JP5653577B2 - ゲルマナイド成長の改良方法およびそれにより得られたデバイス - Google Patents
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Description
本発明は、半導体プロセスの分野に関し、特に、ゲルマニウム基板上への低抵抗層の形成に関する。
ゲルマニウムは、その電気的特性により、基板および／またはゲート電極を形成するための半導体材料の選択として、シリコンを置き換えうると考えられている。
例えばゲルマニウムとＮｉのような金属との間の反応により形成される化合物のようなゲルマナイドは、ソース領域およびドレイン領域の抵抗率を低減するために、Ｇｅベースの集積回路にとって魅力的である。
しかしながら、ゲルマナイド化（gernmanidation）のための全体の製造プロセスは、まだ開発されていない。
セルフアラインされたゲルマナイド（germanide）は、既に述べられている。一般に、そのようなセルフアラインされたゲルマナイドは、基板とゲルマニウム領域の上に金属層を堆積させ、基板を加熱して金属ゲルマナイドを形成し、例えば選択エッチング技術を用いて未反応金属を選択的に除去することにより形成される。
しかしながら、本発明前に得られた方法では、Ｇｅ中のピットおよび／または分離しようとする領域上の導電性ゲルマナイドの突出物（望まない付着物）の形成を含む、多くのキラー欠陥を生じる。
本発明は、半導体デバイス中に金属ゲルマナイドを形成する過程で、欠陥（ピット、過成長、または突出物）を防止（または低減）するための方法であって、
少なくとも１つのゲルマニウム層の領域がその上に露出した基板を提供する工程と、
基板とゲルマニウム領域の上に、適当な金属、好適にはＣｏまたはＮｉを堆積させる工程と、
金属の上に、シリコン酸化物含有層、シリコン窒化物層、またはタングステン層からなる、好適にはＳｉＯ２層からなるキャップ層を形成する工程と、
次に、金属ゲルマナイドを形成するためにアニールを行う工程と、
次に、キャップ層を選択的に除去する工程と、
次に、未反応金属を選択的に除去する工程と、を含み、
キャップ層形成に用いられる温度は、アニール温度より低い方法を提供する。
少なくとも１つのゲルマニウム層の領域がその上に露出した基板を提供する工程と、
基板とゲルマニウム領域の上に、適当な金属、好適にはＣｏまたはＮｉを堆積させる工程と、
金属の上に、シリコン酸化物含有層、シリコン窒化物層、またはタングステン層からなる、好適にはＳｉＯ２層からなるキャップ層を形成する工程と、
次に、金属ゲルマナイドを形成するためにアニールを行う工程と、
次に、キャップ層を選択的に除去する工程と、
次に、未反応金属を選択的に除去する工程と、を含み、
キャップ層形成に用いられる温度は、アニール温度より低い方法を提供する。
好適には、本発明にかかる方法は、更に、未反応金属の除去後に、第２のアニール工程を含む。
本発明の方法において、ゲルマニウム層が基板全体の上に（基板を完全に覆うように）堆積（または形成）されても良い。
代わりに、ゲルマニウム層は、基板上に部分的に堆積（または形成）され、基板を部分的に覆っても良い。
好適には、基板上で、Ｇｅ層は、誘電体材料、ＴｉＮまたはＴａＮのような金属、必要とされるプロセス温度に耐えることができるポリマーを含む組から選択される材料からなる他の露出領域（または層）と接触し（または接し）、異なった露出材料は、ゲルマナイド化に用いられる金属と反応しない、特に、使用される金属がＮｉを含む（または、からなる）場合は、Ｎｉと反応しない。
好適には、他の露出した材料は誘電体材料であり、特に、他の露出した材料はＳｉＯ２である。
本発明の方法では、誘電体材料（他の露出した材料）は、フィールド分離領域またはスペーサのために、またはこれらの形態で用いられる。
好適には、本発明の方法では、アニール工程は、急速加熱プロセス（ＲＴＰ）工程からなる。このアニール工程は、水平拡散炉または垂直拡散炉のようなバッチ炉中で行うことができる。
