on a predetermined portion of a predetermined surface of a plurality of first regions provided to manufacture a substrate with a reflector, wherein a substrate body is disposed on a lower surface of an upper mold. A step of fixing, a step of filling the cavity with a fluid resin, a step of immersing a predetermined portion in the fluid resin by clamping the upper mold and the lower mold, and curing the fluid resin A step of forming a cured resin, a step of opening the upper mold and the lower mold, and a step of removing a molded substrate made of a substrate body on which a reflector made of the cured resin is formed from the upper mold. The lower mold corresponds to the first area. The second region is provided with a recess in each of the second regions, and the planar shape of the recess in the second region is obtained by cutting another closed figure from one closed figure. In the latter form, each of the recesses communicates with the boundary line between the second regions, and in the dipping step, the flowable resin in the resin reservoir communicating with the outermost cavity of the plurality of cavities in the lower mold In the step of pouring an excess amount of the resin and filling the fluid resin evenly into the recesses communicating with each other and forming the cured resin, an unnecessary resin made of the cured resin is formed in the resin reservoir, and A portion other than the predetermined portion is exposed on each of the predetermined surfaces in the first region.

本発明に係る反射体付基板の製造方法は、上述の製造方法において、取り外す工程の後に成形済基板から不要樹脂を除去する工程を備えることを特徴とする。   The manufacturing method of the board | substrate with a reflector which concerns on this invention is equipped with the process of removing an unnecessary resin from the molded board | substrate after the process of removing in the above-mentioned manufacturing method.

本発明に係る反射体付基板の製造方法は、上型とキャビティが設けられた下型とを有する成形型を使用して、基板本体に設けられた複数の第1の領域の所定の面における所定の部分に反射体を形成して反射体付基板を製造する反射体付基板の製造方法であって、上型の下面に基板本体を固定する工程と、キャビティを流動性樹脂によって満たされた状態にする工程と、上型と下型とを型締めすることによって所定の面を流動性樹脂に浸漬する工程と、流動性樹脂を硬化させて硬化樹脂を形成する工程と、上型と下型とを型開きする工程と、硬化樹脂からなる反射体が形成された基板本体からなる成形済基板を上型から取り外す工程とを備えるとともに、下型には第1の領域にそれぞれ対応する第2の領域が設けられており、キャビティは、複数の凹部と複数の第2の領域のすべてを平面視して含みかつ複数の凹部同士を連通する連通部とを有し、第2の領域のそれぞれには凹部が設けられており、第2の領域における凹部の平面形状は1つの閉じた図形から別の閉じた図形を切り抜いた後の形であり、硬化樹脂を形成する工程では、複数の凹部において硬化樹脂からなる反射体を形成するとともに連通部において硬化樹脂からなる薄肉部を形成し、取り外す工程の後に成形済基板から薄肉部を除去することによって第1の領域のそれぞれにおいて所定の部分以外の部分を露出させる工程を備えることを特徴とする。   A method of manufacturing a reflector-equipped substrate according to the present invention uses a molding die having an upper die and a lower die provided with a cavity, on a predetermined surface of a plurality of first regions provided on the substrate body. A method for manufacturing a substrate with a reflector for forming a substrate with a reflector by forming a reflector in a predetermined portion, the step of fixing the substrate body to the lower surface of the upper mold, and the cavity filled with a fluid resin A step of clamping the upper mold and the lower mold, immersing a predetermined surface in the fluid resin, curing the fluid resin to form a cured resin, the upper mold and the lower mold A step of opening the mold and a step of removing the molded substrate made of the substrate body on which the reflector made of the cured resin is formed from the upper die, and the lower die corresponding to the first region respectively. Two areas are provided, and the cavity has multiple Each of the plurality of second regions includes a communication portion that includes all of the plurality of second regions in plan view and communicates with each other, and each of the second regions is provided with a recess. The planar shape of the concave portion in the region is a shape after cutting out another closed graphic from one closed graphic, and in the step of forming the cured resin, a reflector made of the cured resin is formed and communicated in the plurality of concave portions. Forming a thin-walled portion made of a cured resin in the portion and removing the thin-walled portion from the molded substrate after the removing step to expose a portion other than the predetermined portion in each of the first regions. To do.

本発明に係る反射体付基板の製造方法は、上述の製造方法において、上型と下型との間に離型フィルムを配置する工程と、平面視して下型の外側において離型フィルムを挟む工程と、離型フィルムを挟んだ状態で下型の上面に離型フィルムを密着させる工程と、下型に設けられた吸引路を使用して離型フィルムを吸引することによって離型フィルムをキャビティにおける型面に密着させる工程とを備え、満たされた状態にする工程では、離型フィルムがキャビティにおける型面に密着した状態でキャビティを流動性樹脂によって満たされた状態にすることを特徴とする。   The method for manufacturing a substrate with a reflector according to the present invention includes a step of disposing a release film between the upper mold and the lower mold in the manufacturing method described above, and a mold release film on the outside of the lower mold in plan view. The step of sandwiching, the step of adhering the release film to the upper surface of the lower mold with the release film sandwiched, and the release film by sucking the release film using the suction path provided in the lower mold A step of bringing the mold into contact with the mold surface in the cavity, and in the step of filling the mold, the release film is in close contact with the mold surface of the cavity, and the cavity is filled with the flowable resin. To do.

本発明に係る反射体付基板の製造方法は、上述の製造方法において、少なくともキャビティを含む空間を成形型の外部から遮断することによって閉空間を形成する工程と、満たされた状態にする工程から浸漬する工程までの過程の少なくとも一部分において閉空間を減圧する工程とを備えることを特徴とする。   The manufacturing method of the substrate with a reflector according to the present invention includes a step of forming a closed space by blocking a space including at least a cavity from the outside of the molding die and a step of satisfying the above-described manufacturing method. And a step of depressurizing the closed space in at least a part of the process up to the step of immersing.

本発明に係る反射体付基板の製造装置は、上型と複数の凹部からなるキャビティが設けられた下型とを含む成形型を有し、基板本体に設けられた複数の第1の領域の所定の面における所定の部分に反射体を形成して反射体付基板を製造する反射体付基板の製造装置であって、上型の下面に基板本体を固定する固定手段と、上型と下型とを相対的に移動させることによって上型と下型とを型締め及び型開きする駆動手段と、下型において第1の領域のそれぞれに対応して設けられた第2の領域と、下型において複数のキャビティのうち最も外側のキャビティに連通する樹脂溜まりとを備えるとともに、凹部のそれぞれは第2の領域のそれぞれにおいて設けられ、第2の領域における凹部の平面形状は1つの閉じた図形から別の閉じた図形を切り抜いた後の形であり、凹部のそれぞれは第2の領域同士の境界線において連通し、上型と下型とが型締めされることによって、上型と下型とが型開きされた状態において互いに連通している凹部のそれぞれに均等に満たされた流動性樹脂に所定の部分が浸漬され、かつ、流動性樹脂のうち余分な量が樹脂溜まりに流れ込み、上型と下型とが型締めした状態において流動性樹脂が硬化することによって形成された硬化樹脂のうち凹部のそれぞれにおいて硬化した硬化樹脂が反射体のそれぞれを構成し、第1の領域のそれぞれにおいて所定の部分以外の部分が露出することを特徴とする。 An apparatus for manufacturing a substrate with a reflector according to the present invention includes a molding die including an upper die and a lower die provided with a cavity including a plurality of recesses, and includes a plurality of first regions provided in the substrate body. A manufacturing apparatus for a substrate with a reflector for forming a substrate with a reflector by forming a reflector on a predetermined portion of a predetermined surface, a fixing means for fixing the substrate body to the lower surface of the upper mold, an upper mold and a lower mold Driving means for clamping and opening the upper mold and the lower mold by relatively moving the mold, a second area provided corresponding to each of the first areas in the lower mold, and a lower area The mold includes a resin reservoir communicating with the outermost cavity among the plurality of cavities, and each of the recesses is provided in each of the second regions, and the planar shape of the recesses in the second region is one closed figure Cut another closed shape from Each of the recesses communicates at the boundary line between the second regions, and the upper mold and the lower mold are clamped so that the upper mold and the lower mold are opened. A predetermined portion is immersed in a fluid resin that is evenly filled in each of the recesses communicating with each other, and an excess amount of the fluid resin flows into the resin reservoir, and the upper mold and the lower mold are clamped. Of the cured resin formed by curing the fluid resin in this state, the cured resin cured in each of the recesses constitutes each of the reflectors, and a portion other than the predetermined portion is exposed in each of the first regions. It is characterized by doing.

本発明に係る反射体付基板の製造装置は、上述の製造装置において、樹脂溜まりにおいて硬化した硬化樹脂からなる不要樹脂を除去する除去手段を備えることを特徴とする。   The manufacturing apparatus for a substrate with a reflector according to the present invention is characterized in that in the above-described manufacturing apparatus, there is provided a removing means for removing an unnecessary resin made of a cured resin cured in a resin reservoir.

