JP5651408B2 - α−オレフィン重合用固体触媒成分、α−オレフィン重合用触媒およびα−オレフィン重合体又は共重合体の製造方法 - Google Patents
α−オレフィン重合用固体触媒成分、α−オレフィン重合用触媒およびα−オレフィン重合体又は共重合体の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5651408B2 JP5651408B2 JP2010185768A JP2010185768A JP5651408B2 JP 5651408 B2 JP5651408 B2 JP 5651408B2 JP 2010185768 A JP2010185768 A JP 2010185768A JP 2010185768 A JP2010185768 A JP 2010185768A JP 5651408 B2 JP5651408 B2 JP 5651408B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- component
- group
- compounds
- titanium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000004711 α-olefin Substances 0.000 title claims description 102
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 title claims description 95
- 239000011949 solid catalyst Substances 0.000 title claims description 52
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 title claims description 17
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 10
- 229920000089 Cyclic olefin copolymer Polymers 0.000 title claims description 5
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 title description 63
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 168
- -1 magnesium halide compound Chemical class 0.000 claims description 124
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 claims description 60
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 53
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 50
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 claims description 49
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 48
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 43
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 43
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 43
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 claims description 21
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 20
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 18
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 17
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 claims 1
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229940125782 compound 2 Drugs 0.000 claims 1
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 78
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical class CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 76
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 63
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 description 46
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 36
- 150000002681 magnesium compounds Chemical class 0.000 description 35
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 34
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 23
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 23
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 21
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 20
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 20
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 20
- TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L Magnesium chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].[Cl-] TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 19
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 19
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 19
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 19
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 18
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 18
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 17
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 17
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 16
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 15
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 14
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 14
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 14
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 14
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 14
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 14
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 14
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 14
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 13
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 13
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 13
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 13
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 12
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 12
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 11
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 11
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 11
- QKUYGDPPUKAFKC-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-1-methylsilolane Chemical compound C=C[Si]1(C)CCCC1 QKUYGDPPUKAFKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 10
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 10
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910001629 magnesium chloride Inorganic materials 0.000 description 9
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000008569 process Effects 0.000 description 9
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 9
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 8
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 8
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 7
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 7
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 7
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 7
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 7
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 7
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 7
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 7
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 7
- URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N Para-Xylene Chemical group CC1=CC=C(C)C=C1 URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 6
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 6
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 6
- AYKWKANXWIHKPA-UHFFFAOYSA-N 1,1-bis(ethenyl)silolane Chemical compound C=C[Si]1(C=C)CCCC1 AYKWKANXWIHKPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- QRXKTFMEGYFNKG-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-1-ethenylsilolane Chemical compound Cl[Si]1(CCCC1)C=C QRXKTFMEGYFNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 5
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 5
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 5
- 230000002140 halogenating effect Effects 0.000 description 5
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 5
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 5
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 5
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 5
- 230000037048 polymerization activity Effects 0.000 description 5
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 5
- WKLZGNWZCKRXQP-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-1-methylsiletane Chemical compound C=C[Si]1(C)CCC1 WKLZGNWZCKRXQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011954 Ziegler–Natta catalyst Substances 0.000 description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 4
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 4
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 4
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N dibutyl phthalate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- 238000005469 granulation Methods 0.000 description 4
- 230000003179 granulation Effects 0.000 description 4
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 4
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 4
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 4
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 4
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 4
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 4
