JP2011155087A - 面発光型半導体レーザおよびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】簡易な方法で、深さの異なる溝を高精度に形成し、レーザ光の偏光方向を一方向に安定化することが可能な面発光型半導体レーザを提供する。
【解決手段】コンタクト層17に第1溝51を設けたのち、平面形状において一部が第1溝51に重なる第2溝52を形成する。第2溝52の第1溝51に重ならない部分52Bのエッチング深さを、積層方向において上部酸化可能層を含む上部第2DBRミラー層を貫通すると共に、下部酸化可能層を含む下部第2DBRミラー層に達しない深さとする。このとき、第2溝52の第1溝51に重なる部分52Aのエッチング深さは、第1溝51の深さ分だけ、第1溝51に重ならない部分52Bよりも大きくなり、積層方向において下部酸化可能層のうち少なくとも1層を貫通する深さとすることが可能となる。
【選択図】図6
【解決手段】コンタクト層17に第1溝51を設けたのち、平面形状において一部が第1溝51に重なる第2溝52を形成する。第2溝52の第1溝51に重ならない部分52Bのエッチング深さを、積層方向において上部酸化可能層を含む上部第2DBRミラー層を貫通すると共に、下部酸化可能層を含む下部第2DBRミラー層に達しない深さとする。このとき、第2溝52の第1溝51に重なる部分52Aのエッチング深さは、第1溝51の深さ分だけ、第1溝51に重ならない部分52Bよりも大きくなり、積層方向において下部酸化可能層のうち少なくとも1層を貫通する深さとすることが可能となる。
【選択図】図6
Description
本発明は、上面にレーザ光の射出領域を有する面発光型半導体レーザおよびその製造方法に係り、特に、偏光方向の安定した光出力が要求される用途に好適に適用可能な面発光型半導体レーザおよびその製造方法に関する。
面発光型半導体レーザは、従来の端面射出型のものとは異なり、基板に対して直交する方向に光を射出するものであり、同じ基板上に2次元アレイ状に多数の素子を配列することが可能であることから、近年、デジタルコピー機やプリンタ機用の光源として注目されている。
従来、この種の面発光型半導体レーザは、半導体基板上に一対の多層膜反射鏡が形成されており、その対の多層膜反射鏡の間に発光領域となる活性層を有している。そして、一方の多層膜反射鏡には、活性層への電流注入効率を高め、しきい値電流を下げるために、電流注入領域を狭めた構造を有する電流狭窄層が設けられている。また、下面側にはn側電極、上面側にはp側電極がそれぞれ設けられ、p側電極にはレーザ光を射出するために光射出口が設けられている。この面発光型半導体レーザでは、電流は電流狭窄層により狭窄されたのち活性層に注入され、ここで発光し、これが一対の多層膜反射鏡で反射を繰り返しながらレーザ光としてp側電極の光射出口から射出される。
ところで、上記した面発光型半導体レーザは、一般に、素子のばらつきにより偏光方向がばらついてしまう不均一性や、出力や環境温度により偏光方向が変化してしまう不安定性を有している。そのため、このような面発光型半導体レーザをミラーやビームスプリッタといった偏波依存のある光学素子に対して適用する場合、例えば、デジタルコピー機やプリンタ機用の光源として用いる場合には、偏光方向のばらつきが像の結像位置や出力に差異を生じさせ、にじみや色むらが発生してしまうという問題がある。
そこで、このような問題に対して、面発光型半導体レーザの内部に偏光制御機能を設け、偏光方向を一方向に安定化させる技術が報告されている。
例えば、特許文献1には、共振器の周囲に、A−A方向に対向する2つの領域と、これに直交するB−B方向に対向する2つの領域とに、深さの異なる溝を設けて、それぞれの領域の酸化された層の本数を変えることにより、1方向からの圧縮応力を強くし、偏波制御性を高めることが記載されている。
しかしながら、上記特許文献1の従来構成では、2つの領域に深さの異なる溝を形成するためにはそれぞれの領域毎にフォトレジスト形成・エッチングのプロセスを実施しなければならなかった。そのため、高精度に発光点中心の同心円状の溝を形成することが非常に難しく、電流狭窄領域の形状が不均一になりやすかった。
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、簡易な方法で、深さの異なる溝を高精度に形成し、レーザ光の偏光方向を一方向に安定化することが可能な面発光型半導体レーザおよびその製造方法を提供することにある。
本発明による第1の面発光型半導体レーザの製造方法は、以下の(A)〜(C)の工程を含むものである。
(A)基板に、少なくとも1層の下部酸化可能層を含む下部多層膜反射鏡、発光領域を有する活性層、上部酸化可能層を含む上部多層膜反射鏡および上層をこの順に有する積層構造を形成する工程
(B)上層に第1の溝を設ける工程
(C)積層構造に、平面形状において第1の溝に重なる部分および第1の溝に重ならない部分を含む第2の溝を設ける工程
(A)基板に、少なくとも1層の下部酸化可能層を含む下部多層膜反射鏡、発光領域を有する活性層、上部酸化可能層を含む上部多層膜反射鏡および上層をこの順に有する積層構造を形成する工程
(B)上層に第1の溝を設ける工程
(C)積層構造に、平面形状において第1の溝に重なる部分および第1の溝に重ならない部分を含む第2の溝を設ける工程
本発明による面発光型半導体レーザは、以下の(A)〜(D)の構成要素を備えたものである。
(A)基板に、下部多層膜反射鏡、発光領域を有する活性層、上部多層膜反射鏡および上層をこの順に有する積層構造よりなる柱状部
(B)柱状部の側面の上部多層膜反射鏡に設けられた上部酸化層
(C)柱状部の周縁の一部または柱状部よりも外側の領域に設けられ、上層の第1の溝および第1の溝の底面の第2の溝よりなる段差付き凹部
(D)段差付き凹部の側面の下部多層膜反射鏡に設けられた少なくとも1層の下部酸化層
(A)基板に、下部多層膜反射鏡、発光領域を有する活性層、上部多層膜反射鏡および上層をこの順に有する積層構造よりなる柱状部
(B)柱状部の側面の上部多層膜反射鏡に設けられた上部酸化層
(C)柱状部の周縁の一部または柱状部よりも外側の領域に設けられ、上層の第1の溝および第1の溝の底面の第2の溝よりなる段差付き凹部
(D)段差付き凹部の側面の下部多層膜反射鏡に設けられた少なくとも1層の下部酸化層
なお、下部多層膜反射鏡と活性層との間や、活性層と上部多層膜反射鏡との間に何らかの層が挿入されていてもよい。
本発明の面発光型半導体レーザでは、柱状部の周縁の一部または柱状部よりも外側の領域に、上層の第1の溝およびこの第1の溝の底面の第2の溝よりなる段差付き凹部が設けられており、この段差付き凹部の側面の下部多層膜反射鏡に少なくとも1層の下部酸化層が設けられているので、下部酸化層による応力が活性層に不均一に発生する。このとき、下部酸化層の不均一な分布が異方性を有している場合には、下部酸化層による異方的な応力が活性層に発生するので、応力の向きと平行な方向の偏光成分および応力の向きと直交する方向の偏光成分のいずれか一方が強められ、それ以外の偏光成分が抑制される。これにより、レーザ光の偏光成分が一方向に固定される。
本発明による第2の面発光型半導体レーザの製造方法は、以下の(A)〜(D)の工程を含むものである。
(A)基板に、少なくとも1層の下部酸化可能層を含む下部多層膜反射鏡、発光領域を有する活性層、上部酸化可能層を含む上部多層膜反射鏡および絶縁膜をこの順に有する積層構造を形成する工程
(B)絶縁膜の一部を除去することにより絶縁膜抜き領域を設ける工程
(C)絶縁膜および絶縁膜抜き領域の上にフォトレジスト膜を形成することにより、絶縁膜のフォトレジスト膜で保護されていない絶縁膜有り領域と、絶縁膜抜き領域のフォトレジストで保護されていない絶縁膜無し領域とを設ける工程
(D)フォトレジスト膜をマスクとして絶縁膜有り領域および絶縁膜無し領域をエッチングする工程
(A)基板に、少なくとも1層の下部酸化可能層を含む下部多層膜反射鏡、発光領域を有する活性層、上部酸化可能層を含む上部多層膜反射鏡および絶縁膜をこの順に有する積層構造を形成する工程
(B)絶縁膜の一部を除去することにより絶縁膜抜き領域を設ける工程
(C)絶縁膜および絶縁膜抜き領域の上にフォトレジスト膜を形成することにより、絶縁膜のフォトレジスト膜で保護されていない絶縁膜有り領域と、絶縁膜抜き領域のフォトレジストで保護されていない絶縁膜無し領域とを設ける工程
(D)フォトレジスト膜をマスクとして絶縁膜有り領域および絶縁膜無し領域をエッチングする工程
本発明の第1の面発光型半導体レーザの製造方法によれば、上層に第1の溝を設けたのち、平面形状において第1の溝に重なる部分および第1の溝に重ならない部分を含む第2の溝を設けるようにしたので、同一の工程で、第2の溝の第1の溝に重なる部分を、第1の溝に重ならない部分よりも深く設けることが可能となる。また、第2の溝の第1の溝に重なる部分の位置精度は、第2の溝の形成工程における位置精度のみにかかり、第1の溝の位置ずれは反映されない。よって、簡易な方法で、深さの異なる溝を高精度に形成し、レーザ光の偏光方向を一方向に安定化することが可能となる。
本発明の面発光型半導体レーザによれば、柱状部の周縁の一部または柱状部よりも外側の領域に、上層の第1の溝およびこの第1の溝の底面の第2の溝よりなる段差付き凹部を設け、この段差付き凹部の側面の下部多層膜反射鏡に少なくとも1層の下部酸化層を設けるようにしたので、レーザ光の偏光方向を一方向に安定化することが可能となる。
本発明の第2の面発光型半導体レーザの製造方法によれば、絶縁膜および絶縁膜抜き領域の上にフォトレジスト膜を形成し、絶縁膜のフォトレジスト膜で保護されていない絶縁膜有り領域と、絶縁膜抜き領域のフォトレジスト膜で保護されていない絶縁膜無し領域とを設け、フォトレジスト膜をマスクとして絶縁膜有り領域および絶縁膜無し領域をエッチングするようにしたので、同一の工程で、絶縁膜無し領域を、絶縁膜有り領域よりも深くエッチングすることが可能となる。よって、簡易な方法で、深さの異なる溝を高精度に形成し、レーザ光の偏光方向を一方向に安定化することが可能となる。