本発明に係る反射体付基板の製造装置は、上型とキャビティが設けられた下型とを含む成形型を有し、基板本体に設けられた複数の第1の領域の所定の面における所定の部分に反射体を形成して反射体付基板を製造する反射体付基板の製造装置であって、上型の下面に基板本体を固定する固定手段と、上型と下型とを相対的に移動させることによって上型と下型とを型締め及び型開きする駆動手段と、下型において第1の領域のそれぞれに対応して設けられた第2の領域と、第2の領域のそれぞれに設けられた凹部と、複数の第2の領域のすべてを平面視して含みかつ複数の凹部同士を連通する連通部とを備えるとともに、キャビティは凹部と連通部とを含み、凹部のそれぞれの平面形状は1つの閉じた図形から別の閉じた図形を切り抜いた後の形であり、上型と下型とが型締めされることによって、上型と下型とが型開きされた状態においてキャビティに満たされた流動性樹脂に所定の面が浸漬され、上型と下型とが型締めされた状態において流動性樹脂が硬化することによって形成された硬化樹脂のうち複数の凹部において硬化した硬化樹脂が反射体を構成し、かつ、複数の凹部同士の間における連通部において硬化した硬化樹脂が薄肉部を構成し、薄肉部を除去する除去手段を備え、薄肉部が除去された後に第1の領域のそれぞれにおいて所定の部分以外の部分が露出することを特徴とする。   An apparatus for manufacturing a substrate with a reflector according to the present invention includes a molding die including an upper die and a lower die provided with a cavity, and a predetermined surface in a predetermined surface of a plurality of first regions provided in the substrate body. Is a manufacturing apparatus for a substrate with a reflector for forming a substrate with a reflector by forming a reflector on the portion of the substrate, wherein the fixing means for fixing the substrate body to the lower surface of the upper mold, and the upper mold and the lower mold are relatively Driving means for clamping and opening the upper mold and the lower mold by moving to each other, a second area provided corresponding to each of the first areas in the lower mold, and each of the second areas And a communication portion that includes all of the plurality of second regions in plan view and communicates with the plurality of recesses, and the cavity includes the recess and the communication portion, and each of the recesses includes A planar shape is a cut out of one closed figure from another closed figure. When the upper mold and the lower mold are clamped, a predetermined surface is immersed in the fluid resin filled in the cavity in the state where the upper mold and the lower mold are opened, and the upper mold The cured resin cured in the plurality of recesses among the cured resin formed by curing the fluid resin in a state where the mold and the lower mold are clamped constitute the reflector, and between the plurality of recesses The cured resin cured at the communicating portion constitutes a thin portion, and includes a removing means for removing the thin portion, and after the thin portion is removed, a portion other than the predetermined portion is exposed in each of the first regions. And

本発明に係る反射体付基板の製造装置は、上述の製造装置において、上型と下型との間に離型フィルムを配置する配置手段と、離型フィルムを挟む挟持手段と、挟まれた離型フィルムを下型の上面に密着させる密着手段と、下型の上面に密着した離型フィルムを吸引することによって離型フィルムをキャビティにおける型面に密着させる吸引手段とを備えるとともに、離型フィルムをキャビティにおける型面に密着させた状態でキャビティに流動性樹脂が満たされることを特徴とする。   The reflector-equipped substrate manufacturing apparatus according to the present invention is sandwiched in the above-described manufacturing apparatus by an arrangement unit that arranges the release film between the upper mold and the lower mold, and a clamping unit that sandwiches the release film. In addition to the adhesion means for bringing the release film into close contact with the upper surface of the lower mold and the suction means for bringing the release film into close contact with the mold surface in the cavity by sucking the release film adhered to the upper surface of the lower mold, the mold release The cavity is filled with a fluid resin in a state where the film is in close contact with the mold surface in the cavity.

本発明に係る反射体付基板の製造装置は、上述の製造装置において、少なくともキャビティを含む空間を成形型の外部から遮断された閉空間にする遮断手段と、閉空間を減圧する減圧手段とを備えることを特徴とする。   The reflector-equipped substrate manufacturing apparatus according to the present invention is the above-described manufacturing apparatus, comprising: a blocking unit that makes a space including at least the cavity closed from the outside of the mold; and a decompressing unit that depressurizes the closed space. It is characterized by providing.

本発明によれば、キャビティを流動性樹脂によって満たされた状態にして、基板本体に設けられた複数の第1の領域の所定の面をキャビティにおける流動性樹脂に浸漬し、所定の面における所定の部分に硬化樹脂からなる反射体を形成する。これにより、第1に、キャビティに至るまで流動性樹脂が流動する樹脂流路を必要としないので、廃棄する硬化樹脂の量を低減することができる。第2に、フォトレジストの塗布、露光、エッチングという工程を繰り返すことなく、かつ、エッチング液を使用することなく、樹脂成形によって反射体を形成する。したがって、環境に与える負荷を低減するとともに、反射体付基板を安価に製造することができる。   According to the present invention, the cavity is filled with the fluid resin, the predetermined surfaces of the plurality of first regions provided in the substrate body are immersed in the fluid resin in the cavity, and the predetermined surfaces on the predetermined surface are immersed. A reflector made of a cured resin is formed on the part. Thereby, first, since the resin flow path through which the flowable resin flows until reaching the cavity is not required, the amount of the cured resin to be discarded can be reduced. Second, the reflector is formed by resin molding without repeating the steps of applying, exposing, and etching the photoresist, and without using an etchant. Therefore, the load given to the environment can be reduced, and the reflector-equipped substrate can be manufactured at a low cost.

また、本発明によれば、下型において複数のキャビティのうち最も外側のキャビティに連通する樹脂溜まりに流動性樹脂のうち余分な量を流し込み、かつ、互いに連通している凹部のそれぞれに流動性樹脂を均等に満たした状態で、流動性樹脂を硬化させる。これにより、基板本体に設けられた複数の第1の領域における所定の面のそれぞれにおいて、所定の部分以外の部分を露出させる。したがって、反射体以外の部分が確実に露出した反射体付基板を製造することができる。
Further, according to the present invention, in the lower mold, an excess amount of the fluid resin is poured into the resin reservoir communicating with the outermost cavity among the plurality of cavities , and the fluidity is introduced into each of the recesses communicating with each other. The fluid resin is cured with the resin evenly filled. Thereby, portions other than the predetermined portion are exposed in each of the predetermined surfaces in the plurality of first regions provided in the substrate body. Therefore, it is possible to manufacture a reflector-equipped substrate in which portions other than the reflector are reliably exposed.

また、本発明によれば、キャビティが有する複数の凹部において硬化樹脂からなる反射体を形成するとともに、キャビティが有する連通部において硬化樹脂からなる薄肉部を形成する。成形済基板から薄肉部を除去することによって、基板本体に設けられた複数の第1の領域のそれぞれにおいて所定の部分以外の部分を露出させる。したがって、反射体以外の部分が確実に露出した反射体付基板を製造することができる。   Moreover, according to this invention, while forming the reflector which consists of cured resin in the some recessed part which a cavity has, the thin part which consists of cured resin is formed in the communicating part which a cavity has. By removing the thin portion from the molded substrate, portions other than the predetermined portion are exposed in each of the plurality of first regions provided in the substrate body. Therefore, it is possible to manufacture a reflector-equipped substrate in which portions other than the reflector are reliably exposed.

図1(1)は反射体付基板の第1の例を示す断面図、図1(2)〜(4)はその反射体付基板を使用して光電子部品を製造する工程を示す部分断面図である。FIG. 1A is a cross-sectional view showing a first example of a substrate with a reflector, and FIGS. 1B to 1D are partial cross-sectional views showing processes for manufacturing an optoelectronic component using the substrate with a reflector. It is. 図2(1)、(2)は光電子部品の第1の例を示す断面図及び平面図であり、図2(3)、(4)は光電子部品の第2の例を示す断面図及び平面図である。2 (1) and 2 (2) are a sectional view and a plan view showing a first example of the optoelectronic component, and FIGS. 2 (3) and 2 (4) are a sectional view and a plan view showing a second example of the optoelectronic component. FIG. 図3(1)〜(3)は基板本体に硬化樹脂からなる反射体を形成して成形済基板を製作するまでの工程を示す部分断面図、図3(4)は成形済基板を個片化して製造された反射体付基板の第2の例を示す断面図である。FIGS. 3 (1) to 3 (3) are partial cross-sectional views showing a process from the formation of a reflector made of a cured resin on the substrate body to manufacture a molded substrate, and FIG. 3 (4) is an individual view of the molded substrate. It is sectional drawing which shows the 2nd example of the board | substrate with a reflector manufactured by manufacturing. 図4(1)〜(3)は基板本体に硬化樹脂を形成して薄肉部付の成形済基板を製作するまでの工程を示す部分断面図、図3(4)は薄肉部付の成形済基板を示す断面図である。4 (1) to 4 (3) are partial cross-sectional views showing the process from forming a cured resin on the substrate body to producing a molded substrate with a thin portion, and FIG. 3 (4) is a molded portion with a thin portion. It is sectional drawing which shows a board | substrate. 図5(1)、(2)は、成形型を型開きした状態から、挟んだ離型フィルムを下型の上面に密着させる状態までを示す部分断面図である。FIGS. 5A and 5B are partial cross-sectional views showing a state from a state where the mold is opened to a state where the sandwiched release film is in close contact with the upper surface of the lower mold. 図6(1)、(2)は、離型フィルムを吸引して離型フィルムによって下型の型面を覆った後にキャビティに流動性樹脂を供給した状態と、成形型を型締めした状態とをそれぞれ示す部分断面図である。6 (1) and 6 (2) show a state in which a flowable resin is supplied to the cavity after the mold release film is sucked and the mold surface of the lower mold is covered with the mold release film, and the mold is clamped FIG.

圧縮成形を使用して、基板本体の表面に硬化樹脂からなる反射体を形成する。第1の実施例としては、型締めすることによって、キャビティに供給した流動性樹脂のうち余分な量を、下型に形成された樹脂溜まりに流し込む。第2の実施例としては、それぞれ硬化樹脂からなる反射体と反射体同士を連通する薄肉部とを成形して成形済基板を製作し、成形済基板から薄肉部を除去する。第3の実施例としては、離型フィルムと真空成形(減圧成形)とを併用して、基板本体の表面に硬化樹脂からなる反射体を形成する。   A reflector made of a cured resin is formed on the surface of the substrate body using compression molding. In the first embodiment, by clamping the mold, an excess amount of the fluid resin supplied to the cavity is poured into a resin reservoir formed in the lower mold. As a second embodiment, a reflector made of a cured resin and a thin portion that connects the reflectors are formed to produce a molded substrate, and the thin portion is removed from the molded substrate. As a third embodiment, a release film and vacuum molding (reduced pressure molding) are used in combination to form a reflector made of a cured resin on the surface of the substrate body.