- ZZGQALWDZNXXIX-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-1-ethenylsilinane Chemical compound C=C[Si]1(CCCCC1)Cl ZZGQALWDZNXXIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RGHIYOCUMCUWAQ-UHFFFAOYSA-N 3,3-bis(methoxymethyl)-2,5-dimethylhexane Chemical compound COCC(COC)(CC(C)C)C(C)C RGHIYOCUMCUWAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1-pentene Chemical compound CC(C)CC=C WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWINORFLMHROGF-UHFFFAOYSA-N 9,9-bis(methoxymethyl)fluorene Chemical compound C1=CC=C2C(COC)(COC)C3=CC=CC=C3C2=C1 ZWINORFLMHROGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical class OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- FPCJKVGGYOAWIZ-UHFFFAOYSA-N butan-1-ol;titanium Chemical compound [Ti].CCCCO.CCCCO.CCCCO.CCCCO FPCJKVGGYOAWIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 3
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 3
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 3
- 230000026030 halogenation Effects 0.000 description 3
- 238000005658 halogenation reaction Methods 0.000 description 3
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 3
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 3
- QUXHCILOWRXCEO-UHFFFAOYSA-M magnesium;butane;chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].CCC[CH2-] QUXHCILOWRXCEO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 125000004184 methoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 3
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 3
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 3
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 239000012265 solid product Substances 0.000 description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 3
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 3
- BEDHCUAJOBASSZ-UHFFFAOYSA-N (2-cyclopentyl-1,3-dimethoxypropan-2-yl)cyclopentane Chemical compound C1CCCC1C(COC)(COC)C1CCCC1 BEDHCUAJOBASSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UKDOTCFNLHHKOF-FGRDZWBJSA-N (z)-1-chloroprop-1-ene;(z)-1,2-dichloroethene Chemical group C\C=C/Cl.Cl\C=C/Cl UKDOTCFNLHHKOF-FGRDZWBJSA-N 0.000 description 2
- RXRBFWPLBQOHAL-UHFFFAOYSA-N 1,1-bis(ethenyl)silinane Chemical compound C=C[Si]1(C=C)CCCCC1 RXRBFWPLBQOHAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical class C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UUAMLBIYJDPGFU-UHFFFAOYSA-N 1,3-dimethoxypropane Chemical compound COCCCOC UUAMLBIYJDPGFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical compound CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RKMGAJGJIURJSJ-UHFFFAOYSA-N 2,2,6,6-tetramethylpiperidine Chemical compound CC1(C)CCCC(C)(C)N1 RKMGAJGJIURJSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YIWUKEYIRIRTPP-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexan-1-ol Chemical compound CCCCC(CC)CO YIWUKEYIRIRTPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AQZWEFBJYQSQEH-UHFFFAOYSA-N 2-methyloxaluminane Chemical compound C[Al]1CCCCO1 AQZWEFBJYQSQEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FJZBADSJNSFVDO-UHFFFAOYSA-N 3,3-bis(methoxymethyl)-2,4-dimethylpentane Chemical compound COCC(C(C)C)(C(C)C)COC FJZBADSJNSFVDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BHPDSAAGSUWVMP-UHFFFAOYSA-N 3,3-bis(methoxymethyl)-2,6-dimethylheptane Chemical compound COCC(C(C)C)(COC)CCC(C)C BHPDSAAGSUWVMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YHQXBTXEYZIYOV-UHFFFAOYSA-N 3-methylbut-1-ene Chemical compound CC(C)C=C YHQXBTXEYZIYOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PVWCLOAAEFMTLH-UHFFFAOYSA-N 4,4-bis(methoxymethyl)-2,6-dimethylheptane Chemical compound COCC(COC)(CC(C)C)CC(C)C PVWCLOAAEFMTLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCMOYKTUGXFDHI-UHFFFAOYSA-N C(=CCC)[Si]1(CCCC1)C Chemical compound C(=CCC)[Si]1(CCCC1)C HCMOYKTUGXFDHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- NBBJYMSMWIIQGU-UHFFFAOYSA-N Propionic aldehyde Chemical compound CCC=O NBBJYMSMWIIQGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910003902 SiCl 4 Inorganic materials 0.000 description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910003088 Ti−O−Ti Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical class [AlH3] AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N benzaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CC=C1 HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYXKZNLBZKRYSS-UHFFFAOYSA-N benzene-1,2-dicarbonyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=CC=C1C(Cl)=O FYXKZNLBZKRYSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WGQKYBSKWIADBV-UHFFFAOYSA-N benzylamine Chemical compound NCC1=CC=CC=C1 WGQKYBSKWIADBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 2
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004581 coalescence Methods 0.000 description 2
- 238000010668 complexation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- MGNZXYYWBUKAII-UHFFFAOYSA-N cyclohexa-1,3-diene Chemical compound C1CC=CC=C1 MGNZXYYWBUKAII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N dibutylamine Chemical compound CCCCNCCCC JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FLKPEMZONWLCSK-UHFFFAOYSA-N diethyl phthalate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC FLKPEMZONWLCSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JQCXWCOOWVGKMT-UHFFFAOYSA-N diheptyl phthalate Chemical compound CCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCC JQCXWCOOWVGKMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MGWAVDBGNNKXQV-UHFFFAOYSA-N diisobutyl phthalate Chemical compound CC(C)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(C)C MGWAVDBGNNKXQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 125000006038 hexenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003701 inert diluent Substances 0.000 description 2
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 2
- ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L magnesium carbonate Chemical compound [Mg+2].[O-]C([O-])=O ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000001095 magnesium carbonate Substances 0.000 description 2
- 229910000021 magnesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- HQKMJHAJHXVSDF-UHFFFAOYSA-L magnesium stearate Chemical compound [Mg+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O HQKMJHAJHXVSDF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- XDKQUSKHRIUJEO-UHFFFAOYSA-N magnesium;ethanolate Chemical compound [Mg+2].CC[O-].CC[O-] XDKQUSKHRIUJEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010297 mechanical methods and process Methods 0.000 description 2
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002901 organomagnesium compounds Chemical class 0.000 description 2
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000005022 packaging material Substances 0.000 description 2
- 125000002255 pentenyl group Chemical group C(=CCCC)* 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 2
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N succinic acid Chemical compound OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 2
- 229920000576 tactic polymer Polymers 0.000 description 2
- UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutyl silicate Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YONPGGFAJWQGJC-UHFFFAOYSA-K titanium(iii) chloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)Cl YONPGGFAJWQGJC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N triethylaluminium Chemical compound CC[Al](CC)CC VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCULRUJILOGHCJ-UHFFFAOYSA-N triisobutylaluminium Chemical compound CC(C)C[Al](CC(C)C)CC(C)C MCULRUJILOGHCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- MEPSBRTXOHFWCF-UHFFFAOYSA-N (2-cyclohexyl-1,3-dimethoxypropan-2-yl)cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1C(COC)(COC)C1CCCCC1 MEPSBRTXOHFWCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LAGGTOBQMQHXON-GGWOSOGESA-N (2e,6e)-octa-2,6-diene Chemical compound C\C=C\CC\C=C\C LAGGTOBQMQHXON-GGWOSOGESA-N 0.000 description 1
- PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N (E)-1,3-pentadiene Chemical compound C\C=C\C=C PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N 0.000 description 1
- DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N (R)-(-)-Propylene glycol Chemical class C[C@@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N 0.000 description 1
- PPTXVXKCQZKFBN-UHFFFAOYSA-N (S)-(-)-1,1'-Bi-2-naphthol Chemical compound C1=CC=C2C(C3=C4C=CC=CC4=CC=C3O)=C(O)C=CC2=C1 PPTXVXKCQZKFBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 1,1,3,3-tetramethylurea Chemical compound CN(C)C(=O)N(C)C AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWKSYUQKQMJIIU-UHFFFAOYSA-N 1,1-bis(ethenyl)siletane Chemical compound C=C[Si]1(C=C)CCC1 AWKSYUQKQMJIIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFMBYFXYRLFVPN-UHFFFAOYSA-N 1,1-bis[methoxy(phenyl)methyl]indene Chemical compound C1=CC2=CC=CC=C2C1(C(OC)C=1C=CC=CC=1)C(OC)C1=CC=CC=C1 UFMBYFXYRLFVPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYSGHNMQYZDMIA-UHFFFAOYSA-N 1,3-Dimethyl-2-imidazolidinon Chemical compound CN1CCN(C)C1=O CYSGHNMQYZDMIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PRBHEGAFLDMLAL-UHFFFAOYSA-N 1,5-Hexadiene Natural products CC=CCC=C PRBHEGAFLDMLAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCTKUNIIBPPKNV-UHFFFAOYSA-N 1,8-dichloro-9,9-bis(methoxymethyl)fluorene Chemical compound C12=CC=CC(Cl)=C2C(COC)(COC)C2=C1C=CC=C2Cl SCTKUNIIBPPKNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFPGARUNNKGOBB-UHFFFAOYSA-N 1-Ethyl-2-pyrrolidinone Chemical compound CCN1CCCC1=O ZFPGARUNNKGOBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIXZZWAATLXBBG-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-1-ethenylsiletane Chemical compound C=C[Si]1(Cl)CCC1 JIXZZWAATLXBBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFDHLFKYBUQNSE-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-1-methylsilinane Chemical compound C=C[Si]1(C)CCCCC1 CFDHLFKYBUQNSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPDPDSAMJQISEI-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylsilinane Chemical compound C=C[SiH]1CCCCC1 HPDPDSAMJQISEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZGYJLJMTYSGCS-UHFFFAOYSA-N 1-methoxy-2-(methoxymethyl)-3,3-dimethylbutane Chemical compound COCC(C(C)(C)C)COC WZGYJLJMTYSGCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGMVWDKVVMVTTM-UHFFFAOYSA-N 1-methoxy-2-(methoxymethyl)-3-methylbutane Chemical compound COCC(C(C)C)COC NGMVWDKVVMVTTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 1755-01-7 Chemical compound C1[C@H]2[C@@H]3CC=C[C@@H]3[C@@H]1C=C2 HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 0.000 description 1
- HEWZVZIVELJPQZ-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxypropane Chemical compound COC(C)(C)OC HEWZVZIVELJPQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDAYPNRUDRHPCA-UHFFFAOYSA-N 2,7-dicyclopentyl-9,9-bis(methoxymethyl)fluorene Chemical compound C1=C2C(COC)(COC)C3=CC(C4CCCC4)=CC=C3C2=CC=C1C1CCCC1 LDAYPNRUDRHPCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FGTYTUFKXYPTML-UHFFFAOYSA-N 2-benzoylbenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 FGTYTUFKXYPTML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOPLHDNLGYOSPG-UHFFFAOYSA-N 2-butylbutanedioic acid Chemical compound CCCCC(C(O)=O)CC(O)=O WOPLHDNLGYOSPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRWZZZWJMFNZIK-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-3-methyloxirane Chemical compound CC1OC1Cl LRWZZZWJMFNZIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethenylbenzene Chemical compound ClC=CC1=CC=CC=C1 SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWLWBZJFQCTHEY-UHFFFAOYSA-N 3,6-dicyclohexyl-1,1-bis(phenoxymethyl)indene Chemical compound C1=C(C2CCCCC2)C2=CC=C(C3CCCCC3)C=C2C1(COC=1C=CC=CC=1)COC1=CC=CC=C1 CWLWBZJFQCTHEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIDOLXWEDVJZTP-UHFFFAOYSA-N 3-(methoxymethyl)-4,4-dimethylpentan-2-one Chemical compound COCC(C(C)=O)C(C)(C)C DIDOLXWEDVJZTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZHBXJXVYGWYROM-UHFFFAOYSA-N 3-methoxy-n,n,2,2-tetramethylpropan-1-amine Chemical compound COCC(C)(C)CN(C)C ZHBXJXVYGWYROM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVEYETJZOMJKNK-UHFFFAOYSA-N 4,4-bis(ethoxymethyl)-2,6-dimethylheptane Chemical compound CCOCC(CC(C)C)(CC(C)C)COCC VVEYETJZOMJKNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOLQDDKBJWHVQK-UHFFFAOYSA-N 4,4-bis(methoxymethyl)heptane Chemical compound CCCC(CCC)(COC)COC WOLQDDKBJWHVQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXABOXSKCIQAJG-UHFFFAOYSA-N 5,5-bis(1-butoxyethyl)cyclopenta-1,3-diene Chemical compound CCCCOC(C)C1(C(C)OCCCC)C=CC=C1 ZXABOXSKCIQAJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MGQOPBZMDMTUQK-UHFFFAOYSA-N 9,9-bis(methoxymethyl)-1,2,3,4-tetrahydrofluorene Chemical compound C12=CC=CC=C2C(COC)(COC)C2=C1CCCC2 MGQOPBZMDMTUQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- GTMHEJMNVNTPPR-UHFFFAOYSA-N C(=C)[Si]1(CCCCCCC1)C=C Chemical compound C(=C)[Si]1(CCCCCCC1)C=C GTMHEJMNVNTPPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JEAIHROAGXXMCJ-UHFFFAOYSA-N C(=CCCCC)[Si]1(CCCC1)C Chemical compound C(=CCCCC)[Si]1(CCCC1)C JEAIHROAGXXMCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HUUBFHRPUBCTMK-UHFFFAOYSA-N C(=CCCCCC)[Si]1(CCCC1)C Chemical compound C(=CCCCCC)[Si]1(CCCC1)C HUUBFHRPUBCTMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFXYXBHMCFWQMC-UHFFFAOYSA-N C(C)[Si]1(CCC1)C=C Chemical compound C(C)[Si]1(CCC1)C=C KFXYXBHMCFWQMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NXBCVUMGXYVJTP-UHFFFAOYSA-N C(C)[Si]1(CCCC1)C=C Chemical compound C(C)[Si]1(CCCC1)C=C NXBCVUMGXYVJTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTOPGHZKHCHMOH-UHFFFAOYSA-N C(C)[Si]1(CCCCCCC1)C=C Chemical compound C(C)[Si]1(CCCCCCC1)C=C QTOPGHZKHCHMOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPRCWPIUIVOAMN-UHFFFAOYSA-N C1(CCCCC1)[Si]1(CCCC1)C=C Chemical compound C1(CCCCC1)[Si]1(CCCC1)C=C HPRCWPIUIVOAMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEZVLAUHUMTKIM-UHFFFAOYSA-N C=C[Si]1(C)CCCCCC1 Chemical compound C=C[Si]1(C)CCCCCC1 QEZVLAUHUMTKIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SFLBKHHJEMNBGG-UHFFFAOYSA-N C=C[Si]1(CCCCC1)C2=CC=CC=C2 Chemical compound C=C[Si]1(CCCCC1)C2=CC=CC=C2 SFLBKHHJEMNBGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFNAMWOXUQFYNY-UHFFFAOYSA-N C=C[Si]1(CCCCC1)C2CCCCC2 Chemical compound C=C[Si]1(CCCCC1)C2CCCCC2 YFNAMWOXUQFYNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JPHMDGHMFZYLSP-UHFFFAOYSA-N CCCC=C(C)[SiH]1CCCCC1 Chemical compound CCCC=C(C)[SiH]1CCCCC1 JPHMDGHMFZYLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BECLACQOOFJWHB-UHFFFAOYSA-N CCCCC=C[Si]1(CCCCC1)C Chemical compound CCCCC=C[Si]1(CCCCC1)C BECLACQOOFJWHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JNSBLTQXUQXGOC-UHFFFAOYSA-N CCCCCC=C[Si]1(CCCCC1)C Chemical compound CCCCCC=C[Si]1(CCCCC1)C JNSBLTQXUQXGOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MURRTAAEYLOONC-UHFFFAOYSA-N CC[Si]1(C=C)CCCCC1 Chemical compound CC[Si]1(C=C)CCCCC1 MURRTAAEYLOONC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HKJCPIHWFDXKKW-UHFFFAOYSA-N CC[Si]1(C=C)CCCCCC1 Chemical compound CC[Si]1(C=C)CCCCCC1 HKJCPIHWFDXKKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XIEDXUVTLPROHZ-UHFFFAOYSA-N C[Si]1(C(CCC1)C)C=C Chemical compound C[Si]1(C(CCC1)C)C=C XIEDXUVTLPROHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTIKFAIKTWTJBH-UHFFFAOYSA-N C[Si]1(C(CCC1)Cl)C=C Chemical compound C[Si]1(C(CCC1)Cl)C=C UTIKFAIKTWTJBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UJWFAVLHKVMFGO-UHFFFAOYSA-N C[Si]1(CCCC1)C=CCCC Chemical compound C[Si]1(CCCC1)C=CCCC UJWFAVLHKVMFGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PODZVJWIHZOWOP-UHFFFAOYSA-N C[Si]1(CCCCCCC1)C=C Chemical compound C[Si]1(CCCCCCC1)C=C PODZVJWIHZOWOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPDOYJRSKPTNAK-UHFFFAOYSA-N Cl[Si]1(CCCCCCC1)C=C Chemical compound Cl[Si]1(CCCCCCC1)C=C HPDOYJRSKPTNAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Chemical class 0.000 description 1