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、説明は以下の順序で行う。
1.第1の実施の形態(第2の溝を、柱状部を囲む環状に設ける例)
2.第2の実施の形態(第2の溝を、柱状部以外の領域の全体に設ける例)
3.第3の実施の形態(第3の溝を、柱状部を囲む環状に設け、第3の溝よりも外側に第1の溝および第2の溝を設ける例)
4.第4の実施の形態(第1の溝を、エッチングストッパー層を用いて形成する例)
5.第5の実施の形態(第1の溝に代えて、絶縁膜抜き領域を設ける例)
1.第1の実施の形態(第2の溝を、柱状部を囲む環状に設ける例)
2.第2の実施の形態(第2の溝を、柱状部以外の領域の全体に設ける例)
3.第3の実施の形態(第3の溝を、柱状部を囲む環状に設け、第3の溝よりも外側に第1の溝および第2の溝を設ける例)
4.第4の実施の形態(第1の溝を、エッチングストッパー層を用いて形成する例)
5.第5の実施の形態(第1の溝に代えて、絶縁膜抜き領域を設ける例)
(第1の実施の形態)
(製造方法)
図1ないし図16は、本発明の第1の実施の形態に係る面発光型半導体レーザの製造方法を工程順に表したものである。まず、図1に示したように、GaAsよりなる基板11上の化合物半導体層を、例えばMOCVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposition ;有機金属化学気相成長)法により形成する。この際、III−V族化合物半導体の原料としては、例えば、トリメチルアルミニウム(TMA)、トリメチルガリウム(TMG)、トリメチルインジウム(TMIn)、アルシン (AsH3)を用い、ドナー不純物の原料としては、例えば、H2 Seを用い、アクセプタ不純物の原料としては、例えば、ジメチルジンク(DMZ)を用いる。
(製造方法)
図1ないし図16は、本発明の第1の実施の形態に係る面発光型半導体レーザの製造方法を工程順に表したものである。まず、図1に示したように、GaAsよりなる基板11上の化合物半導体層を、例えばMOCVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposition ;有機金属化学気相成長)法により形成する。この際、III−V族化合物半導体の原料としては、例えば、トリメチルアルミニウム(TMA)、トリメチルガリウム(TMG)、トリメチルインジウム(TMIn)、アルシン (AsH3)を用い、ドナー不純物の原料としては、例えば、H2 Seを用い、アクセプタ不純物の原料としては、例えば、ジメチルジンク(DMZ)を用いる。
まず、基板11上に、下部DBRミラー層12,下部スペーサ層(クラッド層)13,活性層14,上部スペーサ層(クラッド層)15,上部DBRミラー層16およびコンタクト層17を順番に積層し、積層構造10を形成する。
基板11としては、例えばn型GaAs基板を用いる。このGaAs基板は、例えば(100)面基板であることが好ましいが、(100)面に対して2度から20度程度の傾斜基板、(n11)面基板(nは整数)などの特殊な基板であってもよい。
下部DBRミラー層12は、例えば、基板11側から順に、下部第1DBRミラー層21,下部第2DBRミラー層22および下部第3DBRミラー層23を積層する。下部第1DBRミラー層21は、低屈折率層21Aおよび高屈折率層21Bを1組として、それを複数組分積層して構成されたものである。低屈折率層21Aは例えば光学厚さがλ/4(λは発振波長)のn型AlyGa1−yAsからなり、高屈折率層21Bは例えば光学厚さがλ/4のn型AlzGa1−zAsからなる。下部第2DBRミラー層22は、低屈折率層22Aおよび高屈折率層22Bを1組として、それを複数組分積層して構成されたものである。低屈折率層22Aは例えば光学厚さがλ/4のn型AlβGa1−βAsからなり、高屈折率層22Bは例えば光学厚さがλ/4のn型AlzGa1−zAsからなる。下部第3DBRミラー層23は、低屈折率層23Aおよび高屈折率層23Bを1組として、それを複数組分積層して構成されたものである。低屈折率層23Aは例えば光学厚さがλ/4のn型AlxGa1−xAsからなり、高屈折率層23Bは例えば光学厚さがλ/4のn型AlzGa1−zAsからなる。
上部DBRミラー層16は、例えば、基板11側から順に、上部第1DBRミラー層31、上部第2DBRミラー層32および上部第3DBRミラー層33を積層する。上部第1DBRミラー層31は、低屈折率層31Aおよび高屈折率層31Bを1組として、それを複数組分積層して構成されたものである。低屈折率層31Aは例えば光学厚さがλ/4(λは発振波長)のn型AlxGa1−xAsからなり、高屈折率層31Bは例えば光学厚さがλ/4のn型AlzGa1−zAsからなる。上部第2DBRミラー層32は、低屈折率層32Aおよび高屈折率層32Bを1組として、それを複数組分積層して構成されたものである。低屈折率層32Aは例えば光学厚さがλ/4のn型AlαGa1−αAsからなり、高屈折率層32Bは例えば光学厚さがλ/4のn型AlzGa1−zAsからなる。上部第3DBRミラー層33は、低屈折率層33Aおよび高屈折率層33Bを1組として、それを複数組分積層して構成されたものである。低屈折率層33Aは例えば光学厚さがλ/4のn型AlxGa1−xAsからなり、高屈折率層33Bは例えば光学厚さがλ/4のn型AlzGa1−zAsからなる。
下部DBRミラー層12および上部DBRミラー層16の各層のアルミニウム(Al)組成比は、
1≧α,β≧x,y>0.8>z≧0
を満たしている。すなわち、下部第2DBRミラー層22の低屈折率層22Aは、AlβGa1−βAsよりなる少なくとも1層の下部酸化可能層22Aであり、上部第2DBRミラー層32の低屈折率層32Aは、AlαGa1−αAsよりなる上部酸化可能層32Aである。
1≧α,β≧x,y>0.8>z≧0
を満たしている。すなわち、下部第2DBRミラー層22の低屈折率層22Aは、AlβGa1−βAsよりなる少なくとも1層の下部酸化可能層22Aであり、上部第2DBRミラー層32の低屈折率層32Aは、AlαGa1−αAsよりなる上部酸化可能層32Aである。
下部スペーサ層13は、例えばAlx2Ga1−x2As(0<x2<1)により構成する。活性層14は、例えばAlGaAs系材料により構成する。上部スペーサ層15は、例えばAlx3Ga1−x3As(0<x3<1)により構成する。これら下部スペーサ層13、活性層14および上部スペーサ層15は、不純物が含まれていないことが望ましいが、p型またはn型不純物が含まれていてもよい。なお、n型不純物としては、例えばケイ素(Si)またはセレン(Se)などが挙げられる。p型不純物としては、亜鉛(Zn)、マグネシウム(Mg)、ベリリウム(Be)、カーボン(C)などが挙げられる。
コンタクト層17は、例えばAlx4Ga1−x4As(0≦x4≦0.3)により構成する。コンタクト層17の厚みについては後述する。
次いで、図2および図3に示したように、コンタクト層17の上にフォトレジスト膜41を形成し、このフォトレジスト膜41に、後述する第1溝51を形成するための開口41Aを設ける。
続いて、図4に示したように、フォトレジスト膜41をマスクとしたウェットエッチング法またはドライエッチング法により、上部DBRミラー層16の上層、すなわちコンタクト層17をエッチングして、第1溝51を設ける。なお、図4以降の各工程を表す断面図において、(A)は図2のIIIA−IIIA線矢視方向と同一の方向で切断した断面の構成を、(B)は図2のIIIB−IIIB線矢視方向と同一の方向で切断した断面の構成をそれぞれ表したものである。
第1溝51の深さは、コンタクト層17を突き破らない所望の深さとすることが好ましい。第1溝51の深さについては、コンタクト層17の厚みと併せて後述する。また、第1溝51の平面的な配置としては、柱状部形成予定領域61Aの周縁の一部に設ける。具体的には、第1溝51は、偏光制御のため、柱状部形成予定領域61Aの中心Cを通る直線上であって、かつ中心Cを間にして反対側に、つまり一方向の対角に設けることが好ましい。なお、第1溝51は、必ずしも2箇所である必要はなく、少なくとも1箇所設ければよい。第1溝51の平面形状は、活性層14に異方的な応力を加えるに十分な酸化ができるのであれば、図2に示したような矩形に限定されず、任意の形状とすることができる。
第1溝51を形成したのち、図5に示したように、フォトレジスト膜41を剥離する。
フォトレジスト膜41を剥離したのち、図6および図7に示したように、第1溝51を形成したコンタクト層17の上にフォトレジスト膜42を形成し、このフォトレジスト膜42に、後述する第2溝52を形成するための開口42Aを設ける。
開口42Aを形成したのち、図8に示したように、フォトレジスト膜42をマスクとしたウェットエッチング法またはドライエッチング法、好ましくはドライエッチング法により、第2溝52を形成する。第2溝52は、円柱状の柱状部(メサ部)61を囲む枠状、つまり環状に形成されており、第2溝52の一部が第1溝51に重なって(オーバーラップして)いる。すなわち、第2溝52は、平面形状において第1溝51に重なる部分52Aと、第1溝51に重ならない部分52Bとを含んでいる。
第2溝52の第1溝51に重ならない部分52Bのエッチング深さは、積層方向において上部酸化可能層32Aを含む上部第2DBRミラー層32を貫通すると共に、下部酸化可能層22Aを含む下部第2DBRミラー層22に達しない深さとする。このとき、第2溝52の第1溝51に重なる部分52Aのエッチング深さは、第1溝51の深さ分だけ、第1溝51に重ならない部分52Bよりも大きくなる。従って、第1溝51の深さを適切に調整しておくことにより、第2溝52の第1溝51に重なる部分52Aのエッチング深さを、積層方向において下部酸化可能層22Aのうち少なくとも1層を貫通する深さとすることが可能となる。