(実施例1)
図3を参照して、反射体付基板を製造する製造装置を説明する。図3(1)に示されているように、製造装置には、上型30と下型31とを少なくとも有する成形型が設けられている。下型31の上面側には、基板本体2の各領域4にそれぞれ対応する領域32において、凹部からなるキャビティ33が設けられている。各領域32において、各キャビティ33の凹部は、台形の断面形状を有する。各領域32において、各キャビティ33の凹部は、長方形の内側から円を切り抜いた後の形の平面形状を有する。隣接するキャビティ33の凹部同士は、基板本体2の境界線3に対応する部分において直接連通している(直接つながっている)。下型31の上面側において、各領域32の集合体の外に、最も外側のキャビティ33に連通する凹部からなる樹脂溜まり34が形成されている。
Example 1
With reference to FIG. 3, the manufacturing apparatus which manufactures a board | substrate with a reflector is demonstrated. As shown in FIG. 3 (1), the manufacturing apparatus is provided with a forming die having at least an upper die 30 and a lower die 31. On the upper surface side of the lower mold 31, cavities 33 formed of recesses are provided in regions 32 respectively corresponding to the regions 4 of the substrate body 2. In each region 32, the recess of each cavity 33 has a trapezoidal cross-sectional shape. In each region 32, the concave portion of each cavity 33 has a planar shape after a circle is cut out from the inside of the rectangle. The concave portions of the adjacent cavities 33 are in direct communication (directly connected) at a portion corresponding to the boundary line 3 of the substrate body 2. On the upper surface side of the lower mold 31, a resin reservoir 34 including a recess communicating with the outermost cavity 33 is formed outside the aggregate of the regions 32.

各キャビティ33の凹部の平面形状は、長方形の内側から閉じた図形を切り抜いた後の形であればよい。閉じた図形としては、楕円、多角形、複数の曲線によって構成された図形等が挙げられる。   The planar shape of the concave portion of each cavity 33 may be a shape after a closed figure is cut out from the inside of the rectangle. Examples of the closed graphic include an ellipse, a polygon, and a graphic constituted by a plurality of curves.

図3を参照して、反射体付基板を製造する製造工程を説明する。まず、図3(1)に示されているように、上型30と下型31とを少なくとも有する成形型と、複数の領域4を有する基板本体2とを準備する。吸着、クランプ等の周知の手段によって、上型30の下面に基板本体2を固定する。基板本体2が貫通孔を有する場合(例えば、基板本体2がリードフレームである場合)には、基板本体2における非封止面(図では上面)に、樹脂ばりを防止するための粘着テープを貼ってもよい。   With reference to FIG. 3, the manufacturing process which manufactures a board | substrate with a reflector is demonstrated. First, as shown in FIG. 3 (1), a mold having at least an upper mold 30 and a lower mold 31 and a substrate body 2 having a plurality of regions 4 are prepared. The substrate body 2 is fixed to the lower surface of the upper mold 30 by known means such as suction and clamping. When the substrate body 2 has a through-hole (for example, when the substrate body 2 is a lead frame), an adhesive tape for preventing resin flash is applied to the non-sealing surface (upper surface in the figure) of the substrate body 2. It may be pasted.

次に、熱硬化性樹脂からなる流動性樹脂(図3(2)の流動性樹脂35参照)によって各キャビティ33を満たされた状態にする。この工程においては、粒状、粉状、塊状、シート状等の固体の樹脂材料をキャビティ33に供給する。成形型に設けられたヒータ(図示なし)を使用して、固体の樹脂材料を加熱して溶融させる。これにより、溶融樹脂からなる流動性樹脂(図示なし)によってキャビティ33を満たされた状態にする。この工程では、ディスペンサを使用して、常温で液状である樹脂材料(液状樹脂)をキャビティ33に供給することもできる。更に、反射体の反射性能を向上させるために、酸化チタン等の微小な粒が混入された樹脂材料を使用することもできる。   Next, each cavity 33 is filled with a flowable resin made of a thermosetting resin (see the flowable resin 35 in FIG. 3B). In this step, a solid resin material such as granular, powder, lump, or sheet is supplied to the cavity 33. A solid resin material is heated and melted using a heater (not shown) provided in the mold. Thus, the cavity 33 is filled with a flowable resin (not shown) made of a molten resin. In this step, a resin material (liquid resin) that is liquid at room temperature can be supplied to the cavity 33 using a dispenser. Furthermore, in order to improve the reflective performance of the reflector, a resin material mixed with fine particles such as titanium oxide can be used.

次に、図3(2)に示されているように、上型30と下型31とを相対的に移動させて上型30と下型31とを型締めする。このことによって、キャビティ33(図3(1)参照)に満たされた流動性樹脂35に、基板本体2の表面(図では下面)における所定の部分を浸漬する(漬ける)。また、上型30と下型31とを型締めすることによって、キャビティ33に供給した流動性樹脂35のうち余分な量を、下型31に形成された樹脂溜まり34に流し込む。引き続き流動性樹脂35に圧力(型締め圧)と熱とを加えることによって、流動性樹脂35を硬化させる。このことによって、図3(3)に示されているように、基板本体2の表面(図では下面)に硬化樹脂36を形成して成形済基板37を製作する。   Next, as shown in FIG. 3 (2), the upper mold 30 and the lower mold 31 are relatively moved so that the upper mold 30 and the lower mold 31 are clamped. As a result, a predetermined portion of the surface (lower surface in the figure) of the substrate body 2 is immersed (immersed) in the fluid resin 35 filled in the cavity 33 (see FIG. 3A). Further, by clamping the upper mold 30 and the lower mold 31, an excess amount of the fluid resin 35 supplied to the cavity 33 is poured into the resin reservoir 34 formed in the lower mold 31. Subsequently, the fluid resin 35 is cured by applying pressure (clamping pressure) and heat to the fluid resin 35. As a result, as shown in FIG. 3 (3), a cured resin 36 is formed on the surface (lower surface in the figure) of the substrate body 2 to produce a molded substrate 37.

次に、図3(3)に示されているように、上型30と下型31(図3(2)参照)とを型開きする。この状態で、上型30の下面には成形済基板37が固定されている。基板本体2の表面(図では下面)には、いずれも硬化樹脂36からなる反射体38と不要樹脂39とが形成されている。成形済基板37における各領域40は、境界線41によって区切られており、基板本体2における各領域4(図3(1)参照)にそれぞれ対応する。   Next, as shown in FIG. 3 (3), the upper mold 30 and the lower mold 31 (see FIG. 3 (2)) are opened. In this state, a molded substrate 37 is fixed to the lower surface of the upper mold 30. A reflector 38 and an unnecessary resin 39 made of a cured resin 36 are formed on the surface (lower surface in the drawing) of the substrate body 2. Each region 40 in the molded substrate 37 is delimited by a boundary line 41, and corresponds to each region 4 in the substrate body 2 (see FIG. 3A).

次に、図3(3)に示された状態において上型30から成形済基板37を取り外す。その後に、研磨、剥離等の適当な手段を使用して成形済基板37から不要樹脂39を除去する。このことによって、図1(1)に示された反射体付基板1が完成する。不要樹脂39を除去する手段を製造装置に内蔵することもできる。   Next, the molded substrate 37 is removed from the upper mold 30 in the state shown in FIG. Thereafter, the unnecessary resin 39 is removed from the molded substrate 37 by using appropriate means such as polishing and peeling. As a result, the reflector-equipped substrate 1 shown in FIG. 1A is completed. A means for removing the unnecessary resin 39 may be built in the manufacturing apparatus.

以下、本実施例の変形例を、図3(3)、(4)を参照して説明する。図3(4)における符号の一部は、図1(1)及び図2(1)における符号に対応する。第1の変形例として、取り外された成形済基板37を、すべての境界線41に沿って切断する。このことにより、図3(4)に示すように、1個の領域40に相当する反射体付基板42を合計16(=4×4)個製造することができる。この場合には、図3(3)の封止済基板37において、図3(4)の反射体付基板42に対応する領域40が、図の左右方向と手前〜奥の方向とに沿ってそれぞれ4つずつ並ぶ。1個の領域40に相当する1個の反射体付基板42は、光電子部品の大型のパッケージを製造する場合に適する。   Hereinafter, modifications of the present embodiment will be described with reference to FIGS. 3 (3) and (4). Part of the reference numerals in FIG. 3 (4) corresponds to the reference numerals in FIG. 1 (1) and FIG. 2 (1). As a first modification, the removed molded substrate 37 is cut along all the boundary lines 41. As a result, as shown in FIG. 3 (4), a total of 16 (= 4 × 4) reflector-equipped substrates 42 corresponding to one region 40 can be manufactured. In this case, in the sealed substrate 37 of FIG. 3 (3), the region 40 corresponding to the reflector-equipped substrate 42 of FIG. 3 (4) is along the horizontal direction and the front to back direction of the drawing. Line up 4 each. One reflector-equipped substrate 42 corresponding to one region 40 is suitable for manufacturing a large package of optoelectronic components.

第2の変形例として、取り外された成形済基板37の1辺とこれに隣接する辺とにおいて、それぞれ両端と真ん中との3本の境界線41に沿って、成形済基板37を2列に切断する。このことによって、4(=2×2)個の領域40に相当する反射体付基板を合計4(=2×2)個製造することができる。   As a second modified example, the molded substrates 37 are arranged in two rows along three boundary lines 41 at both ends and the middle on one side of the removed molded substrate 37 and the side adjacent thereto. Disconnect. As a result, a total of 4 (= 2 × 2) substrates with reflectors corresponding to 4 (= 2 × 2) regions 40 can be manufactured.

第3の変形例として、取り外された成形済基板37を、最も外側に位置する4本の境界線41に沿って切断する。これら4本の境界線41に沿って成形済基板37を切断して、成形済基板37から不要部43(図3(3)参照)を除去する。このことによって、16(=4×4)個の領域40に相当する1個の反射体付基板(図示なし)を製造することができる。   As a third modification, the removed molded substrate 37 is cut along the four boundary lines 41 located on the outermost side. The molded substrate 37 is cut along these four boundary lines 41 to remove the unnecessary portion 43 (see FIG. 3 (3)) from the molded substrate 37. Thus, one reflector-equipped substrate (not shown) corresponding to 16 (= 4 × 4) regions 40 can be manufactured.