アニール工程は、窒素のような不活性雰囲気中で行われる。
代わりに、本発明の方法では、キャップ層は、ＴｉＮからなる。
代わりに、本発明の方法では、キャップ層は、ＴａＮからなる。
好適には、本発明の方法では、キャップ層は、ＣＶＤ技術またはスピンオン堆積技術により堆積される。
好適には、本発明の方法では、シリコン窒化物を含む、またはシリコン窒化物からなるキャップ層は、ＰＥＣＶＤ技術により堆積される。
好適には、キャップ層は、（約）１００ｎｍの厚さより薄く、更に好適には（約）５０ｎｍの厚さより薄く、更に好適には（約）２０ｎｍの厚さより薄く、より好適には（約）１５ｎｍの厚さより薄く、更には（約）１０ｎｍの厚さである。
更に好適には、キャップ層の厚さは、（約）１ｎｍと（約）１００ｎｍの間に含まれ、好ましくは（約）２ｎｍと（約）５０ｎｍの間に含まれ、更に好ましくは（約）５ｎｍと（約）２０ｎｍの間に含まれ、更に好ましくは（約）７ｎｍと（約）１５ｎｍの間に含まれ、より好ましくは（約）１０ｎｍと（約）１５ｎｍの間に含まれる。
好適には、本発明の方法では、キャップ層を除去する工程は、ウエットプロセス工程である。
好適には、本発明の方法では、未反応金属を除去する工程は、ウエットプロセス工程である。
本発明の方法では、キャップ層を除去する工程および未反応金属を除去する工程は、同時に（１つの工程で）行われても良い。
本発明の方法では、金属は、半導体デバイスのゲルマナイド化に適した如何なる金属でも良い。
好適には、金属は、ニッケル、コバルト、プラチナ、および／またはパラジウムを含み、より好適には、ニッケル、コバルト、プラチナ、および／またはパラジウムからなる。
更に好適には、本発明の方法では、金属はＮｉを含み、特に、９０％より多くのＮｉを含み、より好適には金属はＮｉからなる。
好適には、金属がニッケルを含む（または、特にニッケルからなる）本発明の方法では、キャップ層の形成に用いられる温度は、３００℃より低く、好ましくは２６０℃より低く、更に好適には２５０℃より低く、より好適には２２５℃より低い。
好適には、金属がニッケルを含む（または、特にニッケルからなる）本発明の方法では、アニール温度は、３００℃より高い。特に、アニール温度は、３００℃と４５０℃の間に含まれ、好適には３２５℃と４００℃の間に含まれ、更に好適には３５０℃と４００℃の間に含まれる。
好適には、金属がニッケルを含む（または、特にニッケルからなる）本発明の方法では、第１のアニール工程は、２０５℃と３２５℃の間に含まれる温度、好適には２１０℃と２７５℃の間に含まれる温度、更に好適には２３０℃と２７０℃の間に含まれる温度で行われ、第２のアニール工程は、３００℃と５５０℃の間に含まれる温度、好適には３２５℃と４００℃の間に含まれる温度で行われる。
本発明の方法は、金属−ゲルマナイド層の特性を改良するために使用される。
本発明の方法は、また、半導体デバイス中の、金属−ゲルマナイド層の形成の改良のために、特にそのモフォロジーの改良のために、使用される。
本発明は、本発明の方法により得られる半導体デバイスに関する。
本発明は、本発明の方法を行う驚くべき発見に基づくものであり、アニールの前にＮｉ層およびＧｅ層の上にＳｉＯ２キャップ層の形成を含み、Ｇｅ層中のピットが無く、ニッケル−ゲルマナイドの過成長の無い表面を残し、低いシート抵抗を示すニッケル−ゲルマナイド層を提供する。
本発明の文脈中では、「ＲＴＰ工程」の用語は、一般的な意味に使用され、例えば１０℃／秒より大きな加熱速度のように温度が急に上昇するものであり、加熱手段としては、これらに限定されるものではなく、抵抗ワイヤ、ハロゲンランプ、フラッシュランプ、およびレーザーを含む、半導体デバイスプロセスを言う。
本発明の文脈中では、「ＲＴＰツール」の用語も、一般的な意味に使用され、これらに限定されるものではないが、抵抗ワイヤ、ハロゲンランプ、フラッシュランプ、およびレーザーにより加熱されるシステムを含み、（例えば、１０℃／秒より大きな）急な加熱速度が可能なすべての半導体プロセスツールを言う。