- 239000007818 Grignard reagent Substances 0.000 description 1
- 229910014299 N-Si Inorganic materials 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCOLOVHTJKNUOI-UHFFFAOYSA-J [OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[Mg++].[Mg++] Chemical class [OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[Mg++].[Mg++] DCOLOVHTJKNUOI-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940092714 benzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N benzyl chloride Chemical compound ClCC1=CC=CC=C1 KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940073608 benzyl chloride Drugs 0.000 description 1
- QRHCILLLMDEFSD-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl)-dimethylsilane Chemical compound C=C[Si](C)(C)C=C QRHCILLLMDEFSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012661 block copolymerization Methods 0.000 description 1
- UORVGPXVDQYIDP-BJUDXGSMSA-N borane Chemical class [10BH3] UORVGPXVDQYIDP-BJUDXGSMSA-N 0.000 description 1
- 238000012662 bulk polymerization Methods 0.000 description 1
- ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N butyric aldehyde Natural products CCCC=O ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical compound OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N cis-cyclohexene Natural products C1CCC=CC1 HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003426 co-catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000004737 colorimetric analysis Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- PESYEWKSBIWTAK-UHFFFAOYSA-N cyclopenta-1,3-diene;titanium(2+) Chemical compound [Ti+2].C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 PESYEWKSBIWTAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLDGJRWPPOSWLC-UHFFFAOYSA-N deca-1,9-diene Chemical compound C=CCCCCCCC=C NLDGJRWPPOSWLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009795 derivation Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 150000004796 dialkyl magnesium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229960002380 dibutyl phthalate Drugs 0.000 description 1
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical class OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NVJBFARDFTXOTO-UHFFFAOYSA-N diethyl sulfite Chemical compound CCOS(=O)OCC NVJBFARDFTXOTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNLAOSYQHBDIKW-UHFFFAOYSA-M diethylaluminium chloride Chemical compound CC[Al](Cl)CC YNLAOSYQHBDIKW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQWPLXHWEZZGKY-UHFFFAOYSA-N diethylzinc Chemical compound CC[Zn]CC HQWPLXHWEZZGKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RXKJFZQQPQGTFL-UHFFFAOYSA-N dihydroxyacetone Chemical class OCC(=O)CO RXKJFZQQPQGTFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDUPRNVPXOHWIL-UHFFFAOYSA-N dimethyl sulfite Chemical compound COS(=O)OC BDUPRNVPXOHWIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- GCSJLQSCSDMKTP-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C=C GCSJLQSCSDMKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCPCLEKQVMKXJM-UHFFFAOYSA-N ethoxy(diethyl)alumane Chemical compound CCO[Al](CC)CC GCPCLEKQVMKXJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DSZILDZTMGVOMV-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-(ethoxymethyl)-3,3-dimethylbutanoate Chemical compound CCOCC(C(C)(C)C)C(=O)OCC DSZILDZTMGVOMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UAIZDWNSWGTKFZ-UHFFFAOYSA-L ethylaluminum(2+);dichloride Chemical compound CC[Al](Cl)Cl UAIZDWNSWGTKFZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- RMBPEFMHABBEKP-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2C3=C[CH]C=CC3=CC2=C1 RMBPEFMHABBEKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 238000012685 gas phase polymerization Methods 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 150000004795 grignard reagents Chemical class 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- PYGSKMBEVAICCR-UHFFFAOYSA-N hexa-1,5-diene Chemical compound C=CCCC=C PYGSKMBEVAICCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 239000006166 lysate Substances 0.000 description 1
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 159000000003 magnesium salts Chemical class 0.000 description 1
- 235000010933 magnesium salts of fatty acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000001778 magnesium salts of fatty acids Substances 0.000 description 1
- 235000019359 magnesium stearate Nutrition 0.000 description 1
- YHNWUQFTJNJVNU-UHFFFAOYSA-N magnesium;butane;ethane Chemical compound [Mg+2].[CH2-]C.CCC[CH2-] YHNWUQFTJNJVNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 239000004750 melt-blown nonwoven Substances 0.000 description 1
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Natural products C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- GICWIDZXWJGTCI-UHFFFAOYSA-I molybdenum pentachloride Chemical compound Cl[Mo](Cl)(Cl)(Cl)Cl GICWIDZXWJGTCI-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- MOBAUGYLXJCSAW-UHFFFAOYSA-N n,n,n',n',2,2-hexamethylpropane-1,3-diamine Chemical compound CN(C)CC(C)(C)CN(C)C MOBAUGYLXJCSAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N o-biphenylenemethane Natural products C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002896 organic halogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N para-ethylbenzaldehyde Natural products CCC1=CC=C(C=O)C=C1 QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N pentene Chemical compound CCCC=C YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930015698 phenylpropene Natural products 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 150000003018 phosphorus compounds Chemical class 0.000 description 1
- UHZYTMXLRWXGPK-UHFFFAOYSA-N phosphorus pentachloride Chemical compound ClP(Cl)(Cl)(Cl)Cl UHZYTMXLRWXGPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000053 physical method Methods 0.000 description 1
- 230000036314 physical performance Effects 0.000 description 1
- PMJHHCWVYXUKFD-UHFFFAOYSA-N piperylene Natural products CC=CC=C PMJHHCWVYXUKFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 230000004043 responsiveness Effects 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000035807 sensation Effects 0.000 description 1
- 238000007873 sieving Methods 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003376 silicon Chemical class 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- 239000001384 succinic acid Substances 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006276 transfer reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003623 transition metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- STCOOQWBFONSKY-UHFFFAOYSA-N tributyl phosphate Chemical compound CCCCOP(=O)(OCCCC)OCCCC STCOOQWBFONSKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FAQYAMRNWDIXMY-UHFFFAOYSA-N trichloroborane Chemical compound ClB(Cl)Cl FAQYAMRNWDIXMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N trimethylaluminium Chemical compound C[Al](C)C JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFXVBWRMVZPLFK-UHFFFAOYSA-N trioctylalumane Chemical compound CCCCCCCC[Al](CCCCCCCC)CCCCCCCC LFXVBWRMVZPLFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- KPGXUAIFQMJJFB-UHFFFAOYSA-H tungsten hexachloride Chemical compound Cl[W](Cl)(Cl)(Cl)(Cl)Cl KPGXUAIFQMJJFB-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)
Description
このように各観点からして優れた性能と利点を備えるポリプロピレンなどのα−オレフィン重合体は、以前から主として、チーグラー・ナッタ触媒により、工業的に製造されているが、より優れた物性を備える重合体を、工業的により有利に製造するために、チーグラー・ナッタ触媒においては、重合活性を高め、重合体の立体規則性を向上させ、分子量分布を広げて成形加工性を改善し、重合工程を効率化するなど、種々の改良がなされ続けられている。
また、有機ケイ素化合物とジビニルシラン化合物及び有機アルミニウム化合物を溶媒中に共存した状態で予備重合処理して、触媒粒子の分散性を高め、重合工程の運転トラブルもなくす重合触媒(特許文献7を参照。)なども提案されている。
しかしながら、本発明者らが知る限りでは、触媒活性や立体規則性或いは重合体粒子性状や成形加工性などの触媒性能の全てにおいて、充分な性能を示すチーグラー・ナッタ触媒は、未だ実現されていなく、このような重合触媒の開発による、ポリプロピレンなどのα−オレフィンにおける各種の物性や諸性能のさらなる向上が、自動車産業や電気製品及び包装材料などの各産業界から、強く望まれている。
その結果、特定のアルケニル基を有するケイ素化合物を用いることにより、立体規則性、重合体粒子性状、触媒活性などの触媒性能の全てにおいて、高い性能を有する触媒成分が得られることを見出し、これらの知見に基づき、本発明を完成するに至った。