本実施例によれば、圧縮成形によって、基板本体2の表面(図では下面)に硬化樹脂36からなる反射体38を形成する。このことによって、硬化樹脂36のうち廃棄される量を、不要樹脂39に相当するごく少量に減らすことができる。したがって、第1に、環境に与える負荷を抑制することができる。第2に、供給した樹脂材料の大部分が反射体38として使用されるので、反射体付基板1(図1(1)参照)を安価に製造することができる。   According to the present embodiment, the reflector 38 made of the cured resin 36 is formed on the surface (lower surface in the drawing) of the substrate body 2 by compression molding. As a result, the amount of the cured resin 36 that is discarded can be reduced to a very small amount corresponding to the unnecessary resin 39. Therefore, first, the load on the environment can be suppressed. Second, since most of the supplied resin material is used as the reflector 38, the reflector-equipped substrate 1 (see FIG. 1 (1)) can be manufactured at low cost.

加えて、キャビティ33に供給した流動性樹脂35のうち余分な量を、下型31に形成された樹脂溜まり34に流し込む。このことにより、反射体38に囲まれた凹部44における基板本体2の表面45において、硬化樹脂36からなるばりの発生を抑制するので、表面45を確実に露出させることができる。表面45にばりが発生した場合には、そのばりを除去する必要がある。したがって、ばりの発生を抑制することによって、硬化樹脂36のうち廃棄される部分をいっそう減らすことができる。   In addition, an excess amount of the fluid resin 35 supplied to the cavity 33 is poured into the resin reservoir 34 formed in the lower mold 31. Thereby, since the generation of the flash made of the cured resin 36 is suppressed on the surface 45 of the substrate body 2 in the concave portion 44 surrounded by the reflector 38, the surface 45 can be reliably exposed. When flash is generated on the surface 45, it is necessary to remove the flash. Therefore, by suppressing the occurrence of flash, the discarded portion of the cured resin 36 can be further reduced.

なお、成形済基板37から不要樹脂39を除去する実施例を説明した。また、第3の変形例として、図3(3)に示された成形済基板37から、不要樹脂39が形成された不要部43を除去する例を説明した。これに限らず、不要樹脂39の寸法・形状が許容できるものであれば、図3(3)に示された成形済基板37を1個の反射体付基板として使用することもできる。   The embodiment in which the unnecessary resin 39 is removed from the molded substrate 37 has been described. In addition, as the third modification, the example in which the unnecessary portion 43 on which the unnecessary resin 39 is formed is removed from the molded substrate 37 illustrated in FIG. Not limited to this, as long as the size and shape of the unnecessary resin 39 can be tolerated, the molded substrate 37 shown in FIG. 3 (3) can be used as a single substrate with a reflector.

(実施例2)
図4を参照して、反射体付基板を製造する製造装置を説明する。図4(1)に示されているように、製造装置には、上型46と下型47とを少なくとも有する成形型が設けられている。下型47の上面の側には、基板本体2の各領域4にそれぞれ対応する凹部48が形成されている。隣接する凹部48同士は、基板本体2の境界線3に対応する部分において直接連通している(直接つながっている)。凹部48は、図3(1)に示されたキャビティ33と同様の形状を有する。加えて、下型47の上面の側には、上型46と下型47とが型締めした状態において流動性樹脂がごく薄く存在することができる空間49が、各凹部48を連通するようにして形成されている。空間49は、平面視して、下型47において基板本体2の各領域4にそれぞれ対応する部分のすべてを含む。キャビティ50は各凹部48と空間49とを含む。
(Example 2)
With reference to FIG. 4, the manufacturing apparatus which manufactures a board | substrate with a reflector is demonstrated. As shown in FIG. 4 (1), the manufacturing apparatus is provided with a forming die having at least an upper die 46 and a lower die 47. On the upper surface side of the lower mold 47, concave portions 48 corresponding to the respective regions 4 of the substrate body 2 are formed. Adjacent concave portions 48 are in direct communication (directly connected) at a portion corresponding to the boundary line 3 of the substrate body 2. The recess 48 has the same shape as the cavity 33 shown in FIG. In addition, on the upper surface side of the lower mold 47, a space 49 in which the fluid resin can be extremely thin in a state where the upper mold 46 and the lower mold 47 are clamped communicates the recesses 48. Is formed. The space 49 includes all portions corresponding to the respective regions 4 of the substrate body 2 in the lower mold 47 in plan view. The cavity 50 includes each recess 48 and a space 49.

図4を参照して、反射体付基板を製造する製造工程を説明する。以下の説明では、実施例1と共通する部分については適宜説明を省略する。まず、図4(1)に示すように、上型46の下面に基板本体2を固定する。   With reference to FIG. 4, the manufacturing process which manufactures a board | substrate with a reflector is demonstrated. In the following description, description of parts common to the first embodiment will be omitted as appropriate. First, as shown in FIG. 4A, the substrate body 2 is fixed to the lower surface of the upper mold 46.

次に、熱硬化性樹脂からなる流動性樹脂(図4(2)の流動性樹脂51参照)によってキャビティ50を満たされた状態にする。この工程においては、粒状、粉状、塊状、シート状等の固体の樹脂材料、又は、液状樹脂をキャビティ50に供給する。本実施例では、下型47の各凹部48と各凹部48以外の型面とに対して樹脂材料を供給する。したがって、各凹部48以外の型面の上にも樹脂材料を薄く供給する。   Next, the cavity 50 is filled with a fluid resin made of a thermosetting resin (see the fluid resin 51 in FIG. 4B). In this step, a solid resin material such as granular, powder, lump, or sheet, or a liquid resin is supplied to the cavity 50. In this embodiment, a resin material is supplied to each recess 48 of the lower mold 47 and a mold surface other than each recess 48. Therefore, the resin material is also thinly supplied on the mold surface other than the recesses 48.

次に、図4(2)に示すように、上型46と下型47とを型締めする。その後に、流動性樹脂51に圧力(型締め圧)と熱とを加えることによって、流動性樹脂51を硬化させる。連通路として機能する空間49によって、各凹部48と空間49とを含むキャビティ50に流動性樹脂51を均等に満たすことができる。   Next, as shown in FIG. 4B, the upper mold 46 and the lower mold 47 are clamped. Thereafter, the fluid resin 51 is cured by applying pressure (clamping pressure) and heat to the fluid resin 51. By the space 49 functioning as a communication path, the fluid resin 51 can be evenly filled in the cavity 50 including the concave portions 48 and the spaces 49.

次に、図4(3)に示すように、上型46と下型47(図4(2)参照)とを型開きする。この状態で、上型46の下面には成形済基板52が固定されている。基板本体2の表面(図では下面)には、いずれも硬化樹脂53からなる、反射体54と薄肉部55とが形成されている。薄肉部55は、基板本体2が有する領域4のすべてを平面視して含み、かつ、複数の反射体54同士を連通する。本実施例では、薄肉部55が確実に形成される範囲内において薄肉部55ができるだけ薄くなるようにして、下型47における空間49の深さを決定する。言い換えれば、薄肉部55が確実に形成されかつできるだけ薄くなるようにして、下型47における空間49はできるだけ浅く形成される。   Next, as shown in FIG. 4 (3), the upper mold 46 and the lower mold 47 (see FIG. 4 (2)) are opened. In this state, the molded substrate 52 is fixed to the lower surface of the upper mold 46. On the surface (lower surface in the figure) of the substrate body 2, a reflector 54 and a thin portion 55 are formed, both of which are made of a cured resin 53. The thin portion 55 includes all of the region 4 of the substrate body 2 in plan view, and communicates the plurality of reflectors 54 with each other. In the present embodiment, the depth of the space 49 in the lower mold 47 is determined so that the thin portion 55 is as thin as possible within the range in which the thin portion 55 is reliably formed. In other words, the space 49 in the lower mold 47 is formed as shallow as possible so that the thin-walled portion 55 is reliably formed and becomes as thin as possible.

次に、図4(3)に示された状態において上型46から成形済基板52を取り外す。図4(4)に、取り外された成形済基板52、すなわち薄肉部55付の成形済基板52を示す。   Next, the molded substrate 52 is removed from the upper mold 46 in the state shown in FIG. FIG. 4 (4) shows the molded substrate 52 removed, that is, the molded substrate 52 with the thin portion 55.

次に、図4(4)に示された成形済基板52から薄肉部55を除去する。薄肉部55を除去するには、高圧水による加工、レーザによる加工、電解法、乾式ブラスト加工、湿式ブラスト加工等の周知の加工を使用することができる。これらの加工によって、薄肉部55が除去されるまで、平面視して硬化樹脂53の全面において同じ除去率でもって硬化樹脂53を除去する。薄肉部55を除去することによって、図1(1)に示された反射体付基板1が完成する。なお、マスキング治具を使用して反射体54を覆った状態で、薄肉部55のみを除去することもできる。薄肉部55を除去する手段を製造装置に内蔵することもできる。   Next, the thin portion 55 is removed from the molded substrate 52 shown in FIG. In order to remove the thin portion 55, a known process such as a process using high-pressure water, a process using a laser, an electrolytic method, a dry blast process, or a wet blast process can be used. By these processes, the cured resin 53 is removed with the same removal rate over the entire surface of the cured resin 53 in plan view until the thin portion 55 is removed. By removing the thin portion 55, the reflector-equipped substrate 1 shown in FIG. 1A is completed. Note that it is also possible to remove only the thin portion 55 in a state where the reflector 54 is covered using a masking jig. A means for removing the thin portion 55 can also be incorporated in the manufacturing apparatus.

本実施例によれば、実施例1と同じ効果が得られる。加えて、硬化樹脂53からなる薄肉部55を除去することによって、反射体54に囲まれた部分において基板本体2の表面(図3(3)の表面45参照)を確実に露出させることができる。なお、実施例1に比較すると、硬化樹脂53からなる薄肉部55が除去されるので、廃棄される硬化樹脂53の量が増える。しかし、薄肉部55をできるだけ薄く意図的に形成するので、廃棄される硬化樹脂53の増加を最小限にとどめることができる。   According to the present embodiment, the same effect as the first embodiment can be obtained. In addition, by removing the thin portion 55 made of the cured resin 53, the surface of the substrate body 2 (see the surface 45 in FIG. 3 (3)) can be reliably exposed in the portion surrounded by the reflector 54. . In addition, since the thin part 55 which consists of cured resin 53 is removed compared with Example 1, the quantity of the cured resin 53 discarded increases. However, since the thin portion 55 is intentionally formed as thinly as possible, an increase in the amount of the cured resin 53 to be discarded can be minimized.