本発明は、半導体デバイス中に金属ゲルマナイド層を形成する場合に、ピット、過成長、または突起物のような欠陥を防止する方法であって、
その上に、ゲルマニウム層の少なくとも１つの領域が露出した基板を提供する工程と、
基板およびゲルマニウム領域の上に適当な金属、更に好適にはＣｏまたはＮｉを堆積させる工程と、
シリコン酸化物含有層、シリコン窒化物層、またはタングステン層、好適にはＳｉＯ２層からなるキャップ層を、金属上に形成する工程と、
次に、金属−ゲルマナイドを形成するためにアニールする工程と、
次に、キャップ層を選択的に除去する工程と、を含み、
キャップ層の形成に使用される温度は、アニール温度より低い方法を提供する。
その上に、ゲルマニウム層の少なくとも１つの領域が露出した基板を提供する工程と、
基板およびゲルマニウム領域の上に適当な金属、更に好適にはＣｏまたはＮｉを堆積させる工程と、
シリコン酸化物含有層、シリコン窒化物層、またはタングステン層、好適にはＳｉＯ２層からなるキャップ層を、金属上に形成する工程と、
次に、金属−ゲルマナイドを形成するためにアニールする工程と、
次に、キャップ層を選択的に除去する工程と、を含み、
キャップ層の形成に使用される温度は、アニール温度より低い方法を提供する。
基板は、バルクゲルマニウムウエハ、ゲルマニウム・オン・インシュレータウエハ、シリコンのような他の基板上に堆積されたＧｅ層を含む、Ｇｅベース活性層を有する基板でも良い。
好適には、基板は、誘電体領域に接する（または接続する）露出したゲルマニウム領域を含む。
誘電体領域は、フィールド分離領域またはスペーサであっても良い。
高さの違いまたは形状上のステップが、ゲルマニウム領域の露出した表面と誘電体領域との間に存在しても良い。基板は、分離領域により分離されたゲルマニウム活性領域を含むパターニングされたウエハでも良い。分離領域は、フィールド分離領域とも呼ばれ、ボックス（ｂｏｘ）分離やシャロートレンチ分離（ＳＴＩ）のような様々な技術の１つにより形成される。
好適には、ボックス分離の場合、このゲルマニウム層の領域を露出するために、ゲルマニウム層を覆う酸化層中に、ドライまたはウエットエッチングにより開口部が形成される。この場合、ゲルマニウム活性領域の間のＳｉＯ２分離は、ゲルマニウム基板上にＳｉＯ２層を堆積させ、パターニングすることにより得られる。
好適には、シャロートレンチ分離の場合、基板中にドライエッチングで形成される溝は誘電体層により充填され、電気的な分離を提供する。
ゲルマニウムは、アモルファスまたは結晶状態でも良い。
露出した領域のゲルマニウムは、半導体プロセスに適した、いくらかの他の材料を含んでも良い。特に、ゲルマニウムは、シリコンのような半導体材料を含んでも良い。
例えば、ゲルマニウム領域が、ゲルマニウム凝縮技術の手段により形成された場合、約１５％までのシリコンが、このようにして形成されたゲルマニウム層の中に存在する。
ゲルマニウムは、砒素、リン、アンチモン、ホウ素、およびガリウムのようなドーパントを含んでも（更に含んでも）よい。ゲルマニウムは、また、炭素（Ｃ）やフッ素（Ｆ）のような半導体プロセスで一般に使用される他の元素を含んでも（更に含んでも）よい。ゲルマニウムは、また、窒素（Ｎ）を含んでも（更に含んでも）よい。
本発明の方法では、基板全体の上に（基板を完全に覆うように）、ゲルマニウム層が堆積されても（形成されても）良い。代わりに、ゲルマニウム層が、基板の上に部分的に堆積され（形成され）、基板を部分的に覆っても良い。
ゲルマニウム活性領域は、１またはそれ以上の半導体デバイスを含んでも良い。
半導体デバイスが電界効果トランジスタの場合、ゲルマニウム活性領域は、ゲート電極とゲート誘電体の積層を含んでも良い。このゲートスタックは、ゲルマニウム基板上に形成され、これにより、チャネル領域が規定される
ゲート誘電体は、酸化物、窒化酸化物（nitrided oxide）、酸窒化物（oxynitride）、または酸化ハフニウムや酸化アルミニウムのようなｈｉｇｈ−ｋ誘電体（即ちｋ＞ｋ（ＳｉＯ２））でも良い。
