JP5644695B2 - 面発光レーザ素子 - Google Patents
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Description
式(1):D=m×(λ/2)、(mは整数であり、λは面発光レーザの発光波長)
こうすることにより、抵抗分布層が分布反射ミラーに接している場合でも、分布反射ミラーの反射率は、場所によらず一定となる。この理由を以下で説明する。
前記抵抗分布層は、A層と、前記A層よりも電気抵抗が大きいB層とが交互に積層されたものであり、前記ステップ形状における、膜厚方向と直交する面では、前記A層が表面に表れている。こうすることにより凹部では、膜厚方向に沿った面よりも、膜厚方向と直交する面において電流が流れやすい。そのため、凹部の電気抵抗は、凹部における膜厚に応じて決まるので、電気抵抗の制御が容易である。
前記出射側分布反射ミラーとは、前記第1の分布反射ミラーと前記第2の分布反射ミラーとのうち、前記出射側電極に近い方を意味する。
<第1の実施形態>
1.面発光レーザ素子1の構成
面発光レーザ素子1の構成を、図1〜図3に基づいて説明する。図1は、面発光レーザ素子1の全体構成を表す側断面図である。図2は、後述する抵抗分布層16及びその周辺の構成を表す側断面図である。図3は、抵抗分布層16を形成する工程を表す説明図である。
次に、抵抗分布層16の形成方法を図3に基づいて説明する。まず、図3(1)に示すように、均一な厚みの抵抗分布層16(凹部16aは未形成)を、非出射側DBR15の上に形成する。
(1)抵抗分布層16は、その中央部に凹部16aを備えるので、抵抗分布層16の膜厚は中央部において薄く、周辺部において厚い。そのことにより、抵抗分布層16の電気抵抗は中央部において小さく、周辺部において大きい。よって、抵抗分布層16は、周辺部での電流の流れを抑制し、活性層への電流注入を均一化する電流狭窄層として機能する。
<第2の実施形態>
1.面発光レーザ素子1の構成
面発光レーザ素子1の全体構成は、前記第1の実施形態と同様である。すなわち、本実施形態の面発光レーザ素子1も、図1に示すように、n型半導体基板3、出射側電極(第1の電極)5、出射側DBR(第1の分布反射ミラー、出射側分布反射ミラー)7、クラッド層(第1のクラッド層)9、活性層11、クラッド層(第2のクラッド層)13、非出射側DBR(第2の分布反射ミラー、非出射側分布反射ミラー)15、抵抗分布層16、非出射側電極(第2の電極)17、絶縁層19を備える。
抵抗分布層16の中央部には、図5に示すように、凹部16aが形成されており、抵抗分布層16の中央部における膜厚は、周辺部よりも薄い。また、抵抗分布層16の中央部における電気抵抗は、周辺部における電気抵抗よりも小さい。
凹部16aにおいて、膜厚方向と直交する面(図5における水平面)には、面16bと面16cとがある。この面16bと面16cにおいては、いずれも、第1の層25が表面に表れている。よって、面16bと面16cにおいては、第1の層25が非出射側電極17に接している。
(1)抵抗分布層16は、その中央部に凹部16aを備えるので、抵抗分布層16の膜厚は中央部において薄く、周辺部において厚い。そのことにより、抵抗分布層16の電気抵抗は中央部において小さく、周辺部において大きい。よって、抵抗分布層16は、周辺部での電流の流れを抑制し、活性層への電流注入を均一化する電流狭窄層として機能する。
<第3の実施形態>
1.面発光レーザ素子51の構成
面発光レーザ素子51の構成を、図7、及び図8に基づいて説明する。図7は、面発光レーザ素子51の全体構成を表す側断面図である。図8は、後述する抵抗分布層54及びその周辺の構成を表す側断面図である。
抵抗分布層54は、前記第1の実施形態における抵抗分布層16と同様の方法で形成することができる。
(1)抵抗分布層54は、その中央部に凹部54aを備えるので、抵抗分布層54の膜厚は中央部において薄く、周辺部において厚い。そのことにより、抵抗分布層54の電気抵抗は中央部において小さく、周辺部において大きい。よって、抵抗分布層54は、周辺部での電流の流れを抑制し、活性層への電流注入を均一化する電流狭窄層として機能する。
例えば、前記第1〜第3の実施形態において、凹部16a、54aは2段階のステップ形状であったが、1段階のステップ形状であってもよいし、2以外の複数段階(例えば、3段階、4段階、5段階・・・)のステップ形状であってもよい。
5、67・・・出射側電極、5a、67a・・・開口部、
7、65・・・出射側DBR、9、13、59、63・・・クラッド層、
11、61・・・活性層、15、57・・・非出射側DBR、
16、54・・・抵抗分布層、16a、54a・・・凹部、
17、55・・・非出射側電極、17a、55a・・・コンタクト部、
19、69・・・絶縁層、21、24・・・マスク、22・・・凹部、
25・・・第1の層、27・・・第2の層、
101・・・面発光レーザ素子、103・・・n型半導体基板、
105・・・出射側電極、105a・・・開口部、
107・・・出射側分布反射ミラー、109、113・・・クラッド層、
111・・・活性層、115・・・非出射側分布反射ミラー、
117・・・非出射側電極、117a・・・コンタクト部、119・・・絶縁層
Claims (3)
- 半導体基板と、
前記半導体基板における一方の面に設けられた第1の電極と、
前記半導体基板における反対側の面に設けられた、第1の分布反射ミラー、第1のクラッド層、活性層、第2のクラッド層、第2の分布反射ミラー、及び第2の電極と、
を備え、
前記第1の電極と前記第2の電極のうち、一方は、開口部を有する出射側電極であり、他方は、コンタクト部を有する非出射側電極であり、
膜厚方向での電気抵抗が、中央部よりも、周辺部において大きい抵抗分布層を、前記非出射側電極に隣接する位置に備え、
前記抵抗分布層は、前記中央部に、前記周辺部よりも膜厚が薄い凹部を備え、
前記凹部の断面形状は、1段又は複数段のステップ形状であり、
前記抵抗分布層は、A層と、前記A層よりも電気抵抗が大きいB層とが交互に積層されたものであり、
前記ステップ形状における、膜厚方向と直交する面では、前記A層が表面に表れていることを特徴とする面発光レーザ素子。 - 前記A層と、前記B層とは、エッチングレートに差があることを特徴とする請求項1記載の面発光レーザ素子。
- 前記ステップ形状における1段の深さDは、下記式(1)で表されることを特徴とする請求項1又は2に記載の面発光レーザ素子。
式(1):D=m×(λ/2)、(mは整数であり、λは面発光レーザの発光波長)
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