第1溝51の深さは、具体的には、下部第2DBRミラー層22の低屈折率層22Aおよび高屈折率層22Bの1組分の厚み以上の深さとすることが望ましい。このようにすることにより、第2溝52の第1溝51に重なる部分52のエッチング深さを、積層方向において下部酸化可能層22Aのうち少なくとも1層を貫通する深さとすることが可能となるからである。下部第2DBRミラー層22の低屈折率層22Aおよび高屈折率層22Bの1組分の厚みは波長により異なり、例えば波長780nmではおよそ120nm、波長660nmではおよそ100nmである。
第1溝51を上述した深さで形成するためには、コンタクト層17の厚みを、第1溝51の深さ以上にしておくことが望ましい。具体的には、コンタクト層17の厚みは、0.1μm以上1μm以下であることが好ましい。
ちなみに、従来、フォトレジスト膜に不均一な幅の開口を設けることによって、幅の狭い部分では幅の広い部分よりもエッチング速度が遅くなり、エッチング深さが異なる溝が形成されるローディング効果が知られている。しかしながら、ローディング効果は不安定であり、エッチング深さが容易に変化してしまい、溝の深さの差が大きくなり過ぎたり、あるいは差がつかなかったりして、ばらつきが生じやすい。そのため、ローディング効果のみを利用することによっては、本実施の形態のように、第2溝52の第1溝51に重なる部分52Aを、第1溝51に重ならない部分52Bよりも、下部第2DBRミラー層22の低屈折率層22Aおよび高屈折率層22Bの1組分の厚みだけ深くするというような精密な制御は極めて難しい。
第2溝52を形成したのち、図9に示したように、フォトレジスト膜42を剥離する。
フォトレジスト膜42を剥離したのち、図10に示したように、水蒸気雰囲気中において高温で酸化処理を行う。このとき、第2溝52の第1溝51に重ならない部分52Bでは、上部酸化可能層32Aのみが第2溝52の側面に露出している。よって、上部酸化可能層32Aのアルミニウム(Al)が選択的に酸化されて、絶縁層(酸化アルミニウム)よりなる上部酸化層34Aとなるが、下部酸化可能層22Aは酸化されない。
一方、第2溝52の第1溝51に重なる部分52Aでは、上部酸化可能層32Aおよび下部酸化可能層22Aの両方が第2溝52の側面に露出している。よって、上部酸化可能層32Aは上述と同様に酸化されて上部酸化層34Aとなる。これと同時に、下部酸化可能層22Aのアルミニウム(Al)が選択的に酸化されて、絶縁層(酸化アルミニウム)よりなる下部酸化層24Aとなる。
このとき、上部DBRミラー層16および下部DBRミラー層12の各層のアルミニウム(Al)組成比の違いによって、上部第1DBRミラー層31,上部第3DBRミラー層33,下部第1DBRミラー層21および下部第3DBRミラー層23の酸化はほとんどなされないか、上部酸化可能層32Aおよび下部酸化可能層22Aの酸化に対してわずかである。
よって、下部第2DBRミラー層22には、柱状部61の中心Cを通る直線上であって、かつ中心Cを間にして反対側に、つまり一方向の対角に下部酸化層24Aが形成される。一方、上部第2DBRミラー層32には、発光層14の発光領域14Aに対応して開口を有する上部酸化層34Aが形成され、その開口が電流注入領域34Bとなる。
このように、コンタクト層17に第1溝51を設けたのち、平面形状において一部が第1溝51に重なる第2溝52を設けることにより、一度のエッチングプロセスにより、第2溝52の第1溝51に重なる部分52Aを、第1溝51に重ならない部分52Bよりも深くすることができる。また、この第1溝51および第2溝52を利用して酸化処理を行うことにより、発光領域14Aを中心にして回転する方向に不均一に分布する下部酸化層24Aを容易に形成することができる。
上部酸化層34Aおよび下部酸化層24Aを形成したのち、例えば真空蒸着法により、表面全体に渡って金属材料を積層させる。そののち、例えば選択エッチングにより、図11に示したように、柱状部61の上面(第2溝52よりも内側に位置するコンタクト層17の光出射領域を除いた領域)に、環状の上部電極71を形成する。また、柱状部61から離れた場所には、上部電極パッド(図示せず)を形成する。上部電極71および上部電極パッド(図示せず)は、例えばチタン(Ti)層,白金(Pt)層および金(Au)層をこの順に積層して構成し、コンタクト層17と電気的に接続する。
続いて、図12に示したように、コンタクト層17の光出射領域に限り開口し、光出射窓17Aを形成する。
コンタクト層17の光出射窓17Aを形成したのち、図13に示したように、例えばCVD(Chemical Vapor Deposition) 法により、SiO2,SiNx等の酸化物または窒化物などの絶縁材料よりなる絶縁膜(パシベーション膜)18を全面(柱状部61の上面、第1溝51および第2溝52の内面および、コンタクト層17のうち柱状部61以外の表面)に形成する。
続いて、図14に示したように、上部電極71上の絶縁膜18の一部をエッチングし、上部電極露出部71Aを形成する。そののち、図15に示したように、上部電極露出部71Aに、上部電極71と上部電極パッド(図示せず)を接続するための接続部72を形成する。接続部72は、例えばTi層,Pt層およびAu層をこの順に積層した積層構造上にめっき層を形成する。
接続部72を形成したのち、基板11の裏面を研磨、エッチングし、全体の厚さを例えば200μm以下にする。続いて、図16に示したように、基板11の裏面に下部電極73を形成する。下部電極73は、例えば、金(Au)とゲルマニウム(Ge)との合金層,ニッケル(Ni)層および金(Au)層とを基板10の側から順に積層し、基板11と電気的に接続させる。そののち、基板11を400℃以上に加熱し、電極の合金化を行う。以上により、本実施の形態の面発光型半導体レーザ1が完成する。
(構成)
この面発光型半導体レーザ1は、図16に示したように、基板11の一面側に、発光部60を備えたものである。発光部60は、基板11側から、下部DBRミラー層12、下部スペーサ層13、活性層14、上部スペーサ層15、上部DBRミラー層16およびコンタクト層17をこの順に有する積層構造10により構成されている。発光部60のうち、下部DBRミラー層12の一部、下部スペーサ層13、活性層14、上部スペーサ層15、上部DBRミラー層16およびコンタクト層17は、例えば幅10μm〜30μm程度の円柱状の柱状部(メサ部)61とされている。
この面発光型半導体レーザ1は、図16に示したように、基板11の一面側に、発光部60を備えたものである。発光部60は、基板11側から、下部DBRミラー層12、下部スペーサ層13、活性層14、上部スペーサ層15、上部DBRミラー層16およびコンタクト層17をこの順に有する積層構造10により構成されている。発光部60のうち、下部DBRミラー層12の一部、下部スペーサ層13、活性層14、上部スペーサ層15、上部DBRミラー層16およびコンタクト層17は、例えば幅10μm〜30μm程度の円柱状の柱状部(メサ部)61とされている。
柱状部61の側面の上部第2DBRミラー層32内には、電流狭窄層としての上部酸化層34Aが設けられている。上部酸化層34Aは、上述したように、柱状部61の側面側から上部酸化可能層32Aに含まれる高濃度のAlを酸化することにより得られたものであり、Al2O3(酸化アルミニウム)により構成され、環状の平面形状を有している。つまり、上部酸化層34Aの中央の開口は、電流が通過する電流注入領域34Bとなっており、活性層14の電流注入領域34Bに対向する領域が発光領域14Aとなっている。
また、この面発光型半導体レーザ1は、柱状部61の周縁の一部に、段差付き凹部50を有している。この段差付き凹部50は、コンタクト層17に設けられた第1の溝51と、この第1溝51の底面に設けられた第2の溝52とにより構成されたものであり、上述の製造方法における第2溝52の第1溝51に重なる部分52Bに相当する。段差付き凹部50の側面の下部第2DBRミラー層22内には、少なくとも1層の下部酸化層24Aが設けられている。これにより、この面発光型半導体レーザ1では、レーザ光の偏光方向を一方向に安定化することが可能となっている。
下部酸化層24Aは、上述したように、段差付き凹部50の側面から下部酸化可能層22Aに含まれる高濃度のAlを酸化することにより得られたものであり、Al2O3(酸化アルミニウム)により構成され、段差付き凹部50内のみに設けられている。つまり、第2溝52の第1溝51に重ならない部分52Bの側面には、下部酸化可能層22Aを含む下部第2DBRミラー層22が露出していないので、その部分52Bには下部酸化層24Aは分布していない。よって、下部酸化層24Aは、発光領域14Aを中心にして回転する方向に不均一に分布しており、その分布に応じた不均一な応力を活性層14に発生させるようになっている。具体的には、下部酸化層24Aは、柱状部61の中心Cを通る直線上であって、かつ中心Cを間にして反対側に、つまり一方向の対角に配置されている。
(作用)
この面発光型半導体レーザ1では、下部電極73と上部電極71との間に所定の電圧が印加されると、上部酸化層34Aの中央の電流注入領域34Bを通して活性層14に電流が注入され、これにより電子と正孔の再結合による発光が生じる。この光は、下部DBRミラー層12および上部DBRミラー層16により反射され、所定の波長でレーザ発振を生じ、レーザビームとして外部に射出される。
この面発光型半導体レーザ1では、下部電極73と上部電極71との間に所定の電圧が印加されると、上部酸化層34Aの中央の電流注入領域34Bを通して活性層14に電流が注入され、これにより電子と正孔の再結合による発光が生じる。この光は、下部DBRミラー層12および上部DBRミラー層16により反射され、所定の波長でレーザ発振を生じ、レーザビームとして外部に射出される。