ゲート電極は、ポリシリコン、シリコンゲルマニウム、ゲルマニウムのような半導体材料から形成され、またはＴｉＮ、ＴａＮ、およびＷのような金属材料から形成されても良い。
ゲートスタック分離は横方向にソース電極とドレイン電極を分離し、これらはチャネル領域の対向する横側に接する。
ゲートスタックに対して、ソース領域およびドレイン領域をチャネル領域からオフセットするように、誘電体の側壁スペーサが形成されても良い。それらの側壁スペーサは、例えば、シリコン酸化物、シリコン窒化物、および／またはシリコン炭化物から形成される。
本発明の方法では、金属層が基板上に堆積される。
好適には、金属層は、全ての好適な金属、特に好適には、ニッケル（Ｎｉ）、またはコバルト（Ｃｏ）を含む（からなる）。
金属の合金も、本発明の方法で使用される。好適には、合金は、約５０％またはそれ以上のその金属を含む。
好適には、金属はニッケルを含み、特に５０％より多いニッケル、好適には（約）９０％より多いニッケルを含む。
金属は、白金（Ｐｔ）および／またはパラジウム（Ｐｄ）を含んでもよく、更に含んでも良く、またはこれらからなっても良い。特に、金属は、プラチナ、パラジウム、およびニッケルを含んでも良い（からなっても良い）。特に、金属は、パラジウムおよびニッケル、例えば９０％ニッケルおよび１０％パラジウムを含んでも良い（からなっても良い）。
金属層は、公知の層堆積技術、特に、化学気相成長やスパッタを用いて形成される。
金属層の厚みは、ゲルマナイド形成プロセスの完了後に、所望の金属／ゲルマニウム比と所望の厚みを有するゲルマナイド層が得られるように選択される。
本発明の方法では、キャップ層は、シリコン酸窒化物（ＳｉＯＮ）（ここでは、シリコン、酸素、及び窒素からなる材料とよぶ）、炭化シリコン酸化物（ＳｉＯＣ）（ここでは、シリコン、酸素、及び炭素からなる材料とよぶ）、弗化シリコン酸化物（ＳｉＯＦ）（ここでは、シリコン、酸素、及び弗素からなる材料とよぶ）、のようなシリコン酸化物含有材料からなる。
好適には、キャップ層は、ＳｉＯ２層からなる。
代わりに、本発明の方法では、キャップ層は、ここではシリコンと窒素からなる材料とよばれる、シリコン窒化物層から形成されて良い。特に、キャップ層は、Ｓｉ３Ｎ４のような（Ｓｉ３Ｎ４−ｌｉｋｅ）（または、ＳｉｘＮｙ、または不純物のあるＳｉ３Ｎ４とよばれる）材料、ここでは、（本質的に）シリコンと窒素からなる材料とよばれる、ｘは３とは異なり、ｙは４とは異なる材料、からなる。キャップは、Ｓｉ３Ｎ４でも良いが、純粋なＳｉ３Ｎ４は、Ｓｉ３Ｎ４のような材料より選択的に除去するのが困難である。
代わりに、本発明の方法では、キャップ層はタングステン（Ｗ）層からなる。
代わりに、本発明の方法では、キャップ層は窒化チタン（ＴｉＮ）層からなる。
代わりに、本発明の方法では、キャップ層は窒化タンタル（ＴａＮ）層からなる。
本発明の方法では、キャップ層は、ゲルマナイド化（germanidation）のアニール温度より低い温度で堆積される。
キャップ層は、公知の適当なプロセスにより堆積され、より好適には、ＣＶＤプロセスまたはスパッタ堆積プロセスにより堆積される。
堆積技術の更なる例としては、プラズマ強化化学気相成長（ＰＥＣＶＤ）、原子層ＣＶＤ（または、原子層堆積として知られる）、原子気相成長、または有機金属ＣＶＤ（ＭＯＣＶＤ）を含む。
それらの技術は、物理気相成長（ＰＶＤ）を含み、更には、スパッタ、蒸着、分子線エピタキシ（または分子線成長）（ＭＢＥ）、またはジェット堆積を含む。
それらの技術は、また、スピンオン堆積や電気メッキのようなウエットプロセスを含む。
好適には、本発明の方法において、キャップ層は、１００ｎｍより小さい厚みであり、好適には５０ｎｍより小さく、更に好適には２０ｎｍより小さく、更には１５ｎｍより小さく、更には約１０ｎｍである。
更に好適には、本発明の方法では、キャップ層は、１ｎｍと１００ｎｍの間、好適には２ｎｍと５０ｎｍの間、更に好適には５ｎｍと２０ｎｍの間、より好適には７ｎｍと１５ｎｍの間、特に好適には１０ｎｍと１５ｎｍの間に含まれる厚みを有する。