本実施例は、複数の凹部48を含むキャビティ50の全体に樹脂材料を供給する。一方で、実施例1によれば、複数の凹部からなるキャビティ33のそれぞれに樹脂材料を供給する(図3(1)、(2)を参照)。したがって、本実施例は、次の場合に有効である。第1に、基板本体2に多数の領域4が設けられ、各領域4の平面積が小さい場合である。第2に、各領域4に対応する反射体54の体積が小さく、各領域4単位において必要な樹脂材料の量が少ない場合である。これらの場合において、本実施例によれば、キャビティ50に供給する樹脂材料の供給量を高精度に制御する必要がなくなる。したがって、本実施例によれば、樹脂材料の供給量の制御を簡略化することができる。   In this embodiment, the resin material is supplied to the entire cavity 50 including the plurality of recesses 48. On the other hand, according to the first embodiment, the resin material is supplied to each of the cavities 33 formed of a plurality of concave portions (see FIGS. 3A and 3B). Therefore, the present embodiment is effective in the following case. Firstly, the substrate body 2 is provided with a large number of regions 4 and the planar area of each region 4 is small. Second, the volume of the reflector 54 corresponding to each region 4 is small, and the amount of resin material required in each region 4 unit is small. In these cases, according to the present embodiment, it is not necessary to control the supply amount of the resin material supplied to the cavity 50 with high accuracy. Therefore, according to the present embodiment, the control of the supply amount of the resin material can be simplified.

本実施例では、下型47における基板本体2の境界線3に対応する部分において、隣接する凹部48同士が直接つながっている例を示した。これに代えて、下型47における基板本体2の各領域4に対応する部分を単位として各凹部48が独立して設けられ、隣接する凹部48同士が境界線3に対応する部分において直接つながっていない構成を採用することもできる。この構成においては、隣接する凹部48同士は、連通路として機能する空間49によって連通する。   In the present embodiment, an example in which the adjacent concave portions 48 are directly connected to each other in the portion corresponding to the boundary line 3 of the substrate body 2 in the lower mold 47 is shown. Instead of this, each recess 48 is independently provided with a portion corresponding to each region 4 of the substrate body 2 in the lower die 47 as a unit, and the adjacent recesses 48 are directly connected at a portion corresponding to the boundary line 3. It is also possible to adopt a configuration without this. In this configuration, adjacent recesses 48 communicate with each other through a space 49 that functions as a communication path.

(実施例3)
図5と図6とを参照して、反射体付基板を製造する製造装置を説明する。本実施例の特徴は、反射体を成形する際に、圧縮成形に離型フィルムと真空成形(減圧成形)とを併用することである。真空成形(減圧成形)とは、成形型を型締めする過程において、流動性樹脂が充填された空間を減圧して、その減圧した状態において成形することである。
Example 3
A manufacturing apparatus for manufacturing a substrate with a reflector will be described with reference to FIGS. The feature of the present embodiment is that when a reflector is molded, a release film and vacuum molding (reduced pressure molding) are used in combination for compression molding. Vacuum forming (reduced pressure forming) is to form the pressure in a state where the space filled with the flowable resin is decompressed in the process of clamping the forming die.

図5に示されているように、本実施例に係る製造装置は、上型56と下型57とを有する。下型57には、基板本体2の各領域4にそれぞれ対応する、凹部からなるキャビティ58が形成されている。キャビティ58は、上方以外をキャビティ面59によって囲まれた空間である。各キャビティ58の内底面には吸引路60が連通する。各吸引路60は、配管を介して吸引ポンプ、減圧タンク(いずれも図示なし)等の減圧手段に接続されている。実施例1と同様に、下型57の上面側において、基板本体2の各領域4の集合体の外に対応する位置に、最も外側のキャビティ58に連通する凹部からなる樹脂溜まり61が形成されている。   As shown in FIG. 5, the manufacturing apparatus according to the present embodiment includes an upper mold 56 and a lower mold 57. The lower mold 57 is formed with cavities 58 formed of recesses corresponding to the respective regions 4 of the substrate body 2. The cavity 58 is a space surrounded by the cavity surface 59 except for the upper side. A suction path 60 communicates with the inner bottom surface of each cavity 58. Each suction path 60 is connected to decompression means such as a suction pump and a decompression tank (both not shown) via pipes. Similar to the first embodiment, on the upper surface side of the lower mold 57, a resin reservoir 61 formed of a recess communicating with the outermost cavity 58 is formed at a position corresponding to the outside of the assembly of the regions 4 of the substrate body 2. ing.

上型56と下型57との間には、平面視して下型57を取り囲むようにして、枠状のフィルム押え部材62が設けられている。フィルム押え部材62は、駆動手段(図示なし)によって昇降可能になるようにして設けられている。フィルム押え部材62の下面と下型57の上面との間に、離型フィルム63が配置される。フィルム押え部材62が下型57の型面よりも下方にまで下降すると、枠状のフィルム押え部材62の内側の空間に下型57の上部が入り込む。   A frame-shaped film pressing member 62 is provided between the upper mold 56 and the lower mold 57 so as to surround the lower mold 57 in a plan view. The film pressing member 62 is provided so that it can be moved up and down by a driving means (not shown). A release film 63 is disposed between the lower surface of the film pressing member 62 and the upper surface of the lower mold 57. When the film pressing member 62 is lowered below the mold surface of the lower mold 57, the upper portion of the lower mold 57 enters the space inside the frame-shaped film pressing member 62.

平面視して下型57を取り囲むようにして、枠状のフィルム受け部材64が設けられている。フィルム受け部材64は、枠状の上板65と、枠状の下板66と、上板65と下板66とを接続する複数の棒状部材67とを有する。フィルム受け部材64は、コイルばね等の弾性部材68によって支持される。フィルム押え部材62とフィルム受け部材64の上板65とは、平面視して重なるようにして設けられている。   A frame-shaped film receiving member 64 is provided so as to surround the lower mold 57 in plan view. The film receiving member 64 includes a frame-shaped upper plate 65, a frame-shaped lower plate 66, and a plurality of rod-shaped members 67 that connect the upper plate 65 and the lower plate 66. The film receiving member 64 is supported by an elastic member 68 such as a coil spring. The film pressing member 62 and the upper plate 65 of the film receiving member 64 are provided so as to overlap in a plan view.

上型56の下面には、フィルム押え部材62の枠状の部分に重なる位置に、Oリング等からなるシール部材69が設けられている。上型56の下面において、基板本体2が配置される部分の外に吸引路70が連通する。各吸引路70は、配管を介して吸引ポンプ、減圧タンク(いずれも図示なし)等の減圧手段に接続されている。   A seal member 69 made of an O-ring or the like is provided on the lower surface of the upper mold 56 at a position overlapping the frame-shaped portion of the film pressing member 62. On the lower surface of the upper mold 56, the suction path 70 communicates with the outside of the portion where the substrate body 2 is disposed. Each suction path 70 is connected to decompression means such as a suction pump and a decompression tank (none of which is shown) via a pipe.

図5と図6とを参照して、反射体付基板を製造する製造方法を説明する。図5(1)に示すように、まず、上型56の下面に基板本体2を固定する。フィルム押え部材62の下面と下型57の上面との間に、離型フィルム63を供給する。離型フィルム63はロール状で供給されてもよく、短冊状で供給されてもよい。離型フィルム63としては、流動性樹脂及び硬化樹脂に対する低密着性を有するフッ素樹脂を使用することが好ましい。   With reference to FIG. 5 and FIG. 6, the manufacturing method which manufactures a board | substrate with a reflector is demonstrated. As shown in FIG. 5A, first, the substrate body 2 is fixed to the lower surface of the upper mold 56. A release film 63 is supplied between the lower surface of the film pressing member 62 and the upper surface of the lower mold 57. The release film 63 may be supplied in a roll shape or a strip shape. As the release film 63, it is preferable to use a fluororesin having low adhesion to a fluid resin and a cured resin.

次に、図5(1)に示す状態からフィルム押え部材62を下降させて、フィルム押え部材62の下面とフィルム受け部材64の上面とによって離型フィルム63を挟む。   Next, the film pressing member 62 is lowered from the state shown in FIG. 5A, and the release film 63 is sandwiched between the lower surface of the film pressing member 62 and the upper surface of the film receiving member 64.

次に、図5(2)に示すように、引き続きフィルム押え部材62を下降させる。これにより、下型57の上面に離型フィルム63を密着させる。下型57の上面は、下型57においてキャビティ58同士の間に存在する面を意味する。   Next, as shown in FIG. 5 (2), the film pressing member 62 is continuously lowered. Thereby, the release film 63 is adhered to the upper surface of the lower mold 57. The upper surface of the lower mold 57 means a surface existing between the cavities 58 in the lower mold 57.

離型フィルム63は、少なくとも下型57に設けられたヒータ(図示なし)によって加熱されることにより、軟化して伸びる。更にフィルム押え部材62を下降させることによって、離型フィルム63を引き伸ばす。   The release film 63 is softened and stretched by being heated by at least a heater (not shown) provided in the lower mold 57. Further, the release film 63 is stretched by lowering the film pressing member 62.

次に、軟化した離型フィルム63を下型57の上面に密着させた状態で、吸引路60を経由して離型フィルム63を吸引する。これにより、図6(1)に示すように、凹部からなるキャビティ58(図5(2)参照)におけるキャビティ面59に、軟化した離型フィルム63を密着させる。   Next, the release film 63 is sucked through the suction path 60 while the softened release film 63 is in close contact with the upper surface of the lower mold 57. As a result, as shown in FIG. 6 (1), the softened release film 63 is brought into close contact with the cavity surface 59 in the cavity 58 (see FIG. 5 (2)) formed of a recess.