ここでは、柱状部61の周縁の一部に、コンタクト層17の第1溝51およびこの第1溝51の底面の第2溝52よりなる段差付き凹部50が設けられており、この段差付き凹部50の側面の下部第2DBRミラー層22に少なくとも1層の下部酸化層24Aが設けられているので、下部酸化層24Aによる引張り応力が活性層14に不均一に発生する。下部酸化層24Aは、柱状部61の中心Cを通る直線上であって、かつ中心Cを間にして反対側に、つまり一方向の対角に配置され、異方的な分布を有している。そのため、その分布に応じた異方的な引張り応力が活性層14に発生する。なお、上記したように、第2溝52の第1溝51に重ならない部分52Bでは下部酸化可能層22Aが酸化される虞はなく、第2溝52の第1溝51に重ならない部分52B同士が互いに対向する方向の応力が活性層14に発生する虞はない。これにより、引張り応力の向きと直交する方向の偏光成分が強められる一方、引張り応力の向きと平行な方向の偏光成分が抑制される。これにより、活性層14に強い一軸性歪が加わり偏光方向が一方向にそろう。
このように本実施の形態の面発光型半導体レーザの製造方法では、コンタクト層17に第1溝51を設けたのち、平面形状において第1溝51に重なる部分52Aおよび第1溝51に重ならない部分52Bを含む第2溝52を設けるようにしたので、同一の工程で、第2溝52の第1溝51に重なる部分52Aを、第1溝51に重ならない部分52Bよりも深く設けることが可能となる。よって、簡易な方法で、深さの異なる溝を高精度に形成し、レーザ光の偏光方向を一方向に安定化することが可能となる。
また、第1溝51および第2溝52の深さを制御することにより、例えば、第2溝52の第1溝51に重ならない部分52Bを下部酸化可能層22Aには到達させない一方、第2溝52の第1溝51に重なる部分52Aを下部酸化可能層22Aに所望の深さまで高精度に到達させることが可能となる。従って、活性層14にかかる応力のコントロールが高精度に可能となる。
更に、第1溝51と第2溝52とを別プロセスにて形成するが、共振器となる柱状部61の形成および下部酸化可能層22Aへの到達は、第2溝52の位置精度のみにかかり、第1溝51の位置ずれは反映されない。このため電流狭窄層としての上部酸化層34Aおよび下部酸化層24Aの形状が安定し、均一な形状および特性を得ることが可能となる。
また、基板11は(n11)面基板(nは整数)などの特殊な基板である必要はなく、一般的な(100)面基板、更に2〜20度のオフ(off)基板でもかまわないので、一般的な(100)面基板またはオフ基板のドーピング条件およびガス流量などのエピタキシャル成長条件を用いることができる。これにより、簡易かつ安価に製造することができる。
本実施の形態の面発光型半導体レーザでは、柱状部61の周縁の一部に、コンタクト層17の第1溝51およびこの第1溝51の底面の第2溝52よりなる段差付き凹部50を設け、この段差付き凹部50の側面の下部第2DBRミラー層22に少なくとも1層の下部酸化層24Aを設けるようにしたので、レーザ光の偏光方向を一方向に安定化することが可能となる。
更に、下部DBRミラー層12を、下部第1DBRミラー層21ないし下部第3DBRミラー層23を基板11側からこの順に積層した構造としたので、第2溝52を深くする程、下部第2DBRミラー層22に含まれる下部酸化層24Aの層数(厚さ)を増やすことができる。これにより、下部酸化層24Aの層数(厚さ)に応じて異方的な応力を大きくすることができ、偏光制御性を向上させることができる。
加えて、下部DBRミラー層12を上記の構造とすることにより、第2溝52の第1溝51に重ならない部分52Bの底面は下部第3DBRミラー層23内のどこかに形成されていれば偏光制御性に影響を及ぼす虞はない。つまり、第2溝52の第1溝51に重ならない部分52Bの深さを製造工程において精密に制御する必要はなく、また、第2溝52の第1溝51に重ならない部分52Bの深さがバラついた場合であっても、個々の面発光型半導体レーザ1において偏光制御性にバラつきが生じる虞はない。
更にまた、下部酸化層24Aの層数(厚さ)を増やせば増やす程、異方的な応力を大きくすることができるので、活性層14に大きな応力を与えるために発光領域14Aと対応する領域にまで下部酸化層24Aを設ける必要はない。これにより、下部酸化層24Aによって光出力が低下する虞はほとんどなく、高出力のレーザ光を射出することができる。
加えてまた、柱状部61の周囲に形成された第2溝52は少なくとも活性層14を貫通する程度の深さを有していることから、上部電極71、上部電極パッドおよび接続部72から活性層14へ通じる電流経路は柱状部61の内部にしか存在していない。これにより、柱状部61の周囲に第2溝52を形成したことによって電流注入効率が低下する虞がない。
(第2の実施の形態)
図17ないし図22は、本発明の第2の実施の形態に係る面発光型半導体レーザの製造方法を工程順に表したものである。この製造方法は、第2溝52を環状ではなく、柱状部61以外の領域の全体に設けるようにしたことを除いては、上記第1の実施の形態の製造方法と同様である。よって、同一の工程は図1ないし図16を参照して説明する。
図17ないし図22は、本発明の第2の実施の形態に係る面発光型半導体レーザの製造方法を工程順に表したものである。この製造方法は、第2溝52を環状ではなく、柱状部61以外の領域の全体に設けるようにしたことを除いては、上記第1の実施の形態の製造方法と同様である。よって、同一の工程は図1ないし図16を参照して説明する。
まず、第1の実施の形態と同様にして、図1に示した工程により、基板11上に、下部DBRミラー層12,下部スペーサ層(クラッド層)13,活性層14,上部スペーサ層(クラッド層)15,上部DBRミラー層16およびコンタクト層17を順番に積層し、積層構造10を形成する。その際、下部DBRミラー層12は、例えば、基板11側から順に、下部第1DBRミラー層21,下部第2DBRミラー層22および下部第3DBRミラー層23を積層する。上部DBRミラー層16は、例えば、基板11側から順に、上部第1DBRミラー層31、上部第2DBRミラー層32および上部第3DBRミラー層33を積層する。下部DBRミラー層12および上部DBRミラー層16の各層のアルミニウム(Al)組成比は、第1の実施の形態と同様に、
1≧α,β≧x,y>0.8>z≧0
を満たしている。すなわち、下部第2DBRミラー層22の低屈折率層22Aは、AlβGa1−βAsよりなる少なくとも1層の下部酸化可能層22Aであり、上部第2DBRミラー層32の低屈折率層32Aは、AlαGa1−αAsよりなる上部酸化可能層32Aである。
1≧α,β≧x,y>0.8>z≧0
を満たしている。すなわち、下部第2DBRミラー層22の低屈折率層22Aは、AlβGa1−βAsよりなる少なくとも1層の下部酸化可能層22Aであり、上部第2DBRミラー層32の低屈折率層32Aは、AlαGa1−αAsよりなる上部酸化可能層32Aである。
次いで、第1の実施の形態と同様にして、図2および図3に示した工程により、コンタクト層17の上にフォトレジスト膜41を形成し、このフォトレジスト膜41に、第1溝51を形成するための開口41Aを設ける。
続いて、第1の実施の形態と同様にして、図4に示した工程により、フォトレジスト膜41をマスクとしたウェットエッチング法またはドライエッチング法により、コンタクト層17をエッチングして、第1溝51を設ける。
そののち、第1の実施の形態と同様にして、図5に示した工程により、フォトレジスト膜41を剥離する。
フォトレジスト膜41を剥離したのち、図17および図18に示したように、第1溝51を形成したコンタクト層17の上にフォトレジスト膜42を形成し、このフォトレジスト膜42に、第2溝52を形成するための開口42Aを設ける。
開口42Aを形成したのち、図19に示したように、フォトレジスト膜42をマスクとしたウェットエッチング法またはドライエッチング法、好ましくはドライエッチング法により、第2溝52を形成する。第2溝52は、円柱状の柱状部(メサ部)61以外の領域の全体に形成されており、第2溝52の一部が第1溝51に重なって(オーバーラップして)いる。すなわち、第2溝52は、平面形状において第1溝51に重なる部分52Aと、第1溝51に重ならない部分52Bとを含んでいる。
第2溝52の第1溝51に重ならない部分52Bのエッチング深さは、積層方向において上部酸化可能層32Aを含む上部第2DBRミラー層32を貫通すると共に、下部酸化可能層22Aを含む下部第2DBRミラー層22に達しない深さとする。このとき、第2溝52の第1溝51に重なる部分52Aのエッチング深さは、第1溝51の深さ分だけ、第1溝51に重ならない部分52Bよりも大きくなる。従って、第1溝51の深さを適切に調整しておくことにより、第2溝52の第1溝51に重なる部分52Aのエッチング深さを、積層方向において下部酸化可能層22Aのうち少なくとも1層を貫通する深さとすることが可能となる。
第1溝51の深さは、具体的には、第1の実施の形態と同様に、下部第2DBRミラー層22の低屈折率層22Aおよび高屈折率層22Bの1組分の厚み以上の深さとすることが望ましい。そのためには、コンタクト層17の厚みを、第1の実施の形態と同様に、第1溝51の深さ以上にしておくことが望ましい。具体的には、コンタクト層17の厚みは、第1の実施の形態と同様に、0.1μm以上1μm以下であることが好ましい。
第2溝52を形成したのち、図20に示したように、フォトレジスト膜42を剥離する。
フォトレジスト膜42を剥離したのち、図21に示したように、水蒸気雰囲気中において高温で酸化処理を行う。このとき、第2溝52の第1溝51に重ならない部分52Bでは、上部酸化可能層32Aのみが第2溝52の側面に露出している。よって、上部酸化可能層32Aのアルミニウム(Al)が選択的に酸化されて、絶縁層(酸化アルミニウム)よりなる上部酸化層34Aとなるが、下部酸化可能層22Aは酸化されない。