成分(A1):チタン、マグネシウム及びハロゲンを必須成分として含有する固体成分
成分(A2):下記一般式で表されるアルケニル基を有するケイ素化合物
成分(A3):有機ケイ素化合物
成分(A4):有機アルミニウム化合物
また、本発明の第3の発明によれば、第1又は2の発明において、成分(A1)の固体成分中のマグネシウムは、ハロゲン化マグネシウム化合物及びアルコキシマグネシウム化合物からなる群から選ばれる少なくとも一つの化合物を由来とすることを特徴とするα−オレフィン重合用固体触媒成分が提供される。
さらに、本発明の第4の発明によれば、第1〜3のいずれかの発明において、成分(A1)の固体成分中のチタンは、アルコキシチタン化合物およびハロゲン化チタン化合物からなる群から選ばれる少なくとも1つの化合物を由来とすることを特徴とするα−オレフィン重合用固体触媒成分が提供される。
さらに、本発明の第6の発明によれば、第5の発明において、さらに、下記成分(C)からなることを特徴とするα−オレフィン重合用触媒が提供される。
成分(B):有機アルミニウム化合物
成分(C):有機ケイ素化合物
(1)第1の発明において、成分(A2)のアルケニル基を有するケイ素化合物は、1−メチル−1−ビニルシラシクロブタン、1−メチル−1−ビニルシラシクロペンタン、1−メチル−1−ビニルシラシクロヘキサン、1,1−ジビニルシラシクロペンタン、1,1−ジビニルシラシクロヘキサン、1−クロロ−1−ビニルシラシクロペンタン、1−クロロ−1−ビニルシラシクロへキサン、1−アリル−1−メチルシラシクロペンタン、又は1−アリル−1−メチルシラシクロへキサンから選ばれる少なくとも一つの化合物であることを特徴とするα−オレフィン重合用固体触媒成分。
(2)第2の発明において、成分(A2)のアルケニル基を有するケイ素化合物は、1−メチル−1−ビニルシラシクロブタン、1−メチル−1−ビニルシラシクロペンタン、1−メチル−1−ビニルシラシクロヘキサン、1,1−ジビニルシラシクロペンタン、1,1−ジビニルシラシクロヘキサン、1−クロロ−1−ビニルシラシクロペンタン、又は1−クロロ−1−ビニルシラシクロへキサンから選ばれる少なくとも一つの化合物であることを特徴とするα−オレフィン重合用固体触媒成分。
これらの充分な性能は、後記する各実施例のデータ、及びそれらと各比較例のデータとの対比により、少なくとも実証されている。
本発明において、α−オレフィン用重合触媒として、α−オレフィン重合用固体触媒成分(A)及び有機アルミニウム化合物(B)を用いる。この際、本発明の効果を損なわない範囲で、さらに、有機ケイ素化合物(C)、及び/又は、少なくとも二つのエーテル結合を有する化合物(D)などの任意成分を用いることができる。
本発明で用いるα−オレフィン重合用固体触媒成分(A)は、以下に説明する固体成分(A1)、特定の構造を有するアルケニル基を有するケイ素化合物(A2)、有機ケイ素化合物(A3)及び有機アルミニウム化合物(A4)を、接触処理させてなるものである。また、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の成分を任意の形態で含んでも良い。
本発明に係るα−オレフィン重合用固体触媒成分(A)の構成成分の固体成分(A1)としては、チタン、マグネシウム及びハロゲンを必須成分として含有するものであれば、任意のものを用いることができる。ここで、「必須成分として含有する」ということは、挙示の三成分以外に、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の成分を任意の形態で含んでも良いということを示すものである。チタン、マグネシウム及びハロゲンを必須成分として含有する固体成分自体は、公知のものである。
本発明の固体成分(A1)で用いるチタンのチタン源となるチタン化合物としては、任意のものを用いることができる。代表的な例としては、特開平3−234707号公報に開示されている化合物を挙げることができる。
チタンの価数に関しては、4価、3価、2価、0価の任意の価数を持つチタン化合物を用いることができるが、好ましくは4価および3価のチタン化合物、更に好ましくは4価のチタン化合物を用いることが望ましい。
3価のチタン化合物の具体例としては、三塩化チタンに代表されるハロゲン化チタン化合物類を挙げることができる。三塩化チタンは、水素還元型、金属アルミニウム還元型、金属チタン還元型、有機アルミニウム還元型、など、公知の任意の方法で製造された化合物を用いることができる。
上記のチタン化合物類は、単独で用いるだけではなく、複数の化合物を併用することも可能である。また、上記チタン化合物類の混合物や平均組成式がそれらの混合された式となる化合物(例えば、Ti(OBu)mCl4−m;0<m<4などの化合物)、また、フタル酸エステル等のその他の化合物との錯化物(例えば、Ph(CO2Bu)2・TiCl4などの化合物)、などを用いることができる。
本発明の固体成分(A1)で用いるマグネシウムのマグネシウム源となるマグネシウム化合物としては、任意のものを用いることができる。代表的な例としては、特開平3−234707号公報に開示されている化合物を挙げることができる。
一般的には、塩化マグネシウムに代表されるハロゲン化マグネシウム化合物類、ジエトキシマグネシウムに代表されるアルコキシマグネシウム化合物類、金属マグネシウム、酸化マグネシウムに代表されるオキシマグネシウム化合物類、水酸化マグネシウムに代表されるヒドロキシマグネシウム化合物類、ブチルマグネシウムクロライドに代表されるグリニャール化合物類、ブチルエチルマグネシウムに代表される有機金属マグネシウム化合物類、炭酸マグネシウムやステアリン酸マグネシウムに代表される無機酸及び有機酸のマグネシウム塩化合物類、及びそれらの混合物や平均組成式がそれらの混合された式となる化合物(例えば、Mg(OEt)mCl2−m;0<m<2などの化合物)、などを用いることができる。
この中で好ましいのは、塩化マグネシウム、ジエトキシマグネシウム、金属マグネシウム、ブチルマグネシウムクロライドである。
本発明において、ハロゲンとしては、フッ素、塩素、臭素、沃素、及びそれらの混合物を用いることができる。この中で塩素が特に好ましい。
ハロゲンは、上記のチタン化合物類及び/又はマグネシウム化合物から供給されるのが一般的であるが、その他の化合物より供給することもできる。
代表的な例としては、四塩化ケイ素に代表されるハロゲン化ケイ素化合物類、塩化アルミニウムに代表されるハロゲン化アルミニウム化合物類、1,2−ジクロロエタンやベンジルクロライドに代表されるハロゲン化有機化合物類、トリクロロボランに代表されるハロゲン化ボラン化合物類、五塩化リンに代表されるハロゲン化リン化合物類、六塩化タングステンに代表されるハロゲン化タングステン化合物類、五塩化モリブデンに代表されるハロゲン化モリブデン化合物類、などを挙げることができる。これらの化合物は、単独で用いるだけでなく、併用することも可能である。この中で、四塩化ケイ素が特に好ましい。
本発明で用いる固体成分(A1)には、任意成分として、電子供与性化合物を含有しても良い。
上記電子供与性化合物の代表的な例としては、特開2004−124090号公報に開示されている化合物を挙げることができる。
一般的には、有機酸及び無機酸並びにそれらの誘導体(エステル、酸無水物、酸ハライド、アミド)化合物類、エーテル化合物類、ケトン化合物類、アルデヒド化合物類、アルコール化合物類、アミン化合物類、などを用いることが望ましい。
これらのカルボン酸化合物類及びスルホン酸化合物類は、芳香族・脂肪族に関わらず、マレイン酸の様に分子中の任意の場所に任意の数だけ不飽和結合を有しても良い。
エステルの構成要素であるアルコールとしては、脂肪族及び芳香族アルコールを用いることができる。これらのアルコールの中でも、エチル基、ブチル基、イソブチル基、ヘプチル基、オクチル基、ドデシル基、等の炭素数1〜20の脂肪族の遊離基からなるアルコールが好ましい。更に好ましくは炭素数2〜12の脂肪族の遊離基からなるアルコールが望ましい。また、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、等の脂環式の遊離基からなるアルコールを用いることもできる。
また、アミドの構成要素であるアミンとしては、脂肪族及び芳香族アミンを用いることができる。これらのアミンの中でも、アンモニア、エチルアミンやジブチルアミンに代表される脂肪族アミン、アニリンやベンジルアミンに代表される芳香族の遊離基を分子内に有するアミン、などを好ましい化合物として例示することができる。
これらの無機酸の誘導体化合物としては、エステルを用いることが望ましい。テトラエトキシシラン(ケイ酸エチル)、テトラブトキシシラン(ケイ酸ブチル)、リン酸トリブチルなどを具体例として挙げることができる。
また、電子供与性化合物として用いることのできるエーテル化合物としては、ジブチルエーテルに代表される脂肪族エーテル化合物類、ジフェニルエーテルに代表される芳香族エーテル化合物類、2−イソプロピル−2−イソブチル−1,3−ジメトキシプロパンや2−イソプロピル−2−イソペンチル−1,3−ジメトキシプロパンの様な2位に一つ又は二つの置換基を有する1,3−ジメトキシプロパンに代表される脂肪族多価エーテル化合物類、9,9−ビス(メトキシメチル)フルオレン、に代表される芳香族の遊離基を分子内に有する多価エーテル化合物類などを例示することができる。
また、電子供与性化合物として用いることのできるアルデヒド化合物としては、プロピオンアルデヒドに代表される脂肪族アルデヒド化合物類、ベンズアルデヒドに代表される芳香族アルデヒド化合物類、などを例示することができる。
さらに、電子供与性化合物として用いることのできるアルコール化合物としては、ブタノールや2−エチルヘキサノールに代表される脂肪族アルコール化合物類、フェノール、クレゾールに代表されるフェノール誘導体化合物類、グリセリンや1,1’−ビ−2−ナフトールに代表される脂肪族若しくは芳香族の多価アルコール化合物類、などを例示することができる。
これらの中で好ましいのは、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジイソブチル、フタル酸ジヘプチルに代表されるフタル酸エステル化合物類、フタロイルジクロライドに代表されるフタル酸ハライド化合物類、2−n−ブチル−マロン酸ジエチルの様な2位に一つ又は二つの置換基を有するマロン酸エステル化合物類、2−n−ブチル−コハク酸ジエチルの様な2位に一つ又は二つの置換基若しくは2位と3位にそれぞれ一つ以上の置換基を有するコハク酸エステル化合物類、2−イソプロピル−2−イソブチル−1,3−ジメトキシプロパンや2−イソプロピル−2−イソペンチル−1,3−ジメトキシプロパンの様な2位に一つ又は二つの置換基を有する1,3−ジメトキシプロパンに代表される脂肪族多価エーテル化合物類、9,9−ビス(メトキシメチル)フルオレンに代表される芳香族の遊離基を分子内に有する多価エーテル化合物類などである。
本発明における固体成分(A1)を構成する各成分の使用量の量比は、本発明の効果を損なわない範囲で任意のものでありうるが、一般的には次の範囲が好ましい。
チタン化合物類の使用量は、使用するマグネシウム化合物類の使用量に対してモル比(チタン化合物のモル数/マグネシウム化合物のモル数)で、好ましくは0.0001〜1,000の範囲内であり、特に好ましくは0.01〜10の範囲内が望ましい。
また、マグネシウム化合物類及びチタン化合物類以外に、ハロゲン源となる化合物を使用する場合は、その使用量は、マグネシウム化合物類及びチタン化合物類の各々がハロゲンを含むか含まないかに関わらず、使用するマグネシウム化合物類の使用量に対してモル比(ハロゲン源となる化合物のモル数/マグネシウム化合物のモル数)で、好ましくは0.01〜1,000の範囲内であり、特に好ましくは0.1〜100の範囲内が望ましい。
さらに、固体成分(A1)を調製する際に、任意成分として用いる電子供与性化合物を用いる場合の使用量は、使用するマグネシウム化合物の量に対して、モル比(電子供与性化合物のモル数/マグネシウム化合物のモル数)で、好ましくは0.001〜10の範囲内であり、特に好ましくは0.01〜5の範囲内が望ましい。
接触温度は、−50〜200℃程度、好ましくは0〜150℃である。接触方法としては、回転ボールミルや振動ミルなどによる機械的な方法、並びに、不活性溶媒の存在下に撹拌により接触させる方法、などを例示することができる。
塩化マグネシウムに代表されるハロゲンを含有するマグネシウム化合物をチタン化合物と共粉砕することにより、マグネシウム化合物上にチタン化合物を担持する方法である。
必要に応じて、電子供与性化合物等の任意成分と同時に、又は、別工程で共粉砕しても良い。機械的粉砕方法としては、回転ボールミルや振動ミル等の任意の粉砕機を用いることができる。溶媒を用いない乾式粉砕法だけでなく、不活性溶媒共存下で共粉砕する湿式粉砕法を用いることもできる。
塩化マグネシウムに代表されるハロゲンを含有するマグネシウム化合物とチタン化合物を不活性溶媒中で撹拌することにより、接触処理を行い、マグネシウム化合物上にチタン化合物を担持する方法である。
チタン化合物として、四塩化チタンなどの液状の化合物を用いる場合は、不活性溶媒なしで接触処理することもできる。必要に応じて、電子供与性化合物やハロゲン化ケイ素化合物等の任意成分を同時に、又は、別工程で接触させても良い。接触温度に特に制限はないが、90℃〜130℃程度の比較的高い温度で接触処理する方が好ましい場合が多い。
塩化マグネシウムに代表されるハロゲンを含有するマグネシウム化合物を電子供与性化合物と接触させることにより溶解し、生じた溶解液と析出剤を接触させて析出反応を起こすことにより粒子形成を行う方法である。
溶解に用いる電子供与性化合物の例としては、アルコール化合物類、エポキシ化合物類、リン酸エステル化合物類、アルコキシ基を有するケイ素化合物類、アルコキシ基を有するチタン化合物類、エーテル化合物類などを挙げることができる。析出剤の例としては、ハロゲン化チタン化合物類、ハロゲン化ケイ素化合物類、塩化水素、ハロゲン含有炭化水素化合物類、Si−H結合を有するシロキサン化合物類(ポリシロキサン化合物類を含む)、アルミニウム化合物類、などを例示することができる。溶解液と析出剤の接触方法としては、溶解液に析出剤を添加しても良いし、析出剤に溶解液を添加しても良い。溶解、析出のどちらの工程でもチタン化合物を用いない場合は、析出反応により形成した粒子を更にチタン化合物と接触させることにより、マグネシウム化合物上にチタン化合物を担持する。更に必要に応じて、こうして形成した粒子をハロゲン化チタン化合物類やハロゲン化ケイ素化合物類などの任意成分と接触させても良く、電子供与性化合物と接触させても良い。この際、電子供与性化合物は、溶解に用いるものとは異なっていても良いし、同じであっても良い。これらの任意成分の接触順序については、特に制限はなく、独立工程として接触させても良いし、溶解、析出、チタン化合物類との接触の際に一緒に接触させることもできる。また、溶解、析出、任意成分との接触、のいずれの工程においても、不活性溶媒が存在しても良い。
溶解析出法と同様に塩化マグネシウムに代表されるハロゲンを含有するマグネシウム化合物を電子供与性化合物と接触させることにより溶解し、生じた溶解液を主に物理的な手法により造粒する方法である。
溶解に用いる電子供与性化合物の例は、溶解析出法の例に同じである。造粒手法の例としては、高温の溶解液を低温の不活性溶媒中に滴下する方法、高温の気相部に向かって溶解液をノズルから噴き出して乾燥する方法、低温の気相部に向かって溶解液をノズルから噴き出して冷却する方法、などを挙げることができる。造粒により形成した粒子をチタン化合物と接触させることにより、マグネシウム化合物上にチタン化合物を担持する。更に、必要に応じて、ハロゲン化ケイ素化合物類、電子供与性化合物、などの任意成分と接触させても良い。この際、電子供与性化合物は、溶解に用いるものとは異なっていても良いし、同じであっても良い。これらの任意成分の接触順序については、特に制限はなく、独立工程として接触させても良いし、溶解やチタン化合物との接触の際に一緒に接触させることもできる。また、溶解、チタン化合物類との接触、任意成分との接触、のいずれの工程においても、不活性溶媒が存在しても良い。
ハロゲンを含有しないマグネシウム化合物に対して、ハロゲン化剤を接触させてハロゲン化する方法である。
ハロゲンを含有しないマグネシウム化合物の例としては、ジアルコキシマグネシウム化合物類、酸化マグネシウム、炭酸マグネシウム、脂肪酸のマグネシウム塩、などを挙げることができる。ジアルコキシマグネシウム化合物類を用いる場合は、金属マグネシウムとアルコールとの反応により系中で調製したものを用いることもできる。この調製法を用いる場合は、出発原料であるハロゲンを含まないマグネシウム化合物の段階で造粒等により粒子形成を行うのが一般的である。ハロゲン化剤の例としては、ハロゲン化チタン化合物類、ハロゲン化ケイ素化合物類、ハロゲン化リン化合物類、などを挙げることができる。ハロゲン化剤として、ハロゲン化チタン化合物類を用いない場合は、ハロゲン化により形成したハロゲン含有マグネシウム化合物を更にチタン化合物と接触させることにより、マグネシウム化合物上にチタン化合物を担持する。更に必要に応じて、こうして形成した粒子をハロゲン化チタン化合物類やハロゲン化ケイ素化合物類などの任意成分と接触させても良く、電子供与性化合物と接触させても良い。これらの任意成分の接触順序については、特に制限はなく、独立工程として接触させても良いし、ハロゲンを含まないマグネシウム化合物のハロゲン化やチタン化合物類との接触の際に一緒に接触させることもできる。また、ハロゲン化、チタン化合物類との接触、任意成分との接触、のいずれの工程においても、不活性溶媒が存在しても良い。
ブチルマグネシウムクロライドに代表されるグリニャール試薬、ジアルキルマグネシウム化合物、などの有機マグネシウム化合物類の溶液に析出剤を接触させる方法である。