好適には、（ゲルマナイド化のための）アニール工程は、例えばＲＴＰツールや、水平拡散炉または垂直拡散炉のようなバッチ炉のような、熱処理ツールで行われる。
本発明の方法では、キャップ層は、公知の適当な技術により選択的に除去される。
好適には、キャップ層は、ウエットエッチングにより、特に弗化水素酸（ＨＦ）を含む成分、特に、ＨＦの希釈溶液（例えば０．０３ＭのＨＦ溶液）を用いて選択的に除去される。
本発明の方法では、ＳｉＯ２がキャップ層に用いられた場合、選択除去は、弗化水素酸（ＨＦ）を含む成分を用いて行われ、好適には、水で希釈され、好適には、０．０３体積％から２体積％のＨＦ濃度を用いて行われる。バッファ溶剤には、例えば弗化アンモニウム（ＮＨ４Ｆ）が加えられる。
本発明の方法では、Ｗがキャップ層に用いられた場合、選択除去は、１００℃以下の、ＢＣｌ３を用いたドライエッチングで行われる。選択除去は、ウエットエッチングで行われても良い。
本発明の方法では、ＴｉＮがキャップ層に用いられた場合、選択除去は、ウエット硫酸エッチングにより行われる。特に、ウエット硫酸エッチングは、Ｇｅに対して、ＴｉＮと未反応のＮｉの選択的な除去を可能とする。
本発明の方法では、金属の選択的除去工程は、公知の技術を用いて行われても良い。
金属の選択的な除去工程の条件は、堆積された金属や、基板上に存在する他の材料に依存する。
D. Bruncoらは、全体を引用することによりここに含まれる、"Germanium MOSFET Device: Advances in Material Understanding, Process Development, and Electrical Performance"（Journal of Electrochemical Society 発行、155(7), H552-H561 (2008)）において、様々な化学物質に対するゲルマニウムのエッチング速度を、表Ｉに示している。キャップおよびに反応金属を選択的に除去するための化学物質は、ゲルマニウムに対して、０もしくは低いエッチング速度（＜１ｎｍ／分）であることが好ましい。
好適には、金属は、ウエットエッチングにより選択的に除去される。
例えば、金属は、ＨＦ、ＨＣｌ、ＨＢｒ、およびＨＩからなる組から選択される、少なくとも１つのハロゲン化水素の水溶液を含む成分を用いて、選択的に除去される。この成分は、更に、Ｈ２ＳＯ４の溶液、および／またはＮＨ４ＯＨの溶液、および／またはＨ３ＰＯ４の溶液を含んでも良い。
この成分は、更に、ＨＮＯ３の溶液を含んでも良い。特に、この成分は、ＨＣｌおよびＨＮＯ３を含んでも良い。
特に、金属は、塩酸（ＨＣｌ）を含む成分、特に、ＨＣｌの希釈溶液（例えば、５５℃の１０体積％ＨＣｌ溶液）を用いて選択的に除去される。
本発明の方法は、金属の選択的な除去の後に、第２のアニール工程を含んでも良い。
この場合、第１のアニール温度は、好適には２００℃と４００℃の間、より好適には２００℃と３２５℃との間に含まれ、ほぼ０秒（例えば１ミリ秒）から３００秒、好適には１０秒から６０秒の間の時間、行われる。
好適には、第１の熱工程（または、第１のアニール工程）の温度は、２０５℃と３２５℃の間である。更に好適には、第１の熱工程の温度は、２１０℃と２７５℃の間である。より好適には、第１の熱工程の温度は、２３０℃と２７０℃の間である。
第２の熱工程（または、第２のアニール工程）の温度は、２８０℃と５５０℃の間で、例えば時間は６００秒より短く、好適には、１ミリ秒と３００秒の間も含まれる。
更に好適には、第２アニール温度は、３００℃から５００℃に範囲であり、これにより、ゲルマナイド層の抵抗が、要求される特性に合うように低減される。更に好適には、第２のアニール温度は、３２５℃から４００℃の範囲である。
本発明の好適な方法では、Ｎｉが使用される金属である。
本発明の好適な方法では、キャップ層の堆積温度は、３００℃より低く、好適には２５０℃より低く、更に好適には２２５℃より低い。