一方、第2溝52の第1溝51に重なる部分52Aでは、上部酸化可能層32Aおよび下部酸化可能層22Aの両方が第2溝52の側面に露出している。よって、上部酸化可能層32Aは上述と同様に酸化されて上部酸化層34Aとなる。これと同時に、下部酸化可能層22Aのアルミニウム(Al)が選択的に酸化されて、絶縁層(酸化アルミニウム)よりなる下部酸化層24Aとなる。
このとき、上部DBRミラー層16および下部DBRミラー層12の各層のアルミニウム(Al)組成比の違いによって、上部第1DBRミラー層31,上部第3DBRミラー層33,下部第1DBRミラー層21および下部第3DBRミラー層23の酸化はほとんどなされないか、上部酸化可能層32Aおよび下部酸化可能層22Aの酸化に対してわずかである。
よって、下部第2DBRミラー層22には、柱状部61の中心Cを通る直線上であって、かつ中心Cを間にして反対側に、つまり一方向の対角に下部酸化層22が形成される。一方、上部第2DBRミラー層32には、発光層14の発光領域14Aに対応して開口を有する上部酸化層34Aが形成され、その開口が電流注入領域34Bとなる。
このように、コンタクト層17に第1溝51を設けたのち、平面形状において一部が第1溝51に重なる第2溝52を設けることにより、一度のエッチングプロセスにより、第2溝52の第1溝51に重なる部分52Aを、第1溝51に重ならない部分52Bよりも深くすることができる。また、この第1溝51および第2溝52を利用して酸化処理を行うことにより、発光領域14Aを中心にして回転する方向に不均一に分布する下部酸化層24Aを容易に形成することができる。
上部酸化層34Aおよび下部酸化層24Aを形成したのち、図22に示したように、第1の実施の形態と同様にして、柱状部61の上面に、環状の上部電極71を形成する。また、柱状部61から離れた場所には、上部電極パッド(図示せず)を形成する。
続いて、同じく図22に示したように、第1の実施の形態と同様にして、コンタクト層17の光出射領域に限り開口し、光出射窓17Aを形成する。
コンタクト層17の光出射窓17Aを形成したのち、同じく図22に示したように、第1の実施の形態と同様にして、例えばCVD法により、SiO2、SiN等の酸化物または窒化物などの絶縁材料よりなる絶縁膜(パシベーション膜)18を全面(柱状部61の上面、第1溝51および第2溝52の内面および、コンタクト層17のうち柱状部61以外の表面)に形成する。
続いて、同じく図22に示したように、第1の実施の形態と同様にして、上部電極71上の絶縁膜18の一部をエッチングし、上部電極露出部71Aを形成したのち、上部電極露出部71Aに接続部72を形成する。
接続部72を形成したのち、同じく図22に示したように、第1の実施の形態と同様にして、基板11の裏面を研磨、エッチングし、基板11の裏面に下部電極73を形成する。そののち、基板11を400℃以上に加熱し、電極の合金化を行う。以上により、本実施の形態の面発光型半導体レーザ1が完成する。
(構成)
本実施の形態の製造方法により製造された面発光型半導体レーザ1は、第2溝52が柱状部61以外の領域の全体に設けられていることを除いては、第1の実施の形態と同様の構成を有している。
本実施の形態の製造方法により製造された面発光型半導体レーザ1は、第2溝52が柱状部61以外の領域の全体に設けられていることを除いては、第1の実施の形態と同様の構成を有している。
すなわち、この面発光型半導体レーザ1は、柱状部61の周縁の一部に、段差付き凹部50を有している。この段差付き凹部50は、コンタクト層17に設けられた第1溝51と、この第1溝51の底面に設けられた第2溝52とにより構成されたものであり、上述の製造方法における第2溝52の第1溝51に重なる部分52Bに相当する。段差付き凹部50の側面の下部第2DBRミラー層22内には、少なくとも1層の下部酸化層24Aが設けられている。これにより、この面発光型半導体レーザ1では、レーザ光の偏光方向を一方向に安定化することが可能となっている。
下部酸化層24Aは、第1の実施の形態と同様に、段差付き凹部50内のみに設けられており、第2溝52の第1溝51に重ならない部分52Bの側面には分布していない。よって、下部酸化層24Aは、発光領域14Aを中心にして回転する方向に不均一に分布しており、その分布に応じた不均一な応力を活性層14に発生させるようになっている。具体的には、下部酸化層24Aは、柱状部61の中心Cを通る直線上であって、かつ中心Cを間にして反対側に、つまり一方向の対角に配置されている。
本実施の形態の面発光型半導体レーザ1の作用および効果は第1の実施の形態と同様である。
特に、本実施の形態では、複数の柱状部61をアレイ状に配置した場合には、面発光型半導体レーザ1をチップ状にダイシングする前のウェハにおいて、エピタキシャル結晶成長により生じたウェハ全体の反りを緩和することができる。これにより、ダイシング後の個々のチップに残留する反り量を小さくすることができ、また、個々のチップの反り量のバラつきを低減することができる。
(第3の実施の形態)
図23ないし図30は、本発明の第3の実施の形態に係る面発光型半導体レーザの製造方法を工程順に表したものである。この製造方法は、第2溝52を設けると同時に、平面形状において第1溝51に重ならない第3溝53を、柱状部61を囲む環状に設け、この第3溝53よりも外側に第1溝51および第2溝52を配置するようにしたものである。このことを除いては、本実施の形態の製造方法は上記第1の実施の形態の製造方法と同様である。よって、同一の工程は図1ないし図16を参照して説明する。
図23ないし図30は、本発明の第3の実施の形態に係る面発光型半導体レーザの製造方法を工程順に表したものである。この製造方法は、第2溝52を設けると同時に、平面形状において第1溝51に重ならない第3溝53を、柱状部61を囲む環状に設け、この第3溝53よりも外側に第1溝51および第2溝52を配置するようにしたものである。このことを除いては、本実施の形態の製造方法は上記第1の実施の形態の製造方法と同様である。よって、同一の工程は図1ないし図16を参照して説明する。
まず、第1の実施の形態と同様にして、図1に示した工程により、基板11上に、下部DBRミラー層12,下部スペーサ層(クラッド層)13,活性層14,上部スペーサ層(クラッド層)15,上部DBRミラー層16およびコンタクト層17を順番に積層し、積層構造10を形成する。その際、下部DBRミラー層12は、例えば、基板11側から順に、下部第1DBRミラー層21,下部第2DBRミラー層22および下部第3DBRミラー層23を積層する。上部DBRミラー層16は、例えば、基板11側から順に、上部第1DBRミラー層31、上部第2DBRミラー層32および上部第3DBRミラー層33を積層する。下部DBRミラー層12および上部DBRミラー層16の各層のアルミニウム(Al)組成比は、第1の実施の形態と同様に、
1≧α,β≧x,y>0.8>z≧0
を満たしている。すなわち、下部第2DBRミラー層22の低屈折率層22Aは、AlβGa1−βAsよりなる少なくとも1層の下部酸化可能層22Aであり、上部第2DBRミラー層32の低屈折率層32Aは、AlαGa1−αAsよりなる上部酸化可能層32Aである。
1≧α,β≧x,y>0.8>z≧0
を満たしている。すなわち、下部第2DBRミラー層22の低屈折率層22Aは、AlβGa1−βAsよりなる少なくとも1層の下部酸化可能層22Aであり、上部第2DBRミラー層32の低屈折率層32Aは、AlαGa1−αAsよりなる上部酸化可能層32Aである。
次いで、図23および図24に示したように、第1の実施の形態と同様にして、コンタクト層17の上にフォトレジスト膜41を形成し、このフォトレジスト膜41に、第1溝51を形成するための開口41Aを設ける。
続いて、第1の実施の形態と同様にして、図4に示した工程により、フォトレジスト膜41をマスクとしたウェットエッチング法またはドライエッチング法により、コンタクト層17をエッチングして、第1溝51を設ける。このとき、第1溝51は、柱状部形成予定領域61Aよりも外側の領域に設ける。
そののち、第1の実施の形態と同様にして、図5に示した工程により、フォトレジスト膜41を剥離する。
フォトレジスト膜41を剥離したのち、図25および図26に示したように、第1溝51を形成したコンタクト層17の上にフォトレジスト膜42を形成し、このフォトレジスト膜42に、第2溝52を形成するための開口42Aと、第3溝53を形成するための開口42Bとを設ける。
開口42A,42Bを形成したのち、図27に示したように、フォトレジスト膜42をマスクとしたウェットエッチング法またはドライエッチング法、好ましくはドライエッチング法により、第2溝52および第3溝53を形成する。
第2溝52は、平面形状において一部が第1溝51に重なる(オーバーラップする)直線状に形成されている。すなわち、第2溝52は、平面形状において第1溝51に重なる部分52Aと、第1溝51に重ならない部分52Bとを含んでいる。なお、第2溝52は、直線のほか、円弧などの曲線でもよいことは言うまでもない。
第3溝53は、平面形状において第1溝51に重なっておらず、柱状部61を囲む枠状、つまり環状に形成する。第1溝51および第2溝52は、第3溝53よりも外側に設ける。
第3溝53のエッチング深さは、積層方向において上部酸化可能層32Aを含む上部第2DBRミラー層32を貫通すると共に、下部酸化可能層22Aを含む下部第2DBRミラー層22に達しない深さとする。このとき、第2溝52の第1溝51に重なる部分52Aのエッチング深さは、第1溝51の深さ分だけ、第3溝53よりも大きくなる。従って、第1溝51の深さを適切に調整しておくことにより、第3溝53のエッチング深さを、積層方向において下部酸化可能層22Aのうち少なくとも1層を貫通する深さとすることが可能となる。なお、第2溝52の第1溝51に重ならない部分52Bのエッチング深さは第3溝53と同じになる。