析出剤の例としては、チタン化合物類、ケイ素化合物類、塩化水素、などを挙げることができる。析出剤としてチタン化合物を用いない場合は、析出反応により形成した粒子を更にチタン化合物と接触させることにより、マグネシウム化合物上にチタン化合物を担持する。更に必要に応じて、こうして形成した粒子をハロゲン化チタン化合物類やハロゲン化ケイ素化合物類などの任意成分と接触させても良く、電子供与性化合物と接触させても良い。これらの任意成分の接触順序については特に制限はなく、独立工程として接触させても良いし、析出やチタン化合物類との接触の際に一緒に接触させることもできる。また、析出、チタン化合物類との接触、任意成分との接触、のいずれの工程においても、不活性溶媒が存在しても良い。
有機マグネシウム化合物類の溶液、若しくは、マグネシウム化合物を電子供与性化合物で溶解した溶液を、無機化合物の担体、若しくは、有機化合物の担体に含浸させる方法である。
有機マグネシウム化合物類の例は、有機マグネシウム化合物からの析出法の例に同じである。マグネシウム化合物の溶解に用いるマグネシウム化合物は、ハロゲンを含んでいても含んでいなくても良く、電子供与性化合物の例は溶解析出法の例に同じである。無機化合物の担体の例としては、シリカ、アルミナ、マグネシア、などを挙げることができる。有機化合物の担体の例としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、などを挙げることができる。含浸処理後の担体粒子は、析出剤との化学反応や乾燥等の物理的処理によりマグネシウム化合物を析出させて固定化する。析出剤の例は、溶解析出法の例に同じである。析出剤としてチタン化合物を用いない場合は、こうして形成した粒子を更にチタン化合物と接触させることにより、マグネシウム化合物上にチタン化合物を担持する。更に必要に応じて、こうして形成した粒子をハロゲン化チタン化合物類やハロゲン化ケイ素化合物類などの任意成分と接触させても良く、電子供与性化合物と接触させても良い。これらの任意成分の接触順序については特に制限はなく、独立工程として接触させても良いし、含浸、析出、乾燥、チタン化合物類との接触の際に一緒に接触させることもできる。また、含浸、析出、チタン化合物類との接触、任意成分との接触、のいずれの工程においても、不活性溶媒が存在しても良い。
上記(i)〜(vii)に記載した方法を組み合わせて用いることもできる。組み合わせの例としては、「塩化マグネシウムを電子供与性化合物と共粉砕した後にハロゲン化チタン化合物類と加熱処理する方法」、「塩化マグネシウム化合物を電子供与性化合物と共粉砕した後に別の電子供与性化合物を用いて溶解し、更に析出剤を用いて析出する方法」、「ジアルコキシマグネシウム化合物を電子供与性化合物により溶解し、ハロゲン化チタン化合物類と接触させることにより析出させると同時にマグネシウム化合物をハロゲン化する方法」、「ジアルコキシマグネシウム化合物に二酸化炭素を接触させることにより、炭酸エステルマグネシウム化合物類を生成すると同時に溶解し、形成した溶解液をシリカに含浸させ、その後塩化水素と接触させることによりマグネシウム化合物をハロゲン化すると同時に析出固定化し、更にハロゲン化チタン化合物類と接触させることによりチタン化合物を担持する方法」、などを挙げることができる。
本発明のα−オレフィン重合用固体触媒成分(A)で用いられるアルケニル基を有するケイ素化合物(A2)としては、特定の構造を有することが必須で重要である。
上記のケイ素化合物(A2)は、その構造として、モノシラン(SiH4)の水素原子の一つがアルケニル基類であり、また、その水素原子の2つが共同して環構造を形成し、残りの水素原子が水素原子であるか、或いはアルケニル基又はその他の遊離基に置き換えられた構造を持つ化合物であり、下記一般式で表すことができる。
しかし、電子供与性の非常に強い有機シリル基が存在するために、炭素−炭素二重結合部の電荷密度は、非常に高くなっており、活性中心であるチタン原子への配位は、非常に速いと考えられる。
従って、アルケニル基を有するケイ素化合物が担体であるマグネシウム化合物上のルイス酸点と配位・錯化することにより、チタン化合物の溶媒への抽出を抑制できるものと期待される。
一方、本発明に開示された特定のアルケニル基を有するケイ素化合物では、ケイ素原子を介して環構造を形成することにより、アルケニル基の周りの空間が広くなり、ルイス酸点と配位・錯化しやすい構造となったと、考察される。このことにより、チタン化合物がより安定化され、触媒活性が向上したものと、考察される。
この様な発明思想の基に、本発明は立脚しており、上記一般式の特定のアルケニル基を有するケイ素化合物が必須要件となる。中でも重要なのは、ケイ素原子を介して環構造を形成することである。環構造を有することにより、アルケニル基に対して、他のケイ素原子置換基の立体障害が少なくなることが好ましいと、考えられる。
以下、各置換基の構造について、詳細に説明する。
好ましいR1、R2の具体例としては、メチル基やブチル基に代表されるアルキル基、シクロヘキシル基に代表されるシクロアルキル基、フェニル基に代表されるアリール基、水素原子、などを挙げることができる。更に好ましいR1、R2の例としては、メチル基、エチル基、水素原子、などを挙げることができる。最も好ましいR1、R2の例は、水素原子である。複数あるR1、R2は、お互いに同一であっても異なっていても良い。
さらに、式中、nは、環構造を形成する炭素数を表し、3以上7以下の整数を取り、それぞれケイ素原子を介し、4員環、5員環、6員環、7員環、8員環構造となる。より好ましくは、nの値は3、4、5又は6である。
最も好ましいR3の具体例としては、メチル基、エチル基、ビニル基、アリル基、塩素などを挙げることができる。
また、式中、R4、R5、R6、R7は、それぞれSi原子に隣接する炭素基の置換基である。
前述したとおりアルケニル基の周りの空間が広くなることが好ましいことから、R4、R5、R6、R7は、メチル基、エチル基、水素原子、フッ素原子、塩素原子などの構造的に小さい置換基が好ましい。この中で、メチル基、水素原子が最も好ましい。
また、R8、R9が炭化水素基である場合、好ましくは炭素数1〜20の炭化水素基、より好ましくは炭素数1〜12の炭化水素基である。R8、R9がハロゲンである場合、フッ素、塩素、臭素、沃素、から選ばれることが望ましい。
好ましいR8、R9の具体例としては、メチル基やブチル基に代表されるアルキル基、シクロヘキシル基に代表されるシクロアルキル基、フェニル基に代表されるアリール基、水素原子、などを挙げることができる。更に好ましいR8、R9の例としては、メチル基、エチル基、水素原子、などを挙げることができる。最も好ましいR8、R9の例は、水素原子である。複数あるR8、R9は、互いに同一であっても異なっていても良い。
さらに、式中、pは、環構造を形成する炭素数を表し、1以上5以下の整数を取り、それぞれケイ素原子を介し、4員環、5員環、6員環、7員環、8員環構造となる。より好ましくは、pの値は1、2、3又は4である。
また、式中、R3は、炭化水素基、水素原子またはハロゲンを表し、前記と同様である。
好ましい化合物の例としては、1−メチル−1−ビニルシラシクロブタン、1−メチル−1−ビニルシラシクロペンタン、1−メチル−1−ビニルシラシクロヘキサン、1−メチル−1−ビニルシラシクロヘプタン、1−メチル−1−ビニルシラシクロオクタン、1−エチル−1−ビニルシラシクロブタン、1−エチル−1−ビニルシラシクロペンタン、1−エチル−1−ビニルシラシクロヘキサン、1−エチル−1−ビニルシラシクロヘプタン、1−エチル−1−ビニルシラシクロオクタン、1,1−ジビニルシラシクロブタン、1,1−ジビニルシラシクロペンタン、1,1−ジビニルシラシクロヘキサン、1,1−ジビニルシラシクロペンタン、1,1−ジビニルシラシクロオクタン、1−クロロ−1−ビニルシラシクロブタン、1−クロロ−1−ビニルシラシクロペンタン、1−クロロ−1−ビニルシラシクロヘキサン、1−クロロ−1−ビニルシラシクロペンタン、1−クロロ−1−ビニルシラシクロオクタン、1−フェニル−1−ビニルシラシクロペンタン、1−フェニル−1−ビニルシラシクロヘキサン、1−シクロヘキシル−1−ビニルシラシクロペンタン、1−シクロヘキシル−1−ビニルシラシクロヘキサン、1−アリル−1−ビニルシラシクロペンタン、1−アリル−1−ビニルシラシクロヘキサン、1−アリル−1−メチルシラシクロペンタン、1−アリル−1−メチルシラシクロへキサン、1−ブテニル−1−メチルシラシクロペンタン、1−ブテニル−1−メチルシラシクロヘキサン、1−メチル−1−ペンテニルシラシクロペンタン、1−メチル−1−ペンテニルシラシクロヘキサン、1−ヘキセニル−1−メチルシラシクロペンタン、1−ヘキセニル−1−メチルシラシクロヘキサン、1−ヘプテニル−1−メチルシラシクロペンタン、1−ヘプテニル−1−メチルシラシクロヘキサン、1,2−ジメチル−1−ビニルシラシクロペンタン、1−メチル−1−ビニル−2−クロロシラシクロペンタンなどを挙げることができる。
特に好ましくは、1−メチル−1−ビニルシラシクロブタン、1−メチル−1−ビニルシラシクロペンタン、1−メチル−1−ビニルシラシクロヘキサン、1,1−ジビニルシラシクロペンタン、1,1−ジビニルシラシクロヘキサン、1−クロロ−1−ビニルシラシクロペンタン、1−クロロ−1−ビニルシラシクロへキサン、1−アリル−1−メチルシラシクロペンタン、1−アリル−1−メチルシラシクロへキサンを、例示することができる。
アルケニル基を有するケイ素化合物(A2)の使用量は、固体成分(A1)を構成するチタン成分に対するモル比(アルケニル基を有するケイ素化合物(A2)のモル数/チタン原子のモル数)で、好ましくは0.001〜1,000の範囲内であり、特に好ましくは0.01〜100の範囲内が望ましい。
本発明で用いられる有機ケイ素化合物(A3)としては、特開2004−124090号公報に開示された化合物等を用いることができる。
一般的には、アルケニル基を有さないケイ素化合物、または下記一般式にて表される化合物を用いることが望ましい。
R1R2 mSi(OR3)n
(式中、R1は、炭化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基であり、R2は、水素、ハロゲン、炭化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基であり、R3は、炭化水素基であり、m+n=3で、mは、0≦m≦2、nは、1≦n≦3を示す。)
R1として用いることのできる炭化水素基は、一般に炭素数1〜20、好ましくは炭素数3〜10のものである。R1として用いることのできる炭化水素基の具体的な例としては、n−プロピル基に代表される直鎖状脂肪族炭化水素基、i−プロピル基やt−ブチル基に代表される分岐状脂肪族炭化水素基、シクロペンチル基やシクロヘキシル基に代表される脂環式炭化水素基、フェニル基に代表される芳香族炭化水素基、などを挙げることができる。
より好ましくは、R1として分岐状脂肪族炭化水素基または脂環式炭化水素基を用いることが望ましく、とりわけ、i−プロピル基、i−ブチル基、t−ブチル基、テキシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、などを用いることが望ましい。
R1がヘテロ原子含有炭化水素基である場合は、ヘテロ原子が、窒素、酸素、硫黄、リン、ケイ素から選ばれることが望ましく、とりわけ、窒素又は酸素であることが望ましい。R1のヘテロ原子含有炭化水素基の骨格構造としては、R1が炭化水素基である場合の例示から選ぶことが望ましい。とりわけ、N,N−ジエチルアミノ基、キノリノ基、イソキノリノ基、などが好ましい。
R2として用いることのできるハロゲンとしては、フッ素、塩素、臭素、沃素、などを例示することができる。R2として用いることのできる炭化水素基は、一般に炭素数1〜20、好ましくは炭素数1〜10のものである。R2として用いることのできる炭化水素基の具体的な例としては、メチル基やエチル基に代表される直鎖状脂肪族炭化水素基、i−プロピル基やt−ブチル基に代表される分岐状脂肪族炭化水素基、シクロペンチル基やシクロヘキシル基に代表される脂環式炭化水素基、フェニル基に代表される芳香族炭化水素基、などを挙げることができる。中でも、メチル基、エチル基、プロピル基、i−プロピル基、i−ブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、テキシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、などを用いることが望ましい。
R2がヘテロ原子含有炭化水素基である場合は、R1がヘテロ原子含有炭化水素基である場合の例示から選ぶことが望ましい。とりわけ、N,N−ジエチルアミノ基、キノリノ基、イソキノリノ基、などが好ましい。
mの値が2の場合、二つあるR2は、同一であっても異なっても良い。また、mの値に関わらず、R2は、R1と同一であっても異なっても良い。
R3として用いることのできる炭化水素基の具体的な例としては、メチル基やエチル基に代表される直鎖状脂肪族炭化水素基、i−プロピル基やt−ブチル基に代表される分岐状脂肪族炭化水素基、などを挙げることができる。中でも、メチル基とエチル基が最も好ましい。nの値が2以上である場合、複数存在するR3は、同一であっても異なっても良い。
これらの有機ケイ素化合物類は、単独で用いるだけでなく、複数の化合物を併用することもできる。
有機ケイ素化合物(A3)の使用量は、固体成分(A1)を構成するチタン成分に対するモル比で(有機ケイ素化合物(A3)のモル数/チタン原子のモル数)で、好ましくは0.01〜1,000の範囲内であり、特に好ましくは0.1〜100の範囲内が望ましい。
本発明に用いられる有機アルミニウム化合物(A4)としては、特開2004−124090号公報に開示された化合物等を用いることができる。
一般的には、下記一般式にて表される化合物を用いることが望ましい。
R1 aAlXb(OR2)c
(式中、R1は、炭化水素基を表す。Xは、ハロゲンまたは水素を表す。R2は、炭化水素基またはAlによる架橋基を表す。a≧1、0≦b≦2、0≦c≦2、a+b+c=3である。)
また、式中、Xは、ハロゲンまたは水素である。Xとして用いることのできるハロゲンとしては、フッ素、塩素、臭素、沃素などを例示することができる。この中で、塩素が特に好ましい。
さらに、式中、R2は、炭化水素基またはAlによる架橋基である。R1が炭化水素基である場合には、R1の炭化水素基の例示と同じ群からR2を選択することができる。また、有機アルミニウム化合物(A4)としてメチルアルモキサンに代表されるアルモキサン化合物類を用いることも可能であり、その場合R1は、Alによる架橋基を表す。
有機アルミニウム化合物(A4)は、単独の化合物を用いるだけでなく、複数の化合物を併用することもできる。
有機アルミニウム化合物(A4)の使用量は、固体成分(A1)を構成するチタン成分に対するアルミニウムの原子比(アルミニウム原子のモル数/チタン原子のモル数)で、好ましくは0.1〜100の範囲内であり、特に好ましくは1〜50の範囲内が望ましい。
本発明に係る重合用固体触媒成分(A)は、前述の固体成分(A1)に対して、特定のアルケニル基を有するケイ素化合物(A2)、有機ケイ素化合物(A3)、及び、有機アルミニウム化合物(A4)を接触処理させてなるものであるが、この際、本発明の効果を損なわない範囲で、少なくとも二つのエーテル結合を有する化合物(A5)を、任意成分として接触処理させても良い。
R3O−C(R2)2−C(R1)2−C(R2)−OR3
(式中、R1及びR2は、水素、炭化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基から選ばれる任意の遊離基を表す。R3は、炭化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基を表す。)
R1として用いることのできる炭化水素基は、一般に炭素数1〜20、好ましくは炭素数1〜10のものである。R1として用いることのできる炭化水素基の具体的な例としては、n−プロピル基に代表される直鎖状脂肪族炭化水素基、i−プロピル基やt−ブチル基に代表される分岐状脂肪族炭化水素基、シクロペンチル基やシクロヘキシル基に代表される脂環式炭化水素基、フェニル基に代表される芳香族炭化水素基、などを挙げることができる。より好ましくは、R1として分岐状脂肪族炭化水素基または脂環式炭化水素基を用いることが望ましく、とりわけ、i−プロピル基、i−ブチル基、i−ペンチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、などを用いることが望ましい。
また、式中、R3は、炭化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基を表す。具体的には、R3は、R1が炭化水素基である場合の例示から選ぶことができる。好ましくは、炭素数1〜6の炭化水素基であることが望ましく、更に、好ましくはアルキル基であることが望ましい。最も好ましくはメチル基である。
R1〜R3がヘテロ原子含有炭化水素基である場合は、ヘテロ原子が、窒素、酸素、硫黄、リン、ケイ素から選ばれることが望ましい。また、R1〜R3が炭化水素基であるかヘテロ原子含有炭化水素基であるかに関わらず、任意にハロゲンを含んでいても良い。R1〜R3がヘテロ原子及び/又はハロゲンを含む場合、その骨格構造は、炭化水素基である場合の例示から選ばれることが望ましい。また、R1〜R3の八個の置換基は、お互いに同一であっても異なっても良い。
少なくとも二つのエーテル結合を有する化合物(A5)の使用量は、固体成分(A1)を構成するチタン成分に対するモル比(少なくとも二つのエーテル結合を有する化合物(A5)のモル数/チタン原子のモル数)で、好ましくは0.01〜10,000の範囲内であり、特に好ましくは0.5〜500の範囲内が望ましい。
固体触媒成分(A)の各構成成分の接触条件は、分子状酸素の不存在下で行うことが必要であるが、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の条件を用いることができる。一般的には、次の条件が好ましい。