本実施例においては、下型57に設けられた凹部からなる空間、すなわち、上方以外をキャビティ面59によって囲まれた凹部からなる空間をキャビティ58と呼ぶ。加えて、キャビティ面59に離型フィルム63を密着させた状態において上方以外を離型フィルム63によって囲まれた凹部からなる空間、すなわち、離型フィルム63によって囲まれ樹脂材料が供給される空間についても、便宜的にキャビティと呼ぶ。   In this embodiment, the space formed by the recesses provided in the lower mold 57, that is, the space formed by the recesses surrounded by the cavity surface 59 except for the upper part is referred to as a cavity 58. In addition, in a state where the release film 63 is in close contact with the cavity surface 59, a space formed by a recess surrounded by the release film 63 except for the upper side, that is, a space surrounded by the release film 63 and supplied with a resin material. Is also called a cavity for convenience.

次に、図6(1)に示すように、実施例1と同様にして、熱硬化性樹脂からなる流動性樹脂71によって、各キャビティ58(図5(2)参照)を満たされた状態にする。この工程では、表面張力を利用して、流動性樹脂71の表面が下型57の上面よりもわずかに盛り上がる程度に、各キャビティ57に流動性樹脂71を満たすことが好ましい。   Next, as shown in FIG. 6 (1), each cavity 58 (see FIG. 5 (2)) is filled with a fluid resin 71 made of a thermosetting resin, as in Example 1. To do. In this step, it is preferable to fill each cavity 57 with the flowable resin 71 so that the surface of the flowable resin 71 is slightly raised from the upper surface of the lower mold 57 by utilizing surface tension.

次に、図6(2)に示すように、上型56を下降させる。上型56を下降させることによって、上型56の下面に設けられたシール部材69がフィルム押え部材62の上面に接触して変形する。このことによって、上型56の下面と、枠状のフィルム押え部材62の内側面と、離型フィルム63の上面と、流動性樹脂71の上面と、基板本体2の表面(図では下面及び側面)とによって囲まれた空間を、成形型の外部から遮断された閉空間72にする。その後に、上型56に設けられた吸引路70を経由して閉空間72を吸引する。このことによって、閉空間72に含まれる水分、流動性樹脂に含まれる気体の成分等を、閉空間72の外部に排出する。   Next, as shown in FIG. 6 (2), the upper die 56 is lowered. By lowering the upper die 56, the seal member 69 provided on the lower surface of the upper die 56 comes into contact with the upper surface of the film pressing member 62 and deforms. Thus, the lower surface of the upper mold 56, the inner surface of the frame-shaped film pressing member 62, the upper surface of the release film 63, the upper surface of the fluid resin 71, and the surface of the substrate body 2 (the lower surface and the side surface in the figure). ) Is a closed space 72 cut off from the outside of the mold. Thereafter, the closed space 72 is sucked through the suction passage 70 provided in the upper die 56. As a result, moisture contained in the closed space 72, gas components contained in the fluid resin, and the like are discharged to the outside of the closed space 72.

次に、図6(2)に示すように、引き続き上型56を下降させて、上型56と下型57とを完全に型締めする。このことによって、キャビティに満たされた流動性樹脂71に、基板本体2の表面(図では下面)における所定の部分を浸漬する(漬ける)。その後に、流動性樹脂71に圧力(型締め圧)と熱とを加えることによって、流動性樹脂71を硬化させる。このことによって、基板本体2の表面(図では下面)に硬化樹脂(図3(3)の硬化樹脂36参照)を形成する。   Next, as shown in FIG. 6B, the upper die 56 is continuously lowered, and the upper die 56 and the lower die 57 are completely clamped. As a result, a predetermined portion of the surface (lower surface in the figure) of the substrate body 2 is immersed (immersed) in the fluid resin 71 filled in the cavity. Thereafter, the fluid resin 71 is cured by applying pressure (clamping pressure) and heat to the fluid resin 71. As a result, a cured resin (see the cured resin 36 in FIG. 3 (3)) is formed on the surface (lower surface in the figure) of the substrate body 2.

次に、実施例1と同様にして、上型56と下型57とを型開きした後に、上型56から成形済基板(図3(3)の成形済基板37参照)を取り外す。その後に、成形済基板から不要樹脂(図3(3)の不要樹脂39参照)を除去する。このことによって、図1(1)に示された反射体付基板1が完成する。   Next, in the same manner as in Example 1, after the upper mold 56 and the lower mold 57 are opened, the molded substrate (see the molded substrate 37 in FIG. 3 (3)) is removed from the upper mold 56. Thereafter, unnecessary resin (see unnecessary resin 39 in FIG. 3 (3)) is removed from the molded substrate. As a result, the reflector-equipped substrate 1 shown in FIG. 1A is completed.

本実施例によれば、実施例1と同じ効果に加えて次の効果が得られる。離型フィルム63を使用することに起因する効果として、第1に、離型フィルム63の表面が硬化樹脂に転写されることによって、滑らかな表面を有する反射体が得られる。第2に、流動性樹脂及び硬化樹脂に対する低密着性を有する離型フィルム63を使用することによって、反射体に囲まれた部分において基板本体2の表面(図3(3)の表面45参照)をいっそう確実に露出させることができる。第3に、硬化後の高温の状態において柔らかい樹脂材料を使用した場合に、上型56から成形済基板(図3(3)の成形済基板37参照)を容易に取り外すことができる。従来は、硬化後の高温の状態において柔らかい樹脂材料を使用した場合には、成形型の表面から硬化樹脂を離型しにくいので、数ショット毎に成形型の表面に離型剤を塗布する必要がある。本実施例によれば、成形型の表面に離型剤を塗布する工程を省略することができる。   According to the present embodiment, in addition to the same effects as the first embodiment, the following effects can be obtained. As an effect resulting from the use of the release film 63, first, a reflector having a smooth surface is obtained by transferring the surface of the release film 63 to the cured resin. Secondly, by using a release film 63 having low adhesion to the flowable resin and the cured resin, the surface of the substrate body 2 at the portion surrounded by the reflector (see the surface 45 in FIG. 3 (3)). Can be exposed more reliably. Third, when a soft resin material is used in a high temperature state after curing, the molded substrate (see the molded substrate 37 in FIG. 3 (3)) can be easily removed from the upper mold 56. Conventionally, when a soft resin material is used at a high temperature after curing, it is difficult to release the cured resin from the surface of the mold, so it is necessary to apply a release agent to the surface of the mold every few shots. There is. According to this embodiment, the step of applying a release agent to the surface of the mold can be omitted.

真空成形(減圧成形)を使用することに起因する効果として、反射体に気泡が形成されることを防止することができる。光電子部品においては、反射体に気泡が形成されることは光の反射を妨げるので不良の原因になる。したがって、本実施例によれば、光電子部品を製造する際の良品率を向上させることができる。   As an effect resulting from the use of vacuum forming (reduced pressure forming), it is possible to prevent bubbles from being formed in the reflector. In the optoelectronic component, the formation of bubbles in the reflector hinders reflection of light and causes a defect. Therefore, according to the present embodiment, it is possible to improve the yield rate when manufacturing the optoelectronic component.

なお、フィルム押え部材62は、枠状ではなく枠の一部を切り欠いた平面形状を有していてもよい。枠の一部を切り欠いて形成された複数の部材の下面が高さ方向において同一面に存在し、同時に昇降することができれば、それらの部材はフィルム押え部材62として機能する。同様に、フィルム受け部材64についても、枠の一部を切り欠いて形成された複数の部材の上面が高さ方向において同一面に存在し、均等に弾性支持されていれば、それらの部材はフィルム受け部材64として機能する。   Note that the film pressing member 62 may have a planar shape in which a part of the frame is cut out instead of the frame shape. If the lower surfaces of a plurality of members formed by cutting out a part of the frame are on the same surface in the height direction and can be moved up and down at the same time, those members function as the film pressing member 62. Similarly, as for the film receiving member 64, if the upper surfaces of a plurality of members formed by cutting out a part of the frame are present on the same surface in the height direction and are uniformly elastically supported, these members are It functions as a film receiving member 64.

また、凹部からなるキャビティ58の深さ、平面的な大きさ、数によっては、フィルム押え部材62の下面とフィルム受け部材64の上面とによって離型フィルム63を挟む強さを調整することが好ましい。例えば、深くて平面的に大きいキャビティ58が多数設けられている場合には、離型フィルム63を挟む強さを抑制することが好ましい。これにより、吸引路60によって吸引された離型フィルム63が、フィルム押え部材62の下面とフィルム受け部材64の上面との間において滑って動く。したがって、深くて平面的に大きいキャビティ58の底面に、離型フィルム63を確実に密着させることができる。   In addition, depending on the depth, planar size, and number of the cavity 58 formed of the recess, it is preferable to adjust the strength with which the release film 63 is sandwiched between the lower surface of the film pressing member 62 and the upper surface of the film receiving member 64. . For example, when a large number of deep and planar cavities 58 are provided, it is preferable to suppress the strength with which the release film 63 is sandwiched. Thereby, the release film 63 sucked by the suction path 60 slides and moves between the lower surface of the film pressing member 62 and the upper surface of the film receiving member 64. Therefore, the release film 63 can be reliably adhered to the bottom surface of the cavity 58 that is deep and large in plan.

また、本実施例では離型フィルムと真空成形とを併用した。これに限らず、離型フィルムと真空成形とのうちいずれか一方を使用してもよい。   In this example, a release film and vacuum forming were used in combination. Not only this but any one of a release film and vacuum forming may be used.