本発明の好適な方法では、アニール工程の温度は、３００℃より高い。好適には、アニール温度は３００℃と５５０℃の間に含まれ、更に好適には、３２５℃と４００℃の間に含まれ、より好適には３５０℃と４００℃の間に含まれる。
好適には、所定の温度に到達し、全体の時間が６００秒より短い時間、好適には１ミリ秒と３００秒の間に含まれる時間、維持される。
代わりに、本発明の好適な方法は、第１のアニール工程（キャップ層をＮｉの上に形成する工程と、キャップ層を選択的に除去する工程との間）と第２のアニール工程（未反応のＮｉを選択的に除去する工程の後）を含んでも良い。
第１のアニール工程は、好適には、２０５℃と４００℃の間、更に好適には、２５０℃と３５０℃の間に、より好適には２７０℃と３３０℃の間に含まれる温度で行われる。
第２のアニール工程は、好適には、３００℃と５５０℃の間、更に好適には、３２５℃と４００℃の間に含まれる温度で行われる。
キャップ層の堆積は、Ｎｉがニッケルゲルマナイドに変わり始める温度（約２５０℃と３００℃の間）を含んでも良い。このように、キャップ層の堆積中に形成されたニッケルゲルマナイド層は、ニッケルリッチのゲルマナイド相、特にＮｉ５Ｇｅ３を含む。この場合、アニール工程は反応を完成させ、好ましくは、ゲルマナイド相が本質的にモノニッケル−ゲルマナイド（ＮｉＧｅ）になるように行われる。この場合、キャップ層は保護する役割を果たし、デバイスの欠陥を無くす。
Ｎｉは、適当な公知の技術により、選択的に除去される。
例えば、硝酸（ＨＮＯ３）、硫酸（Ｈ２ＳＯ４）、および水（Ｈ２Ｏ）からなる成分が、室温で用いられる。硝酸の体積濃度は０．１％で、硫酸の体積濃度は５２．９％で、水の体積濃度は４７％でも良い。
好適には、ウエットエッチングにより、特に塩酸を含む成分、更にはＨＣｌの希釈溶液（例えば、５５℃の、１０体積％のＨＣｌ溶液）を用いて、Ｎｉが選択的に除去される。
本発明のより好適な方法では、Ｎｉが金属として使用され、キャップ層はＳｉＯ２を含む。
ＳｉＯ２キャップ層は、適当な公知の技術により、選択的に除去される。
好適には、ＳｉＯ２キャップ層は、ウエットエッチングにより、特に沸酸（ＨＦ）を含む成分を用いて、更にはＨＦの希釈溶液（例えば、０．０３ＭのＨＦ溶液）を用いて選択的に除去される。
本発明のより好適な方法では、未反応のニッケルとＳｉＯ２キャップ層とが、１つの工程で選択的に除去される。特に、未反応のニッケルとＳｉＯ２キャップ層は、ＨＣｌとＨＦの双方を含む成分を用いて除去される。好適には、未反応のニッケルの除去とＳｉＯ２キャップ層の除去は、連続して、それぞれ、ＳｉＯ２除去のために希釈されたＨＦ溶液、ニッケル除去のために希釈されたＨＣｌが用いられる。
本発明の方法を行った結果、また本発明の目的として、誘電体領域（２、４）に接するゲルマニウム領域の上に金属−ゲルマナイドを含み、ゲルマナイド−誘電体領域（４）の近傍のゲルマナイド領域中にピットは（本質的に）存在せず、（本質的に）望まないゲルマナイドが誘電体領域（２、４）の上に存在しない基板が得られる。
図１は、境界領域（４）の表示とともに、ゲルマニウム基板（１）、分離領域（２）、および金属層（３）を示す断面図であり、キャップ層の体積前における本発明の方法を示す。領域（５）は、Ｂｏｘ分離から離れている。
図２は、従来の方法により、パターニングされた基板上に形成されたニッケルゲルマナイド層の走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）写真である。
約１０ｎｍのニッケルが、誘電体領域に隣接する、露出したゲルマニウム表面を含む基板上に堆積された。
この基板は、約３６０℃で約３０秒間加熱される。未反応のニッケルは、基板から選択的にウエットエッチングされた。約３４０℃で約３５秒間加熱した場合に、非常に類似した結果が得られる。
この写真は、３５°傾けられた、基板のゲルマナイド化された表面から撮影された。この写真は、分離領域（２）の近傍の、活性領域（８）に形成されたピット（７）を明確に示す。ピット（７）の近傍に、ゲルマナイドの過成長（６）が、分離の上に観察される。
