JP5643844B2 - トピラマート(topiramate)の製造方法 - Google Patents
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Description
A)2,3:4,5−ジ−O−(1−メチルエチリデン)−β−D−フルクトピラノース及び塩化スルフリルを、第1有機溶媒であるキシレン又はキシレン混合物中、有機又は無機塩基存在下で反応させ、塩化2,3:4,5−ジ−O−(1−メチルエチリデン)−β−D−フルクトピラノーススルフリル(本発明の中では、「クロロスルホン酸塩」とも言う)を生成し、
B)手順A)で得られた混合物に第2有機溶媒を加え、及び、
C)手順B)で得られた混合物をアンモニアと反応させて、トピラマートを生成する。
(クロロスルホン化)
キシレン(約3kg)と塩化スルフリル(約0.6kg)を適切な反応槽に入れる。塩化スルフリル溶液を−20から−5℃まで冷却する。A)2,3:4,5−ジ−O−(1−メチルエチリデン)−β−D−フルクトピラノース(約1kg)とキシレン溶液(約4kg)を別の適切な容器に入れる。容器中の反応混合物を真空状態で蒸留し、約1部(1L)の溶媒を除去する。蒸留の後は、ピリジン(約0.4kg)を容器中の反応混合物の中に入れる。その後、容器中の混合物を徐々に反応槽に入れ、−20から−5℃までの温度を維持する。クロロスルホン化反応が完成するまで、10℃以下の温度で反応混合物をかき混ぜる。
テトラヒドロフラン(約7.5kg)をクロロスルホン酸塩のある溶液に入れ、それを0℃以下まで冷却する。反応混合物にアンモニアガスや窒素ガスを通過させ、アミノ化反応が完成するまで0℃以下の温度を維持する。水(約2kg)を混合物に入れ、10℃以下の温度でかき混ぜる。有機層を収集し、水(約2.0kg)で洗う。有機層をろ過し、真空の状況で、残りの混合物の中にテトラヒドロフランがほとんどないようになるまで蒸留する。n−ヘプタン(約2.7kg)を入れる。すべての糊状物を10℃以下まで冷却し、ろ過し、n−ヘプタンで洗い、粗トピラマート(約0.91kgから1.235kgの間、乾燥基準)を得る。全体的な見積り収率:80〜95%。
粗トピラマート(約1kg)とイソプロパノール(約1kg)を適切な反応槽に入れる。トピラマートが溶解するまで混合物を加熱する。溶液をろ過する。60℃から75℃の間で徐々にn−ヘプタン(約2kg)を入れる。溶液を冷却させ、続けてトピラマート(約0.002kg)種晶を生成させる。混合物をかき混ぜ、10℃以下まで徐々に冷却する。その溶液をかき混ぜた後、適切な容器に移し、内部温度を10℃以下に制御する。糊状物をろ過する。濾過ケーキを真空の中で乾燥して、トピラマート(約0.80kgから0.95kgの間)を得る。
以前の技術(例えば、特許文献1及び3)では、蒸留手順で溶媒を取り除いて油状のクロロスルホン酸塩を得た。しかし本発明では、クロロスルホン酸塩が含まれた反応混合物に対して蒸留手順を行う必要がない。乾燥剤(硫酸マグネシウム)を使用して以前の技術中の蒸留手順を代替できる。そのため、本発明で水分の除去は、破壊性が比較的に小さい方式を通じて実現する。
(2)硫酸マグネシウムをクロロスルホン酸塩が含まれた溶媒の中に入れる。
(2)硫酸マグネシウムをクロロスルホン酸塩が含まれた溶媒の中に入れる。
(3)蒸留手順は抽出手順の後で行う(水、クエン酸溶液および酢酸ナトリウム溶液で洗う)。蒸留は45℃以下の温度と5Torr以下の圧力の下で行い、以前の技術に似ている。
以前の技術と比べて、本発明中では第1有機溶媒(即ち、キシレン)を反応混合物から除去していない。残りのキシレンはその中に含まれたクロロスルホン酸塩とトピラマートを保護する。しかしかなり多いトピラマートが残りの有機溶媒に溶解するため、収率が下がる。
(1)アミノ化手順でクロロスルホン酸塩は、開始材料である2,3:4,5−ジ−O−(1−メチルエチリデン)−β−D−フルクトピラノースに分解される。
(2)n−ヘプタンを入れてトピラマートが沈殿の過程で損失されないようにする。
Claims (14)
- A)2,3:4,5−ジ−O−(1−メチルエチリデン)−β−D−フルクトピラノース及び塩化スルフリルを、第1有機溶媒であるキシレン又はキシレン混合物中、有機又は無機塩基存在下で反応させ、塩化2,3:4,5−ジ−O−(1−メチルエチリデン)−β−D−フルクトピラノーススルフリルを生成する工程、
B)工程A)で得られた混合物に第2有機溶媒を加える工程、及び、
C)工程B)で得られた混合物をアンモニアと反応させて、トピラマートを生成する工程、
を含む、トピラマート又はその薬学上許容可能な塩を調製する方法。 - 工程A)と工程B)との間で以下の工程、
D)水、塩の水性溶液、酸の水性溶液、及びその混合物から選択された第1洗剤で工程A)で得られた混合物を少なくとも一回洗浄する工程、
E)工程D)で得られた有機層を収集する工程、及び、
F)乾燥剤で有機層を乾燥させる工程、
を行う、請求項1に記載の方法。 - 工程D)を10℃以下の温度で行う、請求項2に記載の方法。
- 乾燥剤は吸水塩類又は分子篩である、請求項2又は3に記載の方法。
- 吸水塩類は、MgSO4、Na2SO4、CaCl2、及び、これら化合物の混合物からなる群より選択される、請求項4に記載の方法。
- 工程A)を、以下の工程、
A1)2,3:4,5−ジ−O−(1−メチルエチリデン)−β−D−フルクトピラノースを第1有機溶媒と混合する工程、
A2)工程A1)で得られた混合物を蒸留して水分を除去する工程、及び、
A3)有機又は無機塩基存在下で、工程A2)の混合物を塩化スルフリルと反応させる工程、
に従って行う、請求項1から5のいずれか1項に記載の方法。 - 第2有機溶媒はテトラヒドロフランである、請求項1から6のいずれか1項に記載の方法。
- 工程C)を0℃より低い温度で行う、請求項1から7のいずれか1項に記載の方法。
- 工程C)の後に、
G)工程C)で得られた第1有機溶媒及び第2有機溶媒を含んだ混合物を蒸留して少なくとも部分的に第2有機溶媒を除去する工程であって、第2有機溶媒の沸点は第1有機溶媒より低い、工程
を行う、請求項1から8のいずれか1項に記載の方法。 - 工程C)の後に、
H)水又は水性溶液から選択された第2洗剤で工程C)で得られた混合物を少なくとも一回洗浄する工程、及び、
I)工程H)で得られた混合物の有機層を収集する工程、
を行う、請求項1から9のいずれか1項に記載の方法。 - 工程C)の後に、
J)工程C)で得られた混合物にアルカンからなる第3溶媒を加える工程、及び、
K)工程J)で得られた混合物からトピラマートを沈殿させる工程、
を行う、請求項1から10のいずれか1項に記載の方法。 - 第3溶媒はn−ペンタン、n−ヘプタン、及び/又は、n−ヘキサンである、請求項11に記載の方法。
- 有機又は無機塩基は、複素環式化合物及び/又はアミンである、請求項1から12のいずれか1項に記載の方法。
- 工程C)で得られたトピラマートを、さらに、イソプロパノール及びn−ヘプタンを含有する又はこれらからなる混合物から再結晶により精製する、請求項1から13のいずれか1項に記載の方法。
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