第1溝51の深さは、具体的には、第1の実施の形態と同様に、下部第2DBRミラー層22の低屈折率層22Aおよび高屈折率層22Bの1組分の厚み以上の深さとすることが望ましい。そのためには、コンタクト層17の厚みを、第1の実施の形態と同様に、第1溝51の深さ以上にしておくことが望ましい。具体的には、コンタクト層17の厚みは、第1の実施の形態と同様に、0.1μm以上1μm以下であることが好ましい。
第2溝52および第3溝を形成したのち、図28に示したように、フォトレジスト膜42を剥離する。
フォトレジスト膜42を剥離したのち、図29に示したように、水蒸気雰囲気中において高温で酸化処理を行う。このとき、第3溝53では、上部酸化可能層32Aのみが第2溝52の側面に露出している。よって、上部酸化可能層32Aのアルミニウム(Al)が選択的に酸化されて、絶縁層(酸化アルミニウム)よりなる上部酸化層34Aとなるが、下部酸化可能層22Aは酸化されない。なお、図示しないが、第2溝52の第1溝51に重ならない部分52Bでも、第3溝53と同様に、上部酸化可能層32Aが酸化する。
一方、第2溝52の第1溝51に重なる部分52Aでは、上部酸化可能層32Aおよび下部酸化可能層22Aの両方が第2溝52の側面に露出している。よって、上部酸化可能層32Aは上述と同様に酸化されて上部酸化層34Aとなる。これと同時に、下部酸化可能層22Aのアルミニウム(Al)が選択的に酸化されて、絶縁層(酸化アルミニウム)よりなる下部酸化層24Aとなる。
このとき、上部DBRミラー層16および下部DBRミラー層12の各層のアルミニウム(Al)組成比の違いによって、上部第1DBRミラー層31,上部第3DBRミラー層33,下部第1DBRミラー層21および下部第3DBRミラー層23の酸化はほとんどなされないか、上部酸化可能層32Aおよび下部酸化可能層22Aの酸化に対してわずかである。
よって、下部第2DBRミラー層22には、柱状部61の中心Cを通る直線上であって、かつ中心Cを間にして反対側に、つまり一方向の対角に下部酸化層22が形成される。一方、上部第2DBRミラー層32には、発光層14の発光領域14Aに対応して開口を有する上部酸化層34Aが形成され、その開口が電流注入領域34Bとなる。
このように、第2溝52を設けると同時に、平面形状において第1溝51に重ならない第3溝53を、柱状部61を囲む枠状に設け、この第3溝53よりも外側に第1溝および第2溝52を形成することにより、一度のエッチングプロセスにより、第2溝52の第1溝51に重なる部分52Aを、第3溝53よりも深くすることができる。また、この第1溝51,第2溝52および第3溝53を利用して酸化処理を行うことにより、発光領域14Aを中心にして回転する方向に不均一に分布する下部酸化層24Aを容易に形成することができる。
また、第2溝52および第3溝53の配置により、上部酸化層34Aの中央の電流注入領域34Bの大きさと、下部酸化層24Aの未酸化領域24Bの大きさとを変更することが可能となり、下部酸化層24Aの酸化形状、酸化量のコントロールが可能となる。
上部酸化層34Aおよび下部酸化層24Aを形成したのち、図30に示したように、第1の実施の形態と同様にして、柱状部61の上面に、環状の上部電極71を形成する。また、柱状部61から離れた場所には、上部電極パッド(図示せず)を形成する。
続いて、同じく図30に示したように、第1の実施の形態と同様にして、コンタクト層17の光出射領域に限り開口し、光出射窓17Aを形成する。
コンタクト層17の光出射窓17Aを形成したのち、同じく図30に示したように、第1の実施の形態と同様にして、例えばCVD法により、SiO2,SiNx等の酸化物または窒化物などの絶縁材料よりなる絶縁膜(パシベーション膜)18を全面(柱状部61の上面、第1溝51および第2溝52の内面および、コンタクト層17のうち柱状部61以外の表面)に形成する。
続いて、同じく図30に示したように、第1の実施の形態と同様にして、上部電極71上の絶縁膜18の一部をエッチングし、上部電極露出部71Aを形成したのち、上部電極露出部71Aに接続部72を形成する。
接続部72を形成したのち、同じく図30に示したように、第1の実施の形態と同様にして、基板11の裏面を研磨、エッチングし、基板11の裏面に下部電極73を形成する。そののち、基板11を400℃以上に加熱し、電極の合金化を行う。以上により、本実施の形態の面発光型半導体レーザ1が完成する。
(構成)
この面発光型半導体レーザ1は、平面形状において第1溝51に重ならない第3溝53が、柱状部61を囲む環状に設けられており、この第3溝53よりも外側に第1溝および第2溝52が配置されていることを除いては、第1の実施の形態と同様の構成を有している。
この面発光型半導体レーザ1は、平面形状において第1溝51に重ならない第3溝53が、柱状部61を囲む環状に設けられており、この第3溝53よりも外側に第1溝および第2溝52が配置されていることを除いては、第1の実施の形態と同様の構成を有している。
すなわち、この面発光型半導体レーザ1は、柱状部61よりも外側の領域に、段差付き凹部50を有している。この段差付き凹部50は、コンタクト層17に設けられた第1溝51と、この第1溝51の底面に設けられた第2溝52とにより構成されたものであり、上述の製造方法における第2溝52の第1溝51に重なる部分52Bに相当する。段差付き凹部50の側面の下部第2DBRミラー層22内には、少なくとも1層の下部酸化層24Aが設けられている。これにより、この面発光型半導体レーザ1では、レーザ光の偏光方向を一方向に安定化することが可能となっている。
下部酸化層24Aは、第1の実施の形態と同様に、段差付き凹部50内のみに設けられており、第2溝52の第1溝51に重ならない部分52Bの側面には分布していない。よって、下部酸化層24Aは、発光領域14Aを中心にして回転する方向に不均一に分布しており、その分布に応じた不均一な応力を活性層14に発生させるようになっている。具体的には、下部酸化層24Aは、柱状部61の中心Cを通る直線上であって、かつ中心Cを間にして反対側に、つまり一方向の対角に配置されている。
(作用)
この面発光型半導体レーザ1では、下部電極73と上部電極71との間に所定の電圧が印加されると、第1の実施の形態と同様にしてレーザ発振を生じる。ここでは、柱状部61よりも外側の領域に、コンタクト層17の第1溝51およびこの第1溝51の底面の第2溝52よりなる段差付き凹部50が設けられており、この段差付き凹部50の側面の下部第2DBRミラー層22に少なくとも1層の下部酸化層24Aが設けられているので、下部酸化層24Aによる引張り応力が活性層14に不均一に発生する。下部酸化層24Aは、柱状部61の中心Cを通る直線上であって、かつ中心Cを間にして反対側に、つまり一方向の対角に配置され、異方的な分布を有している。そのため、その分布に応じた異方的な引張り応力が活性層14に発生する。なお、上記したように、第2溝52の第1溝51に重ならない部分52Bでは下部酸化可能層22Aが酸化される虞はなく、第2溝52の第1溝51に重ならない部分52B同士が互いに対向する方向の応力が活性層14に発生する虞はない。これにより、引張り応力の向きと直交する方向の偏光成分が強められる一方、引張り応力の向きと平行な方向の偏光成分が抑制される。これにより、活性層14に強い一軸性歪が加わり偏光方向が一方向にそろう。
この面発光型半導体レーザ1では、下部電極73と上部電極71との間に所定の電圧が印加されると、第1の実施の形態と同様にしてレーザ発振を生じる。ここでは、柱状部61よりも外側の領域に、コンタクト層17の第1溝51およびこの第1溝51の底面の第2溝52よりなる段差付き凹部50が設けられており、この段差付き凹部50の側面の下部第2DBRミラー層22に少なくとも1層の下部酸化層24Aが設けられているので、下部酸化層24Aによる引張り応力が活性層14に不均一に発生する。下部酸化層24Aは、柱状部61の中心Cを通る直線上であって、かつ中心Cを間にして反対側に、つまり一方向の対角に配置され、異方的な分布を有している。そのため、その分布に応じた異方的な引張り応力が活性層14に発生する。なお、上記したように、第2溝52の第1溝51に重ならない部分52Bでは下部酸化可能層22Aが酸化される虞はなく、第2溝52の第1溝51に重ならない部分52B同士が互いに対向する方向の応力が活性層14に発生する虞はない。これにより、引張り応力の向きと直交する方向の偏光成分が強められる一方、引張り応力の向きと平行な方向の偏光成分が抑制される。これにより、活性層14に強い一軸性歪が加わり偏光方向が一方向にそろう。
このように本実施の形態の面発光型半導体レーザの製造方法では、第2溝52を設けると同時に、平面形状において第1溝51に重ならない第3溝53を、柱状部61を囲む枠状に設け、この第3溝53よりも外側に第1溝および第2溝52を形成するようにしたので、同一の工程で、第2溝52の第1溝51に重なる部分52Aを、第1溝51に重ならない部分52Bよりも深く設けることが可能となる。よって、簡易な方法で、深さの異なる溝を高精度に形成し、レーザ光の偏光方向を一方向に安定化することが可能となる。
特に、本実施の形態では、第2溝52および第3溝53の配置により、上部酸化層34Aの中央の電流注入領域34Bの大きさと、下部酸化層24Aの未酸化領域24Bの大きさとを変更することが可能となり、下部酸化層24Aの酸化形状、酸化量のコントロールが可能となる。
本実施の形態の他の作用および効果は第1の実施の形態と同様である。
(第4の実施の形態)
図31は、本発明の第4の実施の形態に係る面発光型半導体レーザの製造方法を表したものである。この製造方法は、上部第3DBRミラー層33とコンタクト層17との間にエッチングストッパー層19を設け、第1溝51をエッチングストッパー層19に達する深さで設けるようにしたものである。これにより、本実施の形態では、第1溝51の深さを高精度に形成することが可能となり、更に特性を安定させることが可能となる。エッチングストッパー層19は、例えば、GaInPまたはAlx5Ga1−x5As(0.3≦x5≦0.4)により構成することができる。