図３は、本発明の方法を行った後における、パターニングした基板上に形成されたニッケルゲルマナイド層の走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）写真を示す（実施例２参照）。
図４は、本発明にかかるゲルマナイド層を形成するためのプロセスを示すフローチャートである。
実施例１．
エピタキシャルＧｅ層を、（ＡＳＭ（登録商標）エピタキシャルリアクタを用いて）Ｓｉウエハの上に成長される。
エピタキシャルＧｅ層を、（ＡＳＭ（登録商標）エピタキシャルリアクタを用いて）Ｓｉウエハの上に成長される。
１０ｎｍの厚さのＮｉ層が、Ｇｅ層の上に堆積される。
１０ｎｍの厚さのＳｉＯ２キャップ層が、２５０℃で形成される。
未反応のＮｉとＳｉＯ２キャップ層が、希釈されたＨＣｌ溶液と希釈されたＨＦ溶液の混合を含むバスに浸責されて、除去される。
全てのアニールが、ＡＳＴ（登録商標）ツールの中で行われる。
３３０℃のアニール温度を用いて、ＳｉＯ２キャップ層は、ＧｅピットとＢｏｘ分離上の過成長を抑制する。しかも、測定された抵抗シートは、ＳｉＯ２キャップ層無しで測定された値よりも低くなる。
類似の結果が、３５０℃のアニール温度を適用した場合に観察される。
実施例２．
エピタキシャルＧｅ層を、（ＡＳＭ（登録商標）エピタキシャルリアクタを用いて）Ｓｉウエハ上に成長させる。
エピタキシャルＧｅ層を、（ＡＳＭ（登録商標）エピタキシャルリアクタを用いて）Ｓｉウエハ上に成長させる。
１０ｎｍの厚さのＮｉ層が、Ｇｅ層の上に堆積される。
１０ｎｍの厚さまたは２０ｎｍの厚さのＳｉＯ２キャップ層が、２００℃または２５０℃のいずれかで形成される。
未反応のＮｉとＳｉＯ２キャップ層が、希釈されたＨＣｌ溶液と希釈されたＨＦ溶液の混合を含むバスに浸責されて、除去される。
全てのアニールが、ＡＳＴ（登録商標）ツールの中で、３３０℃の温度で行われる。
ＳｉＯ２キャップ層無しで得られた試料と比較して、ＳｉＯ２キャップ層を有する試料では、殆ど欠陥を有さず、より低いシート抵抗を示す。
実施例３．
エピタキシャルＧｅ層を、（ＡＳＭ（登録商標）エピタキシャルリアクタを用いて）Ｓｉウエハ上に成長させる。
エピタキシャルＧｅ層を、（ＡＳＭ（登録商標）エピタキシャルリアクタを用いて）Ｓｉウエハ上に成長させる。
この具体例では、エピタキシャルゲルマニウム層は、弛緩（または緩和）され、約１．７μｍの膜厚となる。
分離領域は、ゲルマニウム表面の上にシリコン酸化層を堆積しパターニングすることにより形成され、これにより、厚さが２５０ｎｍのＳｉＯ２のパターニングされた層が形成される。
ウエハリンスからなる洗浄工程が行われ、ゲルマニウム酸化物が溶解される。
１０ｎｍの厚さのＮｉ層が、Ｇｅ層の上に堆積される。
Ｎｉ層は、スパッタとして知られる、物理気相成長（ＰＶＤ）により形成される。
１０ｎｍの厚さのＳｉＯ２キャップ層が、２５０℃で形成される。
ＳｉＯ２キャップ層は、ＳｉＨ４とＮ２Ｏ前駆体を用いたプラズマ強化化学気相成長（ＰＥＣＶＤ）を用いて形成される。
未反応のＮｉとＳｉＯ２キャップ層が、希釈されたＨＣｌ溶液と希釈されたＨＦ溶液の混合を含むバスに浸責されて、除去される。
全てのアニールが、ＡＳＴ（登録商標）ＲＴＰツールの中で行われる。
３３０℃のアニール温度を用いて、ＳｉＯ２キャップ層は、Ｇｅピットと分離領域（２）上の過成長を抑制する。しかも、測定された抵抗シートは、ＳｉＯ２キャップ層無しで測定された値よりも低くなる。
類似の結果が（形状およびシート抵抗について）、３４０℃または３５０℃のアニール温度で約３０秒を適用した場合に観察される。
実施例４．
エピタキシャルＧｅ層を、（ＡＳＭ（登録商標）エピタキシャルリアクタを用いて）Ｓｉウエハ上に成長させる。
エピタキシャルＧｅ層を、（ＡＳＭ（登録商標）エピタキシャルリアクタを用いて）Ｓｉウエハ上に成長させる。
この具体例では、エピタキシャルゲルマニウム層は、弛緩（または緩和）され、約１．７μｍの膜厚となる。
分離領域は、ゲルマニウム表面の上にシリコン酸化層を堆積しパターニングすることにより形成され、これにより、厚さが２５０ｎｍのＳｉＯ２のパターニングされた層が形成される。
ウエハリンスからなる洗浄工程が行われ、ゲルマニウム酸化物が溶解される。
１０ｎｍの厚さのＮｉ層が、Ｇｅ層の上に堆積される。
Ｎｉ層は、ＰＶＤにより形成される。
１０ｎｍの厚さまたは２０ｎｍの厚さのＳｉＯ２キャップ層が、それぞれ２００℃または２５０℃で形成される。
ＳｉＯ２キャップ層は、ＰＥＣＶＤを用いて形成される。
未反応のＮｉとＳｉＯ２キャップ層が、希釈されたＨＣｌ溶液と希釈されたＨＦ溶液の混合を含むバスに浸責されて、除去される。
全てのアニールが、ＡＳＴ（登録商標）ＲＴＰツールの中で、３３０℃の温度で行われる。
ＳｉＯ２キャップ層無しで得られた試料と比較して、ＳｉＯ２キャップ層を有する試料では、殆ど欠陥を有さず、同等またはより低いシート抵抗を示す。
様々な具体例について、以下の図面を参照しながら説明する。図面の外観は、明確化のために、単純化して描かれている。図面中には、全ての代替えや選択肢は示されず、それゆえに、本発明は、図面の内容の範囲に限定されるものでは無い。同様の符号は、異なる図面において同様の部分を表すために用いられる。
Claims (20)
- 半導体デバイス中に金属ゲルマナイド層を形成する過程で、ピット、過成長、または突出物のような欠陥を防止する方法であって、
少なくとも１つのゲルマニウム層の領域と、ゲルマニウム層と接触した誘電体材料からなる他の領域とがその上に露出した基板を提供する工程と、
基板と、ゲルマニウム層の領域と、誘電体材料からなる他の領域の上に、誘電体材料と反応しない金属を堆積させる工程と、
金属の上に、シリコン酸化物含有層またはシリコン窒化物層からなるキャップ層を形成する工程と、
次に、金属ゲルマナイドを形成するためにアニールを行う工程と、
次に、キャップ層を選択的に除去する工程と、
次に、未反応金属を選択的に除去する工程と、を含み、
キャップ層の形成に用いられる温度は、アニール温度より低い方法。 - 更に、未反応金属の除去後に、第２のアニール工程を含む請求項１に記載の方法。
- 誘電体材料が、ＳｉＯ２である請求項１に記載の方法。
- 誘電体材料が、フィールド分離領域またはスペーサとして用いられる請求項１に記載の方法。
- アニール工程は、急速加熱プロセス（ＲＴＰ）工程からなる請求項１〜４のいずれかに記載の方法。
- アニール工程は、バッチ炉中で行われる請求項１〜４のいずれかに記載の方法。
- アニール工程は、窒素雰囲気中で行われる請求項５または６に記載の方法。
- キャップ層は、ＣＶＤ技術またはスピンオン堆積技術により堆積される請求項１〜７のいずれかに記載の方法。
- シリコン窒化物キャップ層は、ＰＥＣＶＤ技術により堆積される請求項１〜８のいずれかに記載の方法。
- キャップ層は、１００ｎｍの厚さより薄い請求項１〜９のいずれかに記載の方法。
- キャップ層を除去する工程は、ウエットプロセス工程である請求項１〜１０のいずれかに記載の方法。
- 未反応金属を除去する工程は、ウエットプロセス工程である請求項１〜１１のいずれかに記載の方法。
- キャップ層を除去する工程および未反応金属を除去する工程は、同時に行われる請求項１〜１２のいずれかに記載の方法。
- ゲルマナイド化のための金属は、Ｎｉを含む請求項１〜１３のいずれかに記載の方法。
- ゲルマナイド化のための金属は、Ｎｉからなる請求項１〜１３のいずれかに記載の方法。
- ゲルマナイド化のための金属は、ニッケル、コバルト、プラチナ、および／またはパラジウムを含む請求項１〜１３のいずれかに記載の方法。
- 金属は、９０％のニッケルおよび１０％のパラジウムを含む請求項１４に記載の方法。
- キャップ層の形成に用いられる温度は、３００℃より低い請求項１５に記載の方法。
- アニール温度は、３００℃より高い請求項１５または１８に記載の方法。
- アニール温度は、３００℃と４５０℃の間に含まれる請求項１５または１８に記載の方法。
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