JP5634191B2 - 多数個取り配線基板 - Google Patents
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る接続信頼性等を低下させる可能性があるという問題点があった。
ともに、前記配線基板領域の上面および下面の少なくとも一方に、表面にめっき層が被着された金属層が形成された多数個取り配線基板であって、前記配線基板領域のうち個片の配線基板として不良であるものは、前記金属層の中央部において、レーザ光によって前記めっき層の厚み方向の一部または全部が除去され、前記めっき層の一部または前記金属層が露出して酸化していることを特徴とするものである。
板を提供することができる。
パラジウム,白金,金,等の金属材料により形成されている。
の並びで配列されている多数個取り配線基板9において、接続パッド4を、タングステンのメタライズ層からなる1辺の長さが約0.4mmの正方形状として、配線基板領域2の下
面の4つの角部および各辺の中央部に1つずつ配置したときに、接続パッド4の表面に、厚さが約2〜10μmのニッケルめっき層5aと、厚さが約0.5〜1μmの金めっき層5b
とを順次被着させた。
せず)を下面側の全面に貼り付けて、不良である配線基板(配線基板領域2)の識別を画像認識装置を用いて行なった。その結果、上記のようにニッケルめっき層5aを露出およ
び酸化させたものは、その全部が画像認識装置で検知された。また、目視による検知も行なったが、この場合も検知が容易であった。
割合でマークが識別されないものが発生していた。また、上記の引き剥がし試験において、約0.1%の配線基板において、はんだと接続パッド4との界面における破壊が生じ、は
んだの剥がれが発生していた。
させて、配線基板領域2の境界2aにおいて母基板1を切断することにより行なわれる。ダイシングブレードの母基板1に対する位置決めは、例えば母基板1にあらかじめ位置決め用のパターン(図示せず)を設けておいて、その位置を画像認識装置で認識させることにより行なう。この位置決め用のパターンは、例えば配線導体3と同様の材料を用い、同様の方法で母基板1に形成することができる。また、位置決め用のパターンは、母基板1を形成するのと同様の材料に顔料等の着色剤を添加して形成してもよい。また、このようなパターンに限らず、母基板1の外縁部分等の一部を切り欠いてなる切り欠き部(図示せず)等を位置決めの基準としてもよい。
の境界2aに沿ってダイシング加工が施されて切断されるものであり、複数の接続パッド4が配線基板領域2の境界2aに近接して沿うように配列されている場合には、接続パッド4のうちレーザ光による加工が行なわれていない残部にめっき層5が被着され、これを画像認識装置等で認識することが容易であるため、個片の配線基板領域2の外周位置の検知が容易であり、ダイシング加工の際の位置決めも容易である。したがって、この場合には、個片の配線基板の生産性がより高い多数個取り配線基板9を提供することができる。
以下の実施の形態の例においては、バッドマークとして利用される金属層が配線基板領域2の上面に形成された金属層である場合を例に挙げて説明する。この実施の形態においては、レーザ光でめっき層5の一部が除去される金属層が配線基板領域2の上面に形成されている点が上記の実施の形態(バッドマークとして利用される金属層が接続パッド4である場合)と異なり、他の点については同様である。この、上記の実施の形態と同様の部分については説明を省略する。
1および図2ならびに図6と同様の部位には同様の符号を付している。
2・・・配線基板領域
2a・・配線基板領域の境界
2b・・搭載部
3・・・配線導体
4・・・接続パッド
5・・・めっき層
5a・・ニッケルめっき層
5b・・金めっき層
6・・・接合層
7・・・ダミー金属層
8・・・ダミー領域
9・・・多数個取り配線基板
Claims (4)
- セラミック焼結体からなる母基板に複数の配線基板領域が縦横の並びに配列され、前記配線基板領域の上面に電子部品の搭載部が設けられるとともに、前記配線基板領域の上面および下面の少なくとも一方に、表面にめっき層が被着された金属層が形成された多数個取り配線基板であって、
前記配線基板領域のうち個片の配線基板として不良であるものは、前記金属層の中央部において、レーザ光によって前記めっき層の厚み方向の一部または全部が除去され、前記めっき層の一部または前記金属層が露出して酸化していることを特徴とする多数個取り配線基板。 - 前記金属層が、前記配線基板領域の下面に形成された外部接続用の接続パッドを含み、前記配線基板領域のうち個片の配線基板として不良であるものは、前記接続パッドの中央部において、レーザ光によって前記めっき層の厚み方向の一部または全部が除去され、前記めっき層の一部または前記接続パッドが露出して酸化していることを特徴とする請求項1記載の多数個取り配線基板。
- 前記母基板は、前記配線基板領域の境界に沿ってダイシング加工が施されて切断されるものであり、複数の前記接続パッドが前記配線基板領域の境界に近接して沿うように配列されていることを特徴とする請求項2記載の多数個取り配線基板。
- 前記金属層が前記配線基板領域の上面に形成されており、前記配線基板領域のうち個片の配線基板として不良であるものは、前記配線基板領域の上面に形成された前記金属層の中央部において、レーザ光によって前記めっき層の厚み方向の一部または全部が除去され、前記めっき層の一部または前記金属層が露出して酸化していることを特徴とする請求項1記載の多数個取り配線基板。
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JP2009247270 | 2009-10-28 | ||
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