なお、上述した各実施例においては、各領域4は直交する仮想的な境界線3によって格子状に形成され、各領域4の平面形状は長方形である。これに限らず、各領域4の平面形状を長方形以外の四辺形又は四辺形以外の多角形(例えば、正六角形)にしてもよい。下型31、57、又は47において基板本体2の各領域4に対応する部分におけるキャビティ33、58、又は凹部48の平面形状は、1つの閉じた図形からその図形に完全に含まれる別の閉じた図形を切り抜いた後の形状である   In each of the above-described embodiments, each region 4 is formed in a lattice shape by virtual boundary lines 3 orthogonal to each other, and the planar shape of each region 4 is a rectangle. Not limited to this, the planar shape of each region 4 may be a quadrilateral other than a rectangle or a polygon other than a quadrangle (for example, a regular hexagon). The planar shape of the cavity 33, 58 or the recess 48 in the portion corresponding to each region 4 of the substrate body 2 in the lower mold 31, 57, or 47 is from one closed graphic to another closed completely included in the graphic. It is the shape after cutting out the figure

更に、境界線を折れ線又は曲線にしてもよい。各領域4の平面形状を正六角形にした場合、又は、境界線を折れ線若しくは曲線にした場合には、レーザ加工機、ウォータージェット加工機等を使用して、境界線に沿って反射体付基板又は封止済基板を切断することができる。   Further, the boundary line may be a broken line or a curved line. When the planar shape of each region 4 is a regular hexagon, or when the boundary line is a polygonal line or a curve, a substrate with a reflector along the boundary line using a laser processing machine, a water jet processing machine, or the like Alternatively, the sealed substrate can be cut.

また、実施例2において、基板本体2の表面(図4(1)〜(3)では下面)にいずれも硬化樹脂53からなる反射体54と反射体54同士を連通する薄肉部55とを形成し、成形済基板52から薄肉部55を除去する例を説明した。この例に、離型フィルムと真空成形とのうちいずれか一方又は双方を併用してもよい。   Further, in Example 2, a reflector 54 made of a cured resin 53 and a thin portion 55 that allows the reflectors 54 to communicate with each other are formed on the surface of the substrate body 2 (the lower surface in FIGS. 4 (1) to (3)). The example in which the thin portion 55 is removed from the molded substrate 52 has been described. In this example, either one or both of a release film and vacuum forming may be used in combination.

また、本発明は、上述の各実施例に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内で、必要に応じて、任意にかつ適宜に組み合わせ、変更し、又は選択して採用できるものである。   In addition, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and may be arbitrarily combined, changed, or selected as necessary without departing from the spirit of the present invention. It can be done.

1、42 反射体付基板
2 基板本体
3、41 境界線
4 領域(第1の領域)
5、25、38、54 反射体
6、44、48 凹部
7、45 表面
8 斜面
9 光素子
10 封止前基板
11、30、46、56 上型
12、31、47、57 下型
13、33、50、58 キャビティ
14 窪み
15、35、51、71 流動性樹脂
16、26、36、53 硬化樹脂
17 封止済基板
18、27 平板部
19、28 レンズ部
20、40 領域
21、43 不要部
22、23 光電子部品
24 基板
29 切断面
32 領域(第2の領域)
34、61 樹脂溜まり
37、52 成形済基板
39 不要樹脂
49 空間(連通部)
55 薄肉部
59 キャビティ面
60、70 吸引路
62 フィルム押え部材
63 離型フィルム
64 フィルム受け部材
65 上板
66 下板
67 棒状部材
68 弾性部材
69 シール部材
72 閉空間
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 42 Substrate with a reflector 2 Substrate body 3, 41 Boundary line 4 Area (first area)
5, 25, 38, 54 Reflector 6, 44, 48 Recess 7, 45 Surface 8 Slope 9 Optical element 10 Pre-sealing substrate 11, 30, 46, 56 Upper mold 12, 31, 47, 57 Lower mold 13, 33 , 50, 58 Cavity 14 Depression 15, 35, 51, 71 Flowable resin 16, 26, 36, 53 Cured resin 17 Sealed substrate 18, 27 Flat plate portion 19, 28 Lens portion 20, 40 Region 21, 43 Unnecessary portion 22, 23 Optoelectronic components 24 Substrate 29 Cut surface 32 Region (second region)
34, 61 Resin reservoir 37, 52 Molded substrate 39 Unnecessary resin 49 Space (communication part)
55 Thin-walled portion 59 Cavity surface 60, 70 Suction path 62 Film pressing member 63 Release film 64 Film receiving member 65 Upper plate 66 Lower plate 67 Bar-shaped member 68 Elastic member 69 Seal member 72 Closed space

Claims (10)