図31は、本発明の第4の実施の形態に係る面発光型半導体レーザの製造方法を表したものである。この製造方法は、上部第3DBRミラー層33とコンタクト層17との間にエッチングストッパー層19を設け、第1溝51をエッチングストッパー層19に達する深さで設けるようにしたものである。これにより、本実施の形態では、第1溝51の深さを高精度に形成することが可能となり、更に特性を安定させることが可能となる。エッチングストッパー層19は、例えば、GaInPまたはAlx5Ga1−x5As(0.3≦x5≦0.4)により構成することができる。
(第5の実施の形態)
図32ないし図35は、本発明の第5の実施の形態に係る面発光型半導体レーザの製造方法を工程順に表したものである。この製造方法は、第1溝51に代えて、絶縁膜80に絶縁膜抜き領域81を形成するようにしたことを除いては、上記第1の実施の形態と同様である。よって、同一の工程は図1ないし図16を参照して説明する。
図32ないし図35は、本発明の第5の実施の形態に係る面発光型半導体レーザの製造方法を工程順に表したものである。この製造方法は、第1溝51に代えて、絶縁膜80に絶縁膜抜き領域81を形成するようにしたことを除いては、上記第1の実施の形態と同様である。よって、同一の工程は図1ないし図16を参照して説明する。
まず、第1の実施の形態と同様にして、図1に示した工程により、基板11上に、下部DBRミラー層12,下部スペーサ層(クラッド層)13,活性層14,上部スペーサ層(クラッド層)15,上部DBRミラー層16およびコンタクト層17を順番に積層し、積層構造10を形成する。その際、下部DBRミラー層12は、例えば、基板11側から順に、下部第1DBRミラー層21,下部第2DBRミラー層22および下部第3DBRミラー層23を積層する。上部DBRミラー層16は、例えば、基板11側から順に、上部第1DBRミラー層31、上部第2DBRミラー層32および上部第3DBRミラー層33を積層する。下部DBRミラー層12および上部DBRミラー層16の各層のアルミニウム(Al)組成比は、第1の実施の形態と同様に、
1≧α,β≧x,y>0.8>z≧0
を満たしている。すなわち、下部第2DBRミラー層22の低屈折率層22Aは、AlβGa1−βAsよりなる少なくとも1層の下部酸化可能層22Aであり、上部第2DBRミラー層32の低屈折率層32Aは、AlαGa1−αAsよりなる上部酸化可能層32Aである。
1≧α,β≧x,y>0.8>z≧0
を満たしている。すなわち、下部第2DBRミラー層22の低屈折率層22Aは、AlβGa1−βAsよりなる少なくとも1層の下部酸化可能層22Aであり、上部第2DBRミラー層32の低屈折率層32Aは、AlαGa1−αAsよりなる上部酸化可能層32Aである。
次いで、図32および図33に示したように、コンタクト層17の上に、例えばCVD法により、エッチング緩和層として、SiO2などの絶縁膜80を全面に形成する。続いて、同じく図32および図33に示したように、この絶縁膜80の上にフォトレジスト膜43を形成し、このフォトレジスト膜43に、後述する絶縁膜抜き領域80Aを形成するための開口43Aを設ける。
そののち、図34に示したように、フォトレジスト膜43をマスクとしたエッチングにより、絶縁膜80の一部を選択的に除去して絶縁膜抜き領域80Aを設ける。続いて、図35に示したように、フォトレジスト膜43を剥離する。
絶縁膜抜き領域80Aの平面的な配置としては、図32に示したように、第1の実施の形態における第1溝51と同様に、柱状部形成予定領域61Aの周縁の一部に設ける。具体的には、絶縁膜抜き領域80Aは、偏光制御のため、柱状部形成予定領域61Aの中心Cを通る直線上であって、かつ中心Cを間にして反対側に、つまり一方向の対角に設けることが好ましい。なお、絶縁膜抜き領域80Aは、必ずしも2箇所である必要はなく、少なくとも1箇所設ければよい。絶縁膜抜き領域80Aの平面形状は、活性層14に異方的な応力を加えるに十分な酸化ができるのであれば、図32に示したような矩形に限定されず、任意の形状とすることができる。
フォトレジスト膜43を剥離したのち、図36および図37に示したように、絶縁膜80および絶縁膜抜き領域80Aの上に、全面にフォトレジスト膜44を形成する。続いて、このフォトレジスト膜44に、柱状部形成予定領域61A(図36において網掛けを施した円形の領域)以外の領域全体に開口44Aを形成する。この開口44A内には、絶縁膜80のフォトレジスト膜44で保護されていない絶縁膜有り領域81(図36において網掛けが施されていない斜線の領域)と、絶縁膜抜き領域80Aのフォトレジスト膜44で保護されていない絶縁膜無し領域82(図36において網掛けおよび斜線のいずれも施されていない白地の領域)とが形成される。
フォトレジスト膜44の開口44Aを形成したのち、図38に示したように、フォトレジスト膜44をマスクとして絶縁膜有り領域81および前記絶縁膜無し領域82をエッチングする。これにより、フォトレジスト44で覆われた部分に柱状部61が形成される。
エッチングには、SiCl4,Ar,Cl2等をエッチャントガスとして用いる。このとき、SiO2よりなる絶縁膜80とフォトレジスト膜44とでエッチングレート差が大きいエッチング条件を用いれば、フォトレジスト膜44で保護された柱状部形成予定領域61Aをエッチングすることなく、絶縁膜有り領域81および絶縁膜無し領域82をエッチングすることができる。絶縁膜有り領域81では、絶縁膜80がエッチオフされた後に半導体よりなる積層構造10がエッチングされるのに対して、絶縁膜無し領域82では最初から半導体よりなる積層構造10がエッチングされる。よって、絶縁膜無し領域82は、絶縁膜80のエッチオフにかかる時間の分だけ、絶縁膜有り領域81よりも深くエッチングされる。このように絶縁膜80にエッチング緩和層としての機能をもたせることが可能である。
具体的には、絶縁膜有り領域81のエッチング深さは、積層方向において上部酸化可能層32Aを含む上部第2DBRミラー層32を貫通すると共に、下部酸化可能層22Aを含む下部第2DBRミラー層22に達しない深さとする。このとき、絶縁膜無し領域82のエッチング深さは、絶縁膜80のエッチオフ時間分の深さの差ΔDだけ絶縁膜有り領域81よりも深くなる。従って、絶縁膜80の厚みおよびエッチング条件を適切に調整しておくことにより、絶縁膜無し領域82のエッチング深さを、積層方向において下部酸化可能層22Aのうち少なくとも1層を貫通する深さとすることが可能となる。
エッチングにより柱状部61を形成したのち、図39に示したように、フォトレジスト膜44を剥離する。
フォトレジスト膜44を剥離したのち、図40に示したように、水蒸気雰囲気中において高温で酸化処理を行う。このとき、絶縁膜有り領域81では、上部酸化可能層32Aのみが第2溝52の側面に露出している。よって、上部酸化可能層32Aのアルミニウム(Al)が選択的に酸化されて、絶縁層(酸化アルミニウム)よりなる上部酸化層34Aとなるが、下部酸化可能層22Aは酸化されない。
一方、絶縁膜無し領域82では、上部酸化可能層32Aおよび下部酸化可能層22Aの両方が柱状部61の側面に露出している。よって、上部酸化可能層32Aは上述と同様に酸化されて上部酸化層34Aとなる。これと同時に、下部酸化可能層22Aのアルミニウム(Al)が選択的に酸化されて、絶縁層(酸化アルミニウム)よりなる下部酸化層24Aとなる。
このとき、上部DBRミラー層16および下部DBRミラー層12の各層のアルミニウム(Al)組成比の違いによって、上部第1DBRミラー層31,上部第3DBRミラー層33,下部第1DBRミラー層21および下部第3DBRミラー層23の酸化はほとんどなされないか、上部酸化可能層32Aおよび下部酸化可能層22Aの酸化に対してわずかである。
よって、下部第2DBRミラー層22には、柱状部61の中心Cを通る直線上であって、かつ中心Cを間にして反対側に、つまり一方向の対角に下部酸化層22が形成される。一方、上部第2DBRミラー層32には、発光層14の発光領域14Aに対応して開口を有する上部酸化層34Aが形成され、その開口が電流注入領域34Bとなる。
このように、絶縁膜80に絶縁膜抜き領域80Aを設けたのち、フォトレジスト膜44の開口44A内に絶縁膜有り領域81および絶縁膜無し領域82を形成し、この絶縁膜有り領域81および絶縁膜無し領域82をエッチングすることにより、一度のエッチングプロセスにより、絶縁膜無し領域81のエッチング深さを、絶縁膜有り領域82よりも深くすることができる。また、この深さの差ΔDを利用して酸化処理を行うことにより、発光領域14Aを中心にして回転する方向に不均一に分布する下部酸化層24Aを容易に形成することができる。
上部酸化層34Aおよび下部酸化層24Aを形成したのち、図41に示したように、絶縁膜80を除去する。
絶縁膜80を除去したのち、図42に示したように、第1の実施の形態と同様にして、柱状部61の上面に、環状の上部電極71を形成する。また、柱状部61から離れた場所には、上部電極パッド(図示せず)を形成する。
続いて、同じく図42に示したように、第1の実施の形態と同様にして、コンタクト層17の光出射領域に限り開口し、光出射窓17Aを形成する。
コンタクト層17の光出射窓17Aを形成したのち、同じく図42に示したように、第1の実施の形態と同様にして、例えばCVD法により、SiO2等の酸化物または窒化物などの絶縁材料よりなる絶縁膜(パシベーション膜)18を全面(柱状部61の上面、第1溝51および第2溝52の内面および、コンタクト層17のうち柱状部61以外の表面)に形成する。
続いて、同じく図42に示したように、第1の実施の形態と同様にして、上部電極71上の絶縁膜18の一部をエッチングし、上部電極露出部71Aを形成したのち、上部電極露出部71Aに接続部72を形成する。