接触温度は、−50〜200℃程度、好ましくは−10〜100℃、更に好ましくは0〜70℃、とりわけ好ましくは10℃〜60℃である。
また、接触方法としては、回転ボールミルや振動ミルなどによる機械的な方法、並びに、不活性希釈剤の存在下に撹拌により接触させる方法、などを例示することができる。好ましくは、不活性希釈剤の存在下に撹拌により接触させる方法を用いることが望ましい。
具体的な例としては、下記の手順(i)〜手順(iv)が挙げられる。
手順(i):固体成分(A1)にアルケニル基を有するケイ素化合物(A2)を接触させ、次いで、有機ケイ素化合物(A3)を接触させた後、有機アルミニウム化合物(A4)を接触させる方法
手順(ii):固体成分(A1)にアルケニル基を有するケイ素化合物(A2)及び有機ケイ素化合物(A3)を接触させた後、有機アルミニウム化合物(A4)を接触させる方法
手順(iii):固体成分(A1)に有機ケイ素化合物(A3)を接触させ、次いで、アルケニル基を有するケイ素化合物(A2)を接触させた後、有機アルミニウム化合物(A4)を接触させる方法
手順(iv):全ての化合物を同時に接触させる方法
などを例示することができる。
この中でも、手順(i)及び手順(ii)が好ましい。
さらに、固体成分(A1)に対して、アルケニル基を有するケイ素化合物(A2)、有機ケイ素化合物(A3)、及び、有機アルミニウム化合物(A4)のいずれも、任意の回数接触させることもできる。複数回の接触をする場合は、各成分がお互いに同一であっても異なっても良い。また、先に各成分の使用量の範囲を示したが、これは、1回当たりに接触させる使用量であり、複数回使用するときは、1回の使用量が前述した使用量の範囲内であれば、何回接触させても良い。
触媒成分(A)の調製の際には、中間及び/又は最後に不活性溶媒で洗浄を行っても良い。好ましい溶媒種としては、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素化合物、トルエンなどの芳香族炭化水素化合物、及び、1,2−ジクロロエチレンやクロロベンゼンなどのハロゲン含有炭化水素化合物、などを例示することができる。
本発明におけるα−オレフィン重合用固体触媒成分(A)は、本重合で使用する前に予備重合されていても良い。重合プロセスに先立って、予め少量のポリマーを触媒周囲に生成させることによって、触媒がより均一となり、微粉の発生量を抑えることができる。
予備重合におけるモノマーとしては、特開2004−124090号公報に開示された化合物等を用いることができる。具体的な化合物の例としては、エチレン、プロピレン、1−ブテン、3−メチルブテン−1、4−メチルペンテン−1、などに代表されるオレフィン類、スチレン、α−メチルスチレン、アリルベンゼン、クロロスチレン、などに代表されるスチレン類似化合物、及び、1,3−ブタジエン、イソプレン、1,3−ペンタジエン、1,5−ヘキサジエン、2,6−オクタジエン、ジシクロペンタジエン、1,3−シクロヘキサジエン、1,9−デカジエン、ジビニルベンゼン類、などに代表されるジエン化合物類、などを挙げることができる。中でも、エチレン、プロピレン、3−メチルブテン−1、4−メチルペンテン−1、スチレン、ジビニルベンゼン類、などが特に好ましい。
α−オレフィン重合用固体触媒成分(A)1グラムあたりの基準で、予備重合量は、0.001〜100gの範囲内であり、好ましくは0.1〜50g、更に好ましくは0.5〜10gの範囲内が望ましい。予備重合時の反応温度は、−150〜150℃、好ましくは0〜100℃である。そして、予備重合時の反応温度は、本重合のときの重合温度よりも、低くすることが望ましい。反応は、一般的に撹拌下に行うことが好ましく、そのときヘキサン、ヘプタン等の不活性溶媒を存在させることもできる。
予備重合は複数回行っても良く、この際用いるモノマーは同一であっても異なっても良い。また、予備重合後にヘキサン、ヘプタン等の不活性溶媒で洗浄を行うこともできる。予備重合を終了した後に、触媒の使用形態に応じ、そのまま使用することが可能であるが、必要ならば乾燥を行ってもよい。
さらに、上記各成分の接触の際、もしくは接触の後に、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレンなどの重合体やシリカ、チタニアなどの無機酸化物固体を共存させることも可能である。
本発明においては、触媒としてα−オレフィン重合用固体触媒成分(A)、及び有機アルミニウム化合物(B)を用いることが必須要件である。
本発明において用いることのできる有機アルミニウム化合物(B)としては、特開2004−124090号公報に開示された化合物等を用いることができる。
好ましくは、固体触媒成分(A)を製造する際の成分である有機アルミニウム化合物(A4)における例示と同じ群から選択することができる。固体触媒成分(A)を製造する際に用いることのできる有機アルミニウム化合物(A4)と触媒成分として用いることのできる有機アルミニウム化合物(B)が同一であっても異なっても良い。
有機アルミニウム化合物(B)は、単独の化合物を用いるだけでなく、複数の化合物を併用することもできる。
本発明で用いられる有機アルミニウム化合物(B)は、本重合中に助触媒として用いられる。従って、固体触媒成分(A)を調製する際の成分である有機アルミニウム化合物(A4)とは、使用目的が異なり、区別される。
本発明においては、α−オレフィン用重合触媒として、α−オレフィン重合用固体触媒成分(A)及び有機アルミニウム化合物(B)を用いる。この際、本発明の効果を損なわない範囲で、所望により、有機ケイ素化合物(C)を用いることができる。
好ましくは、α−オレフィン重合用固体触媒成分(A)を調製する際の成分である有機ケイ素化合物(A3)における例示と同じ群から選択することができる。
また、ここで使用される有機ケイ素化合物(C)は、α−オレフィン重合用固体触媒成分(A)に含まれる有機ケイ素化合物(A3)と同一であっても異なってもよい。
本発明で用いられる有機ケイ素化合物(C)は、α−オレフィン重合用固体触媒成分(A)を製造する際の成分である有機ケイ素化合物(A3)と同様に活性点に作用し触媒性能を制御する働きがあると考えられている。本発明のように、α−オレフィン重合用固体触媒成分(A)中だけでなく、本重合時にも有機ケイ素化合物(C)を作用させることで、触媒性能が更に向上させることができる。
本発明の触媒において、任意成分として、少なくとも二つのエーテル結合を有する化合物(D)を用いてもよい。少なくとも二つのエーテル結合を有する化合物(D)としては、特開平3−294302号公報および特開平8−333413号公報に開示された化合物等を用いることができる。
好ましくは、α−オレフィン重合用固体触媒成分(A)において用いられる少なくとも二つのエーテル結合を有する化合物(A5)における例示と同じ群から選択することができる。この際、α−オレフィン重合用固体触媒成分(A)を調製する際に任意成分として用いられる少なくとも二つのエーテル結合を有する化合物(A5)と、触媒の任意成分として用いられる少なくとも二つのエーテル結合を有する化合物(D)が同一であっても、異なっても良い。
少なくとも二つのエーテル結合を有する化合物(D)は、単独の化合物を用いるだけでなく、複数の化合物を併用することもできる。
少なくとも二つのエーテル結合を有する化合物(D)を用いる場合の使用量は、α−オレフィン重合用固体触媒成分(A)を構成するチタン成分に対するモル比(少なくとも二つのエーテル結合を有する化合物(D)のモル数/チタン原子のモル数)で、好ましくは0.01〜10,000の範囲内であり、特に好ましくは0.5〜500の範囲内が望ましい。
本発明の触媒において、本発明の効果を損なわない限り、上記の有機ケイ素化合物(C)、及び、少なくとも二つのエーテル結合を有する化合物(D)以外の成分を、触媒の任意成分として用いることができる。例えば、特開2004−124090号公報に開示されている分子内にC(=O)N結合を有する化合物(E)や、特開2006−225449号公報に開示されている亜硫酸エステル化合物(F)を用いることにより、冷キシレン可溶分(CXS)の様な非晶性成分の生成を抑制することができる。この場合、テトラメチルウレア、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、1−エチル−2−ピロリジノン、亜硫酸ジメチル、亜硫酸ジエチルなどを好まし例として挙げることができる。また、ジエチル亜鉛の様なAl以外の金属原子を持つ有機金属化合物を用いることもできる。
分子内にC(=O)N結合を有する化合物(E)及び亜硫酸エステル化合物(F)を用いる場合の使用量は、α−オレフィン重合用固体触媒成分(A)を構成するチタン成分に対するモル比(任意成分(E)、(F)のモル数/チタン原子のモル数)で、好ましくは0.001〜1,000の範囲内であり、特に好ましくは0.05〜500の範囲内が望ましい。
本発明の新規なα−オレフィン重合用触媒成分を使用するα−オレフィンの重合は、炭化水素溶媒を用いるスラリー重合、実質的に溶媒を用いない液相無溶媒重合又は気相重合に適用される。
スラリー重合の場合の重合溶媒としては、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン等の炭化水素溶媒が用いられる。採用される重合方法は、連続式重合、回分式重合又は多段式重合等いかなる方法でもよい。重合温度は、通常30〜200℃程度、好ましくは50〜150℃であり、そのとき分子量調節剤として水素を用いることができる。
本発明の新規なα−オレフィン重合用触媒成分は、実質的に液化α−オレフィンの潜熱を用いて除熱する重合プロセスに対して適用することが特に好ましい。ここで、「実質的に」とは、液化α−オレフィンの潜熱だけを用いることを意味するのではなく、重合槽に取り付けたジャケットによる除熱等のその他の任意の方法を併用することが可能である。液化α−オレフィンの潜熱による除熱の割合は、全除熱量に対して20%以上、とりわけ、全除熱量に対して40%以上であるとき、本発明の新規な触媒の効果が高くなる。この種の重合プロセスの具体例としては、リフラックスコンデンサーを有するプロピレンバルク重合プロセスや重合モノマーガスの液化機を有するプロピレン気相重合プロセスを例示することができる。
ガスが液化する温度(露点)は、圧力およびガスの組成に依存するため、α−オレフィン単独の露点に対して、α−オレフィンに水素やエチレンなどの露点の低いガス成分を混合していくと、混合量の増加に従って露点が低下する。熱交換器の冷却能力は、設備によって決まるものであり、同一設備を使用する場合にはガス成分の露点が低くなるほどガスを液化させる能力が低下、すなわち、除熱能力が低下してしまう。一方で、α−オレフィン重合体を製造する場合には、連鎖移動反応を起こす能力のある水素を分子量調節剤として用いるのが一般的である。よりMFRの高い、すなわち、より分子量の低いα−オレフィン重合体を製造するためには、より高濃度の水素を用いる必要がある。故に、液化α−オレフィンの潜熱を利用するプロセスでは、高MFRのα−オレフィン重合体を製造しようとすると、除熱の問題から生産性が落ちてしまう問題が発生するのである。
本発明の新規な触媒を使用すると、比較的低い水素濃度でMFRを高くすることが可能であり、この種の重合プロセスにおける高MFR重合体の生産性を劇的に高くすることができる。
R1−CH=CH2
(ここで、R1は、炭素数1〜20の炭化水素基であり、分枝基を有してもよい。)
で表されるものである。
具体的には、プロピレン、ブテン−1、ペンテン−1、ヘキセン−1,4−メチルペンテン−1等のα−オレフィン類である。これらのα−オレフィンの単独重合のほかに、α−オレフィンと共重合可能なモノマー(例えば、エチレン、α−オレフィン、ジエン類、スチレン類等)との共重合も行うことができる。これらの共重合性モノマーは、ランダム共重合においては0〜15重量%まで、ブロック共重合においては0〜50重量%まで使用することができる。
本発明により重合されるα−オレフィン重合体のインデックスについては、特に制限はなく、各種用途に合わせて適宜調節することができる。
一般的には、α−オレフィン重合体のMFRは、0.01〜10,000g/10分の範囲内であることが好ましく、特に好ましくは0.1〜1,000g/10分の範囲内である。
また、α−オレフィン重合体の密度は、用途によって好ましい範囲が異なるのが一般的である。一般射出用途などの硬い成形体が好まれる用途においては、ポリプロピレンの場合、密度の値は0.9030〜0.9100g/mlの範囲内であることが好ましく、特に好ましくは0.9050〜0.9095g/mlの範囲内、とりわけ好ましくは0.9070〜0.9090g/mlの範囲内が望ましい。また、メルトブローン不織布用途などのやや柔らかい触感が好まれる用途に対しては、ポリプロピレンの場合、密度の値は0.9000〜0.9090g/mlの範囲内であることが好ましく、特に好ましくは0.9010〜0.9075g/mlの範囲内、とりわけ好ましくは0.9020〜0.9060g/mlの範囲内が望ましい。
一般的に、ポリマー粒子の粒子性状は、ポリマー嵩密度、粒径分布、粒子外観などにより評価される。
本発明により得られるポリマー粒子は、ポリマー嵩密度が0.35〜0.55g/mlの範囲内、好ましくは、0.40〜0.50g/mlの範囲内である。ポリマー粒子の大きさは、任意の値を取ることができるが、平均粒径が、好ましくは500〜3,000μmの範囲内、特に好ましくは1,000〜2,000μmであることが望ましい。
タカラ社製メルトインデクサーを用い、JIS K6921に基づき、230℃、21.18N(2.16kg)の条件で評価した。
(2)ポリマー嵩密度:
パウダー試料の嵩密度をASTM D1895−69に準ずる装置を使用し測定した。
(3)ポリマー平均粒径:
パウダー試料の粒径分布をJIS Z8801に準拠して篩い分け法により測定した。得られた粒径分布において、重量基準で積算50wt%となる粒径を平均粒径とした。
(4)CXS:
試料(約5g)を140℃のp−キシレン(300ml)中に一度完全に溶解させた。その後23℃まで冷却し、23℃で12時間ポリマーを析出させた。析出したポリマーを濾別した後、濾液からp−キシレンを蒸発させた。p−キシレンを蒸発させた後に残ったポリマーを100℃で2時間減圧乾燥した。乾燥後のポリマーを秤量し、試料に対する重量%としてCXSの値を得た。
MFR測定時に得られた押出ストランドを用い、JIS K7112 D法に準拠して密度勾配管法で行った。
(6)Ti含量:
試料を精確に秤量し、加水分解した上で比色法を用いて測定した。予備重合後の試料については、予備重合ポリマーを除いた重量を用いて含量を計算した。
(7)ケイ素化合物含量:
試料を精確に秤量し、メタノールで分解した。ガスクロマトグラフィーを用いて標準サンプルと比較することにより、得られたメタノール溶液中のケイ素化合物濃度を求めた。メタノール中のケイ素化合物濃度と試料の重量から、試料に含まれるケイ素化合物の含量を計算した。予備重合後の試料については、予備重合ポリマーを除いた重量を用いて含量を計算した。
(1)固体成分(A1)の調製:
撹拌装置を備えた容量10Lのオートクレーブを充分に窒素で置換し、精製したトルエン2Lを導入した。ここに、室温で、Mg(OEt)2を200g、TiCl4を1L添加した。温度を90℃に上げて、フタル酸ジ−n−ブチルを50ml導入した。その後、温度を110℃に上げて3hr反応を行った。反応生成物を精製したトルエンで充分に洗浄した。
次いで、精製したトルエンを導入して全体の液量を2Lに調整した。室温でTiCl4を1L添加し、温度を110℃に上げて2hr反応を行った。反応生成物を精製したトルエンで充分に洗浄した。
次いで、精製したトルエンを導入して全体の液量を2Lに調整した。室温でTiCl4を1L添加し、温度を110℃に上げて2hr反応を行った。反応生成物を精製したトルエンで充分に洗浄した。更に、精製したn−ヘプタンを用いて、トルエンをn−ヘプタンで置換し、固体成分(A1)のスラリーを得た。このスラリーの一部をサンプリングして乾燥した。分析したところ、固体成分(A1)のTi含量は2.7wt%であった。
次に精製したn−ヘプタンを導入して、固体成分(A1)の濃度が60mg/mlとなる様に液レベルを調整し、成分(A2)として1−メチル−1−ビニルシラシクロペンタンを50ml、成分(A3)としてt−Bu(Me)Si(OMe)2を40ml、成分(A4)としてEt3Alのn−ヘプタン希釈液をEt3Alとして80g添加し、40℃で2hr反応を行った。
反応生成物を精製したn−ヘプタンで充分に洗浄した。
上記で得られた触媒成分を用いて、以下の手順により予備重合を行った。
上記のスラリーに精製したn−ヘプタンを導入して、触媒成分の濃度が20g/Lとなる様に調整した。スラリーを10℃に冷却した後、Et3Alのn−ヘプタン希釈液をEt3Alとして10g添加し、210gのプロピレンを4hrかけて供給した。プロピレンの供給が終わった後、更に30分反応を継続した。
次いで、気相部を窒素で充分に置換し、反応生成物を精製したn−ヘプタンで充分に洗浄した。得られたスラリーをオートクレーブから抜き出し、真空乾燥を行って触媒成分(A)を得た。
この触媒成分(A)は、固体成分1g当たり2.0gのポリプロピレンを含んでいた。分析したところ、この触媒成分(A)のポリプロピレンを除いた部分には、Tiが1.9wt%、t−Bu(Me)Si(OMe)2が3.5wt%含まれていた。
撹拌及び温度制御装置を有する内容積3.0Lのステンレス鋼製オートクレーブを真空下で加熱乾燥し、室温まで冷却してプロピレン置換した後、成分(B)としてEt3Alを550mg、及び水素を2,000ml導入し、次いで、液体プロピレンを1,000g導入して、内部温度を70℃に合わせた後に、上記のα−オレフィン重合用触媒成分(A)を7mg圧入して、プロピレンを重合させた。1時間後にエタノールを10ml圧入して重合を停止した。ポリマーを乾燥して秤量した。結果を表1に示す。
(1)プロピレンの重合:
実施例1において、プロピレンの重合を以下のとおり操作した。