上型と複数の凹部からなるキャビティが設けられた下型とを有する成形型を使用して、基板本体に設けられた複数の第1の領域の所定の面における所定の部分に反射体を形成して反射体付基板を製造する反射体付基板の製造方法であって、
前記上型の下面に前記基板本体を固定する工程と、
前記キャビティを流動性樹脂によって満たされた状態にする工程と、
前記上型と前記下型とを型締めすることによって前記所定の部分を前記流動性樹脂に浸漬する工程と、
前記流動性樹脂を硬化させて硬化樹脂を形成する工程と、
前記上型と前記下型とを型開きする工程と、
前記硬化樹脂からなる前記反射体が形成された前記基板本体からなる成形済基板を前記上型から取り外す工程とを備えるとともに、
前記下型には前記第1の領域にそれぞれ対応する第2の領域が設けられており、
前記第2の領域のそれぞれには前記凹部が設けられており、
前記第2の領域における前記凹部の平面形状は1つの閉じた図形から別の閉じた図形を切り抜いた後の形であり、
前記凹部のそれぞれは前記第2の領域同士の境界線において連通しており、
前記浸漬する工程では、前記下型において複数の前記キャビティのうち最も外側のキャビティに連通する樹脂溜まりに前記流動性樹脂のうち余分な量を流し込み、かつ、互いに連通している前記凹部のそれぞれに前記流動性樹脂を均等に満たし、
前記硬化樹脂を形成する工程では、前記樹脂溜まりにおいて前記硬化樹脂からなる不要樹脂を形成し、かつ、前記第1の領域における前記所定の面のそれぞれにおいて前記所定の部分以外の部分を露出させることを特徴とする反射体付基板の製造方法。
Using a molding die having an upper die and a lower die provided with a cavity composed of a plurality of recesses, a reflector is formed on a predetermined portion of a predetermined surface of a plurality of first regions provided on the substrate body A method for manufacturing a substrate with a reflector for manufacturing a substrate with a reflector,
Fixing the substrate body to the lower surface of the upper mold;
Making the cavity filled with a flowable resin;
Immersing the predetermined portion in the flowable resin by clamping the upper mold and the lower mold; and
Curing the flowable resin to form a cured resin;
Opening the upper mold and the lower mold; and
Removing the molded substrate made of the substrate main body on which the reflector made of the cured resin is formed from the upper mold, and
The lower mold is provided with second regions respectively corresponding to the first regions,
Each of the second regions is provided with the recess,
The planar shape of the recess in the second region is a shape after cutting out another closed figure from one closed figure,
Each of the recesses communicates with a boundary line between the second regions,
In the dipping step, an excess amount of the fluid resin is poured into a resin reservoir that communicates with the outermost cavity among the plurality of cavities in the lower mold, and each of the recesses communicated with each other. Fill the fluid resin evenly,
In the step of forming the cured resin, an unnecessary resin made of the cured resin is formed in the resin reservoir, and a portion other than the predetermined portion is exposed on each of the predetermined surfaces in the first region. The manufacturing method of the board | substrate with a reflector characterized by these.
請求項1に記載された反射体付基板の製造方法において、
前記取り外す工程の後に前記成形済基板から前記不要樹脂を除去する工程を備えることを特徴とする反射体付基板の製造方法。
In the manufacturing method of the board | substrate with a reflector described in Claim 1,
A method of manufacturing a substrate with a reflector, comprising: removing the unnecessary resin from the molded substrate after the removing step.
上型とキャビティが設けられた下型とを有する成形型を使用して、基板本体に設けられた複数の第1の領域の所定の面における所定の部分に反射体を形成して反射体付基板を製造する反射体付基板の製造方法であって、
前記上型の下面に前記基板本体を固定する工程と、
前記キャビティを流動性樹脂によって満たされた状態にする工程と、
前記上型と前記下型とを型締めすることによって前記所定の面を前記流動性樹脂に浸漬する工程と、
前記流動性樹脂を硬化させて硬化樹脂を形成する工程と、
前記上型と前記下型とを型開きする工程と、
前記硬化樹脂からなる前記反射体が形成された前記基板本体からなる成形済基板を前記上型から取り外す工程とを備えるとともに、
前記下型には前記第1の領域にそれぞれ対応する第2の領域が設けられており、
前記キャビティは、複数の凹部と複数の前記第2の領域のすべてを平面視して含みかつ前記複数の凹部同士を連通する連通部とを有し、
前記第2の領域のそれぞれには前記凹部が設けられており、
前記第2の領域における前記凹部の平面形状は1つの閉じた図形から別の閉じた図形を切り抜いた後の形であり、
前記硬化樹脂を形成する工程では、前記複数の凹部において前記硬化樹脂からなる前記反射体を形成するとともに前記連通部において前記硬化樹脂からなる薄肉部を形成し、
前記取り外す工程の後に前記成形済基板から前記薄肉部を除去することによって前記第1の領域のそれぞれにおいて前記所定の部分以外の部分を露出させる工程を備えることを特徴とする反射体付基板の製造方法。
Using a molding die having an upper die and a lower die provided with a cavity, a reflector is formed on a prescribed portion of a prescribed surface of a plurality of first regions provided on the substrate body, with a reflector. A method of manufacturing a substrate with a reflector for manufacturing a substrate,
Fixing the substrate body to the lower surface of the upper mold;
Making the cavity filled with a flowable resin;
Immersing the predetermined surface in the flowable resin by clamping the upper mold and the lower mold; and
Curing the flowable resin to form a cured resin;
Opening the upper mold and the lower mold; and
Removing the molded substrate made of the substrate main body on which the reflector made of the cured resin is formed from the upper mold, and
The lower mold is provided with second regions respectively corresponding to the first regions,
The cavity includes a plurality of recesses and a communication portion that includes all of the plurality of second regions in a plan view and communicates the plurality of recesses.
Each of the second regions is provided with the recess,
The planar shape of the recess in the second region is a shape after cutting out another closed figure from one closed figure,
In the step of forming the curable resin, the reflector made of the curable resin is formed in the plurality of concave portions and the thin portion made of the curable resin is formed in the communication portion,
Manufacturing of a substrate with a reflector, comprising a step of exposing a portion other than the predetermined portion in each of the first regions by removing the thin portion from the molded substrate after the removing step. Method.
請求項1又は3に記載された反射体付基板の製造方法において、
前記上型と前記下型との間に離型フィルムを配置する工程と、
平面視して前記下型の外側において前記離型フィルムを挟む工程と、
前記離型フィルムを挟んだ状態で前記下型の上面に前記離型フィルムを密着させる工程と、
前記下型に設けられた吸引路を使用して前記離型フィルムを吸引することによって前記離型フィルムを前記キャビティにおける型面に密着させる工程とを備え、
前記満たされた状態にする工程では、前記離型フィルムが前記キャビティにおける型面に密着した状態で前記キャビティを前記流動性樹脂によって満たされた状態にすることを特徴とする反射体付基板の製造方法。
In the manufacturing method of the board | substrate with a reflector described in Claim 1 or 3,
Disposing a release film between the upper mold and the lower mold;
A step of sandwiching the release film outside the lower mold in plan view;
Adhering the release film to the upper surface of the lower mold in a state of sandwiching the release film;
A step of adhering the release film to a mold surface in the cavity by sucking the release film using a suction path provided in the lower mold,
In the filling step, the cavity is filled with the flowable resin in a state where the release film is in close contact with the mold surface of the cavity. Method.
請求項1、3、又は4のいずれかに記載された反射体付基板の製造方法において、
少なくとも前記キャビティを含む空間を前記成形型の外部から遮断することによって閉空間を形成する工程と、
前記満たされた状態にする工程から前記浸漬する工程までの過程の少なくとも一部分において前記閉空間を減圧する工程とを備えることを特徴とする反射体付基板の製造方法。
In the manufacturing method of the board | substrate with a reflector described in any one of Claim 1, 3, or 4,
Forming a closed space by blocking a space including at least the cavity from the outside of the mold; and
And a step of depressurizing the closed space in at least a part of a process from the filling step to the dipping step.
上型と複数の凹部からなるキャビティが設けられた下型とを含む成形型を有し、基板本体に設けられた複数の第1の領域の所定の面における所定の部分に反射体を形成して反射体付基板を製造する反射体付基板の製造装置であって、
前記上型の下面に前記基板本体を固定する固定手段と、
前記上型と前記下型とを相対的に移動させることによって前記上型と前記下型とを型締め及び型開きする駆動手段と、
前記下型において前記第1の領域のそれぞれに対応して設けられた第2の領域と、
前記下型において複数の前記キャビティのうち最も外側のキャビティに連通する樹脂溜まりとを備えるとともに、
前記凹部のそれぞれは前記第2の領域のそれぞれにおいて設けられ、
前記第2の領域における前記凹部の平面形状は1つの閉じた図形から別の閉じた図形を切り抜いた後の形であり、
前記凹部のそれぞれは前記第2の領域同士の境界線において連通し、
前記上型と前記下型とが型締めされることによって、前記上型と前記下型とが型開きされた状態において互いに連通している前記凹部のそれぞれに均等に満たされた流動性樹脂に前記所定の部分が浸漬され、かつ、前記流動性樹脂のうち余分な量が前記樹脂溜まりに流れ込み、
前記上型と前記下型とが型締めした状態において前記流動性樹脂が硬化することによって形成された硬化樹脂のうち前記凹部のそれぞれにおいて硬化した前記硬化樹脂が前記反射体のそれぞれを構成し、
前記第1の領域のそれぞれにおいて前記所定の部分以外の部分が露出することを特徴とする反射体付基板の製造装置。
A reflector having a molding die including an upper die and a lower die provided with a cavity formed of a plurality of recesses is formed on a predetermined portion of a predetermined surface of a plurality of first regions provided in the substrate body. A substrate with a reflector for manufacturing a substrate with a reflector,
Fixing means for fixing the substrate body to the lower surface of the upper mold;
Drive means for clamping and opening the upper mold and the lower mold by relatively moving the upper mold and the lower mold;
A second region provided corresponding to each of the first regions in the lower mold;
A resin reservoir communicating with the outermost cavity among the plurality of cavities in the lower mold,
Each of the recesses is provided in each of the second regions,
The planar shape of the recess in the second region is a shape after cutting out another closed figure from one closed figure,
Each of the recesses communicates at a boundary line between the second regions,
When the upper mold and the lower mold are clamped, a fluid resin that is evenly filled in each of the recesses that communicate with each other when the upper mold and the lower mold are opened. The predetermined portion is immersed, and an excess amount of the flowable resin flows into the resin reservoir;
The cured resin cured in each of the recesses among the cured resin formed by curing the fluid resin in a state where the upper mold and the lower mold are clamped constitutes each of the reflectors,
An apparatus for manufacturing a substrate with a reflector, wherein a portion other than the predetermined portion is exposed in each of the first regions.
請求項6に記載された反射体付基板の製造装置において、
前記樹脂溜まりにおいて硬化した前記硬化樹脂からなる不要樹脂を除去する除去手段を備えることを特徴とする反射体付基板の製造装置。
In the manufacturing apparatus of the board | substrate with a reflector described in Claim 6,
The manufacturing apparatus of the board | substrate with a reflector characterized by including the removal means which removes the unnecessary resin which consists of the said cured resin hardened | cured in the said resin reservoir.
上型とキャビティが設けられた下型とを含む成形型を有し、基板本体に設けられた複数の第1の領域の所定の面における所定の部分に反射体を形成して反射体付基板を製造する反射体付基板の製造装置であって、
前記上型の下面に前記基板本体を固定する固定手段と、
前記上型と前記下型とを相対的に移動させることによって前記上型と前記下型とを型締め及び型開きする駆動手段と、
前記下型において前記第1の領域のそれぞれに対応して設けられた第2の領域と、
前記第2の領域のそれぞれに設けられた凹部と、
複数の前記第2の領域のすべてを平面視して含みかつ複数の前記凹部同士を連通する連通部とを備えるとともに、
前記キャビティは前記凹部と前記連通部とを含み、
前記凹部のそれぞれの平面形状は1つの閉じた図形から別の閉じた図形を切り抜いた後の形であり、
前記上型と前記下型とが型締めされることによって、前記上型と前記下型とが型開きされた状態において前記キャビティに満たされた流動性樹脂に前記所定の面が浸漬され、
前記上型と前記下型とが型締めされた状態において前記流動性樹脂が硬化することによって形成された硬化樹脂のうち複数の前記凹部において硬化した前記硬化樹脂が前記反射体を構成し、かつ、複数の前記凹部同士の間における前記連通部において硬化した前記硬化樹脂が薄肉部を構成し、
前記薄肉部を除去する除去手段を備え、
前記薄肉部が除去された後に前記第1の領域のそれぞれにおいて前記所定の部分以外の部分が露出することを特徴とする反射体付基板の製造装置。
A substrate with a reflector having a molding die including an upper die and a lower die provided with a cavity, and forming a reflector on a prescribed portion of a prescribed surface of a plurality of first regions provided on the substrate body An apparatus for manufacturing a substrate with a reflector that manufactures
Fixing means for fixing the substrate body to the lower surface of the upper mold;
Drive means for clamping and opening the upper mold and the lower mold by relatively moving the upper mold and the lower mold;
A second region provided corresponding to each of the first regions in the lower mold;
A recess provided in each of the second regions;
Including a plurality of the second regions in a plan view and including a communication portion that communicates the plurality of recesses,
The cavity includes the concave portion and the communication portion,
Each of the planar shapes of the recesses is a shape after cutting one closed figure from another closed figure,
When the upper mold and the lower mold are clamped, the predetermined surface is immersed in a fluid resin filled in the cavity in a state where the upper mold and the lower mold are opened,
The cured resin cured in the plurality of recesses among the cured resin formed by curing the fluid resin in a state where the upper mold and the lower mold are clamped constitutes the reflector, and The cured resin cured at the communicating portion between the plurality of concave portions constitutes a thin portion,
A removing means for removing the thin portion;
An apparatus for manufacturing a substrate with a reflector, wherein a portion other than the predetermined portion is exposed in each of the first regions after the thin portion is removed.
請求項6又は8に記載された反射体付基板の製造装置において、
前記上型と前記下型との間に離型フィルムを配置する配置手段と、
前記離型フィルムを挟む挟持手段と、
挟まれた前記離型フィルムを前記下型の上面に密着させる密着手段と、
前記下型の上面に密着した前記離型フィルムを吸引することによって前記離型フィルムを前記キャビティにおける型面に密着させる吸引手段とを備えるとともに、
前記離型フィルムを前記キャビティにおける型面に密着させた状態で前記キャビティに前記流動性樹脂が満たされることを特徴とする反射体付基板の製造装置。
In the manufacturing apparatus of the board | substrate with a reflector described in Claim 6 or 8,
Arranging means for disposing a release film between the upper mold and the lower mold;
Clamping means for sandwiching the release film;
A close contact means for bringing the sandwiched release film into close contact with the upper surface of the lower mold;
A suction means for adhering the release film to the mold surface in the cavity by sucking the release film adhered to the upper surface of the lower mold;
The manufacturing apparatus of a substrate with a reflector, wherein the fluid resin is filled in the cavity in a state where the release film is in close contact with a mold surface in the cavity.
請求項6、8、又は9のいずれかに記載された反射体付基板の製造装置において、
少なくとも前記キャビティを含む空間を前記成形型の外部から遮断された閉空間にする遮断手段と、
前記閉空間を減圧する減圧手段とを備えることを特徴とする反射体付基板の製造装置。
In the manufacturing apparatus of the board | substrate with a reflector described in any one of Claim 6, 8, or 9,
A blocking means for making a space including at least the cavity into a closed space blocked from the outside of the mold;
An apparatus for manufacturing a substrate with a reflector, comprising: a decompression unit that decompresses the closed space.
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