接続部72を形成したのち、同じく図42に示したように、第1の実施の形態と同様にして、基板11の裏面を研磨、エッチングし、基板11の裏面に下部電極73を形成する。そののち、基板11を400℃以上に加熱し、電極の合金化を行う。以上により、本実施の形態の面発光型半導体レーザ1が完成する。
このように本実施の形態では、絶縁膜80および絶縁膜抜き領域80Aの上にフォトレジスト膜44を形成し、絶縁膜80のフォトレジスト膜44で保護されていない絶縁膜有り領域81と、絶縁膜抜き領域80Aのフォトレジスト膜44で保護されていない絶縁膜無し領域82とを設け、フォトレジスト膜44をマスクとして絶縁膜有り領域81および絶縁膜無し領域82をエッチングするようにしたので、絶縁膜80をエッチング緩和層として、同一の工程で、絶縁膜無し領域82を、絶縁膜有り領域81よりも深くエッチングすることが可能となる。よって、簡易な方法で、深さの異なる溝を高精度に形成し、レーザ光の偏光方向を一方向に安定化することが可能となる。
更に、絶縁膜80の厚みおよびエッチング条件によってエッチング深さを自由に制御可能となり、積層構造10の設計自由度を高めることが可能となる。
なお、上記実施の形態では、フォトレジスト膜44の開口44Aを、第2の実施の形態の第2溝52と同様に、柱状部形成予定領域61A以外の領域全体に設けた場合について説明したが、開口44Aは、他の形状としてもよい。
例えば、図43に示したように、開口44Aを、第1の実施の形態の第2溝52と同様に、柱状部形成予定領域61Aを囲む枠状に設けるようにしてもよい。
また、例えば、図44に示したように、絶縁膜抜き領域80Aを柱状部形成予定領域61Aの周辺(外側の領域)の一部に設け、フォトレジスト膜44に、第3の実施の形態の第2溝52および第3溝53と同様に、柱状部形成予定領域61Aを囲む枠状の開口44Bと、この枠状の開口44Aよりも外側に、一部が絶縁膜抜き領域80Aに重なる線状の開口44Cとを設けるようにしてもよい。
以上、実施の形態を挙げて本発明を説明したが、本発明は上記実施の形態等に限定されるものではなく、種々変形可能である。例えば、上記実施の形態では、第1溝51をコンタクト層17に設ける場合について説明したが、第1溝51は、コンタクト層17に限らず、上部DBRミラー層16の上層、例えば上部第3DBRミラー層33または上部DBRミラー層16とコンタクト層17との中間にアルミニウム含有比の低い中間層を挿入し、その中間層に形成することも可能である。
また、例えば、上記実施の形態では、面発光型半導体レーザ1の構成を具体的に挙げて説明したが、全ての層を備える必要はなく、また、他の層を更に備えていてもよい。例えば、上記各実施の形態では、下部DBRミラー層12を、下部第1DBRミラー層21ないし下部第3DBRミラー層23を基板10側からこの順に積層した構造とし、上部DBRミラー層16を、上部第1DBRミラー層31ないし上部第3DBRミラー層33を基板10側からこの順に積層した構造とした場合について説明したが、下部第1DBRミラー層21を省略してもよい。
更に、例えば、上記実施の形態において説明した各層の材料、または成膜方法および成膜条件などは限定されるものではなく、他の材料としてもよく、または他の成膜方法あるいは成膜条件としてもよい。
加えて、上記実施の形態では、AlGaAs系の化合物半導体レーザを例にして本発明を説明したが、本発明は他の化合物半導体レーザ、例えば、AlGaInP系、AlGaInAsP系などのAlを含む化合物半導体レーザにも適用可能である。
1…面発光型半導体レーザ、10…積層構造、11…基板、12…下部DBRミラー層、13…下部スペーサ層、14…活性層、14…発光領域、15…上部スペーサ層、16…上部DBRミラー層、17…コンタクト層、18…絶縁膜、18A…絶縁膜抜き領域、21…下部第1DBRミラー層、21A,22A,23A,31A,32A,33A…低屈折率層、21B,22B,23B,31B,32B,33B…高屈折率層、22…下部第2DBRミラー層、22A…下部酸化可能層、23…下部第3DBRミラー層、24A…下部酸化層、31…上部第1DBRミラー層、32…上部第2DBRミラー層、32A…上部酸化可能層、33…上部第3DBRミラー層、34A…上部酸化層、34B…電流注入領域、41,42…フォトレジスト膜、41A,42A…開口、50…段差付き凹部、51…第1溝、52…第2溝、53…第3溝、60…発光部、61…柱状部(メサ部)、71…上部電極、72…接続部、73…下部電極
Claims (18)
- 基板に、少なくとも1層の下部酸化可能層を含む下部多層膜反射鏡、発光領域を有する活性層、上部酸化可能層を含む上部多層膜反射鏡および上層をこの順に有する積層構造を形成する工程と、
前記上層に第1の溝を設ける工程と、
前記積層構造に、平面形状において前記第1の溝に重なる部分および前記第1の溝に重ならない部分を含む第2の溝を設ける工程と
を含む面発光型半導体レーザの製造方法。 - 前記第2の溝の前記第1の溝に重ならない部分を、積層方向において前記上部酸化可能層を貫通すると共に前記下部酸化可能層に達しない深さで設け、
前記第2の溝の前記第1の溝に重なる部分を、積層方向において前記下部酸化可能層のうち少なくとも1層を貫通する深さで設ける
請求項1記載の面発光型半導体レーザの製造方法。 - 前記第2の溝を設けたのち水蒸気雰囲気中で高温で酸化を行うことにより、前記第2の溝の前記第1の溝に重ならない部分では前記上部酸化可能層を酸化させると共に、前記第2の溝の前記第1の溝に重なる部分では前記下部酸化可能層を酸化させる工程を含む
請求項2記載の面発光型半導体レーザの製造方法。 - 前記第2の溝を、柱状部を囲む枠状、または前記柱状部以外の領域の全体に設ける
請求項3記載の面発光型半導体レーザの製造方法。 - 前記第2の溝を設けると同時に、平面形状において前記第1の溝に重ならない第3の溝を、柱状部を囲む枠状に設け、前記第3の溝よりも外側に前記第1の溝および前記第2の溝を設ける
請求項3記載の面発光型半導体レーザの製造方法。 - 前記第3の溝を、積層方向において前記上部酸化可能層を貫通すると共に前記下部酸化可能層に達しない深さで設ける
請求項5記載の面発光型半導体レーザの製造方法。 - 前記上部多層膜反射鏡と前記上層との間にエッチングストッパー層を形成し、前記第1の溝を前記エッチングストッパー層に達する深さで設ける
請求項1ないし6のいずれか1項に記載の面発光型半導体レーザの製造方法。 - 基板に、下部多層膜反射鏡、発光領域を有する活性層、上部多層膜反射鏡および上層をこの順に有する積層構造よりなる柱状部と、
前記柱状部の側面の前記上部多層膜反射鏡に設けられた上部酸化層と、
前記柱状部の周縁の一部または前記柱状部よりも外側の領域に設けられ、前記上層の第1の溝および前記第1の溝の底面の第2の溝よりなる段差付き凹部と、
前記段差付き凹部の側面の前記下部多層膜反射鏡に設けられた少なくとも1層の下部酸化層と
を備えた面発光型半導体レーザ。 - 前記第2の溝は、平面形状において前記第1の溝に重なることにより前記段差付き凹部を構成する部分と、平面形状において前記第1の溝に重ならない部分とを含み、
前記第2の溝の前記第1の溝に重ならない部分は、積層方向において前記上部酸化層を貫通すると共に前記下部酸化層に達しない深さを有している
請求項8記載の面発光型半導体レーザ。 - 前記第2の溝は、柱状部を囲む枠状、または前記柱状部以外の領域の全体に設けられている
請求項9記載の面発光型半導体レーザ。 - 平面形状において前記第1の溝に重ならない第3の溝を有し、
前記第3の溝は、柱状部を囲む枠状に設けられ、前記第3の溝の外側に前記第1の溝および前記第2の溝が設けられている
請求項9記載の面発光型半導体レーザ。 - 前記第3の溝は、積層方向において前記上部酸化層を貫通すると共に前記下部酸化層に達しない深さを有している
請求項11記載の面発光型半導体レーザ。 - 基板に、少なくとも1層の下部酸化可能層を含む下部多層膜反射鏡、発光領域を有する活性層、上部酸化可能層を含む上部多層膜反射鏡および絶縁膜をこの順に有する積層構造を形成する工程と、
前記絶縁膜の一部を除去することにより絶縁膜抜き領域を設ける工程と、
前記絶縁膜および前記絶縁膜抜き領域の上にフォトレジスト膜を形成することにより、前記絶縁膜の前記フォトレジスト膜で保護されていない絶縁膜有り領域と、前記絶縁膜抜き領域の前記フォトレジスト膜で保護されていない絶縁膜無し領域とを設ける工程と、
前記フォトレジスト膜をマスクとして前記絶縁膜有り領域および前記絶縁膜無し領域をエッチングする工程と
を含む面発光型半導体レーザの製造方法。 - 前記絶縁膜有り領域を、積層方向において前記上部酸化可能層を貫通すると共に前記下部酸化可能層に達しない深さまでエッチングし、
前記絶縁膜無し領域を、積層方向において前記下部酸化可能層のうち少なくとも1層を貫通する深さまでエッチングする
請求項13記載の面発光型半導体レーザの製造方法。 - 前記エッチングののち、水蒸気雰囲気中で高温で酸化を行うことにより、前記絶縁膜有り領域では前記上部酸化可能層を酸化させると共に、前記絶縁膜無し領域では前記下部酸化可能層を酸化させる工程を含む
請求項14記載の面発光型半導体レーザの製造方法。 - 前記フォトレジスト膜に、柱状部形成予定領域を囲む枠状の開口を設ける
請求項15記載の面発光型半導体レーザの製造方法。 - 前記フォトレジスト膜に、前記柱状部形成予定領域以外の領域全体に開口を設ける
請求項15記載の面発光型半導体レーザの製造方法。 - 前記絶縁膜抜き領域を柱状部形成予定領域よりも外側の領域に設け、
前記フォトレジスト膜に、柱状部形成予定領域を囲む枠状の開口を設けると共に、前記枠状の開口よりも外側に、一部が前記絶縁膜抜き領域に重なる開口を設ける
請求項15記載の面発光型半導体レーザの製造方法。
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