撹拌及び温度制御装置を有する内容積3.0Lのステンレス鋼製オートクレーブを真空下で加熱乾燥し、室温まで冷却してプロピレン置換した後、成分(B)としてEt3Alを550mg、成分(C)としてt−Bu(Me)Si(OMe)2を57.0mg及び水素を2,000ml導入し、次いで液体プロピレンを1,000g導入して、内部温度を70℃に合わせた後に、実施例1のα−オレフィン重合用触媒成分(A)を7mg圧入して、プロピレンを重合させた。1時間後にエタノールを10ml圧入して重合を停止した。ポリマーを乾燥して秤量した。結果を表1に示す。
実施例1の固体触媒成分(A)の調製において、1−メチル−1−ビニルシラシクロペンタンの代わりに、ジメチルジビニルシランを使用した以外は、全く同様に行った。
このα−オレフィン重合用触媒成分(A)は、固体成分1g当たり2.0gのポリプロピレンを含んでおり、このα−オレフィン用重合成分(A)のポリプロピレンを除いた部分には、Tiが1.9wt%、t−Bu(Me)Si(OMe)2が3.2wt%含まれていた。また、重合は、実施例1と同様の方法で行った。結果を表1に示す。
(1)プロピレンの重合:
比較例1において、プロピレンの重合を以下のとおり操作した。
撹拌及び温度制御装置を有する内容積3.0Lのステンレス鋼製オートクレーブを真空下で加熱乾燥し、室温まで冷却してプロピレン置換した後、成分(B)としてEt3Alを550mg、成分(C)としてt−Bu(Me)Si(OMe)2を57.0mg及び水素を2,000ml導入し、次いで液体プロピレンを1,000g導入して、内部温度を70℃に合わせた後に、比較例1のα−オレフィン重合用触媒成分(A)を7mg圧入して、プロピレンを重合させた。1時間後にエタノールを10ml圧入して重合を停止した。ポリマーを乾燥して秤量した。結果を表1に示す。
(1)固体成分(A1)の調製:
充分に窒素で置換した攪拌装置を備えた容量500ml丸底フラスコに、精製したn−ヘプタン120mlを導入した。更に、無水塩化マグネシウム15g、Ti(O−n−Bu)4を106ml添加して、90℃で1.5hr反応させ均一な溶解液とした。
次いで均一な溶解液を40℃に冷却した。40℃に保持したままメチルハイドロジェンポリシロキサン(20センチストークスのもの)を24ml添加し、5hr析出反応を行った。析出した固体生成物を精製したn−ヘプタンで充分に洗浄した。
次いで、窒素で充分に置換した攪拌装置を備えた容量500ml丸底フラスコに、析出した固体生成物を40g導入し、更に精製したn−ヘプタンを導入して、固体生成物の濃度が200mg/mlとなる様にした。ここに、SiCl4を12ml添加して、90℃で3hr反応を行った。反応生成物を精製したn−ヘプタンで充分に洗浄し、反応生成物の濃度が100mg/mlとなる様に精製したn−ヘプタンを導入した。フタル酸ジクロライド1.0ml添加し、90℃で1hr反応を行った。反応生成物を精製したn−ヘプタンで充分に洗浄し、反応生成物の濃度が200mg/mlとなる様に精製したn−ヘプタンを導入した。ここへ、TiCl4を15ml添加し、95℃で3hr反応を行った。反応生成物を精製したn−ヘプタンで充分に洗浄し、反応生成物の濃度が200mg/mlとなる様に精製したn−ヘプタンを導入した。ここへ、SiCl4を4.0ml添加し、90℃で1hr反応を行った。
反応生成物を精製したn−ヘプタンで充分に洗浄し、固体成分(A1)のスラリーを得た。このスラリーの一部をサンプリングして乾燥した。分析したところ、固体成分(A1)のTi含量は1.8wt%であった。
次いで、充分に窒素で置換し撹拌装置を備えた500ml丸底フラスコに、上記固体成分(A1)として4gを導入した。精製したn−ヘプタンを導入して、固体成分(A1)の濃度が60mg/mlとなる様に調整した。ここに、成分(A2)として1−メチル−1―ビニルシラシクロペンタンを1.0ml、成分(A3)として(i−Pr)2Si(OMe)2を0.8ml、成分(A4)としてEt3Alのn−ヘプタン希釈液をEt3Alとして2.5g添加し、40℃で2hr反応を行った。
反応生成物を精製したn−ヘプタンで充分に洗浄した。
上記で得られた触媒成分を用いて、以下の手順により予備重合を行った。
上記のスラリーに精製したn−ヘプタンを導入して、触媒成分の濃度が20mg/mlとなる様に調整した。スラリーを10℃以下に冷却した後、Et3Alのn−ヘプタン希釈液をEt3Alとして1.0g添加し、8gのプロピレンを20分かけて供給した。プロピレンの供給が終わった後、更に10分反応を継続した。
次いで、気相部を窒素で充分に置換し、反応生成物を精製したn−ヘプタンで充分に洗浄した。得られたスラリーの真空乾燥を行い、触媒成分(A)を得た。
この触媒成分(A)は、固体成分1g当たり1.9gのポリプロピレンを含んでいた。分析したところ、この触媒成分(A)のポリプロピレンを除いた部分には、Tiが0.9wt%、(i−Pr)2Si(OMe)2が4.1wt%含まれていた。
また、プロピレンの重合は、実施例1と同様の方法で行った。結果を表1に示す。
実施例3の固体触媒成分(A)の調製において、1−メチル−1−ビニルシラシクロペンタンの代わりに、トリメチルビニルシランを使用した以外は、全く同様に行った。
このα−オレフィン重合用触媒成分(A)は、固体成分1g当たり2.0gのポリプロピレンを含んでおり、このα−オレフィン用重合成分(A)のポリプロピレンを除いた部分には、Tiが1.0wt%、(i−Pr)2Si(OMe)2が4.2wt%含まれていた。
また、重合は、実施例1と同様の方法で行った。結果を表1に示す。
実施例1の固体触媒成分(A)の調製において、1−メチル−1−ビニルシラシクロペンタンの代わりに、1−メチル−1−ビニルシラシクロヘキサンを使用した以外は、全く同様に行った。
このα−オレフィン重合用触媒成分(A)は、固体成分1g当たり2.0gのポリプロピレンを含んでおり、このα−オレフィン用重合成分(A)のポリプロピレンを除いた部分には、Tiが2.0wt%、t−Bu(Me)Si(OMe)2が3.2wt%含まれていた。
また、重合は、実施例1と同様の方法で行った。結果を表1に示す。
表1から明らかなように、実施例1〜4及び比較例1〜3を対比検討することにより、本発明の触媒の重合活性が全般にわたり比較例に対して優れ、更に、CXS値と嵩密度などから、立体規則性や粒子性状も高レベルに維持された結果を示しており、本発明の触媒は、非常にバランスの優れた触媒であるといえる。
具体的には、実施例1〜4と比較例1〜3を対比すると、特に、実施例1と比較例1から、本発明に係る(A2)成分として特定のアルケニル基を有するケイ素化合物を用いることにより、立体規則性は維持されたままか、やや向上しつつ、触媒の重合活性が大幅に向上していることが分かる。
また、実施例2と比較例2の対比から、プロピレンの重合時に有機ケイ素化合物(C)を用いても、本発明に係る(A2)成分を用いることにより、重合活性が向上していることが確認できる。
さらに、実施例3と比較例3の対比から、他の手法で製造された固体成分(A)においても、重合活性が向上し、本発明の効果が確認できる。
また、実施例4において、本発明に係る(A2)成分の環構造が5員環から6員環に変更した場合でも、同等の性能が発現することが確認できる。
したがって、本発明の各実施例の触媒は、立体規則性などの基本性能を高レベルにて維持したまま、極めて高い触媒活性を有する触媒であり、各比較例に比して、優れた結果が得られているといえる。よって、本発明の構成の合理性と有意性及び従来技術に対する卓越性が実証されている。
また、本発明の触媒を用いて得られたα−オレフィン重合体、特にポリプロピレンは、自動車部品や家電部品に代表される射出成形用途、二軸延伸フィルムに代表される押出成形用途、並びに、スパンボンドに代表される繊維等に好適に用いることができる。
Claims (7)
- 成分(A2)のアルケニル基を有するケイ素化合物の一般式において、m=0であることを特徴とする請求項1に記載のα−オレフィン重合用固体触媒成分。
- 成分(A1)の固体成分中のマグネシウムは、ハロゲン化マグネシウム化合物及びアルコキシマグネシウム化合物からなる群から選ばれる少なくとも一つの化合物を由来とすることを特徴とする請求項1又は2に記載のα−オレフィン重合用固体触媒成分。
- 成分(A1)の固体成分中のチタンは、アルコキシチタン化合物およびハロゲン化チタン化合物からなる群から選ばれる少なくとも1つの化合物を由来とすることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のα−オレフィン重合用固体触媒成分。
- 請求項1〜4のいずれかに記載のα−オレフィン重合用固体触媒成分(A)と下記成分(B)からなることを特徴とするα−オレフィン重合用触媒。
成分(B):有機アルミニウム化合物 - さらに、下記成分(C)からなることを特徴とする請求項5に記載のα−オレフィン重合用触媒。
成分(C):有機ケイ素化合物 - 請求項5又は6に記載されたα−オレフィン重合用触媒を用いて、α−オレフィンを単独重合又は共重合することを特徴とするα−オレフィン重合体又は共重合体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010185768A JP5651408B2 (ja) | 2009-09-01 | 2010-08-23 | α−オレフィン重合用固体触媒成分、α−オレフィン重合用触媒およびα−オレフィン重合体又は共重合体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009201207 | 2009-09-01 | ||
JP2009201207 | 2009-09-01 | ||
JP2010185768A JP5651408B2 (ja) | 2009-09-01 | 2010-08-23 | α−オレフィン重合用固体触媒成分、α−オレフィン重合用触媒およびα−オレフィン重合体又は共重合体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011074360A JP2011074360A (ja) | 2011-04-14 |
JP5651408B2 true JP5651408B2 (ja) | 2015-01-14 |
Family
ID=44018671
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010185768A Active JP5651408B2 (ja) | 2009-09-01 | 2010-08-23 | α−オレフィン重合用固体触媒成分、α−オレフィン重合用触媒およびα−オレフィン重合体又は共重合体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5651408B2 (ja) |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0725820B2 (ja) * | 1987-03-26 | 1995-03-22 | 三井東圧化学株式会社 | プロピレンの重合方法 |
JPH01110692A (ja) * | 1987-04-03 | 1989-04-27 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 新規なビニル化合物 |
JP2874934B2 (ja) * | 1990-02-08 | 1999-03-24 | 三菱化学株式会社 | α‐オレフィン重合体の製造 |
JP2003292523A (ja) * | 2002-04-08 | 2003-10-15 | Japan Polychem Corp | α−オレフィンの重合用触媒およびこれを用いたα−オレフィン重合体の製造方法 |
JP4975295B2 (ja) * | 2005-10-14 | 2012-07-11 | 日本ポリプロ株式会社 | α−オレフィン重合用触媒及びα−オレフィン重合体の製造方法 |
WO2008033980A2 (en) * | 2006-09-14 | 2008-03-20 | Starfire Systems, Inc. | Synthetic process for cyclic organosilanes |
JP2008308558A (ja) * | 2007-06-13 | 2008-12-25 | Japan Polypropylene Corp | α−オレフィン重合用固体触媒成分及びその製造方法、α−オレフィン重合用触媒、α−オレフィン重合体の製造方法 |
-
2010
- 2010-08-23 JP JP2010185768A patent/JP5651408B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2011074360A (ja) | 2011-04-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6996345B2 (ja) | α-オレフィン重合用固体触媒成分、α-オレフィン重合用固体触媒成分の製造方法、α-オレフィン重合用触媒、及びそれを用いたα-オレフィン重合体の製造方法 | |
JP2007254671A (ja) | ポリプロピレンの製造方法 | |
JP5039351B2 (ja) | プロピレン系重合用触媒成分、触媒およびプロピレン系重合体の製造方法 | |
JP4975295B2 (ja) | α−オレフィン重合用触媒及びα−オレフィン重合体の製造方法 | |
JP6714869B2 (ja) | α−オレフィン重合用固体触媒成分の製造方法、及びそれを用いたα−オレフィン重合体の製造方法 | |
JP7218581B2 (ja) | α-オレフィン重合用固体触媒成分の製造方法、α-オレフィン重合用触媒、及びそれを用いたα-オレフィン重合体の製造方法 | |
JP2010155948A (ja) | α−オレフィン重合用固体触媒成分、α−オレフィン重合用触媒成分、α−オレフィン重合用触媒、及びそれを用いるα−オレフィン重合体の製造方法 | |
JP5118847B2 (ja) | α−オレフィン重合用固体触媒成分、α−オレフィン重合用触媒、及びα−オレフィン重合体の製造方法 | |
JP5892032B2 (ja) | α−オレフィン重合用触媒成分の製造方法、α−オレフィン重合用触媒の製造方法及びα−オレフィン重合体の製造方法 | |
JP2007321136A (ja) | ポリプロピレン系ブロック共重合体の製造方法 | |
JP2010242039A (ja) | α−オレフィン重合用固体触媒成分およびその製造方法、α−オレフィン重合用触媒成分、α−オレフィン重合用触媒並びにα−オレフィン重合体又は共重合体の製造方法 | |
JP2008308558A (ja) | α−オレフィン重合用固体触媒成分及びその製造方法、α−オレフィン重合用触媒、α−オレフィン重合体の製造方法 | |
JP2007119514A (ja) | α−オレフィン重合用触媒成分、α−オレフィン重合用触媒、及びα−オレフィン重合体の製造方法 | |
JP2010155949A (ja) | α−オレフィン重合用固体触媒成分の製造方法、α−オレフィン重合用触媒成分の製造方法及びα−オレフィン重合用触媒 | |
JP5651408B2 (ja) | α−オレフィン重合用固体触媒成分、α−オレフィン重合用触媒およびα−オレフィン重合体又は共重合体の製造方法 | |
JP6314851B2 (ja) | α−オレフィン重合用固体触媒成分の製造方法、α−オレフィン重合用触媒の製造方法およびα−オレフィン重合体の製造方法 | |
JP7476608B2 (ja) | プロピレン系重合体の製造方法 | |
JP5337421B2 (ja) | α−オレフィン重合用触媒及びそれを用いたα−オレフィン重合体又は共重合体の製造方法 | |
JP4903496B2 (ja) | α−オレフィン重合用触媒成分及びそれを用いるα−オレフィン重合体の製造方法 | |
JP5895809B2 (ja) | プロピレン重合用固体触媒成分の製造方法、プロピレン重合用触媒成分の製造方法、プロピレン重合用触媒の製造方法及びプロピレン重合体の製造方法 | |
JP5799866B2 (ja) | α−オレフィン重合用固体触媒成分、α−オレフィン重合用固体触媒成分の製造方法、α−オレフィン重合用触媒およびα−オレフィン重合体の製造方法 | |
JP6809374B2 (ja) | α−オレフィン重合用固体触媒成分の製造方法、及びそれを用いたα−オレフィン重合体の製造方法 | |
JP2010248437A (ja) | α−オレフィン重合用固体触媒成分およびその製造方法、α−オレフィン重合用触媒成分、α−オレフィン重合用触媒並びにα−オレフィン重合体又は共重合体の製造方法 | |
JP4427102B2 (ja) | α−オレフィン重合用触媒及びそれを用いるα−オレフィン重合体の製造方法 | |
JP2013071955A (ja) | α−オレフィン重合用固体触媒成分、α−オレフィン重合用固体触媒成分の製造方法、α−オレフィン重合用触媒およびα−オレフィン重合体の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130514 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140205 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140218 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20141028 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20141117 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5651408 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |