JP5624278B2 - 赤外線放射素子 - Google Patents
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Description
また、一般にシート抵抗が小さいほうが反射率が高いから、反射層は、反射率を高めるためにシート抵抗を小さくする必要がある。とくに、シート抵抗を小さくするために、反射層に良導電性の材料を用いると、反射層を薄肉に形成することが可能になるので、赤外線の放射効率に関与する放射層および透過層の材料や厚み寸法の制約を増加させることがない。すなわち、赤外線発生層の厚み寸法を小さくして赤外線発生層の熱容量を低減することができ、結果的に高速応答が可能になる。また、赤外線発生層のうちシート抵抗が最小である反射層に通電することにより、同出力を得るために必要な駆動電圧を、放射層や透過層に通電する場合よりも低くすることができるから、駆動電圧の確保のために昇圧回路を設ける場合であっても、昇圧比の抑制により昇圧回路の損失を低減して電力効率を高めることができる。
本実施形態の赤外線放射素子は、図1に示すように、通電に伴って発生した熱により赤外線を放射する赤外線発生層1および赤外線発生層1の背面を支持する熱絶縁層2を基板3の一表面に備えた構成を有する。ここに、基板3に対する「一表面」の用語は、面自身ではなく、面に接する領域を意味するものとする。したがって、赤外線発生層1および熱絶縁層2は基板3の一表面に形成されていることになる。
λ=2898/T …(1)
したがって、放射層4の温度を変化させることにより、放射層4から放射される赤外線のピーク波長を変化させることができる。放射層4の温度を調節するには、反射層6に印加する電圧の振幅や波形などを調節し、単位時間当たりに発生するジュール熱を変化させる。
n・Lq=(2m−1)λ/4 …(2)
ここに、mは正整数である。たとえば、目的とする赤外線の波長が4〔μm〕であって、透過層5の屈折率を3.5とし、m=1に設定すれば、透過層5の厚み寸法Lqは0.286〔μm〕になる。本実施形態では透過層5の材料をシリコンとし、ノンドープのシリコンをスパッタ法により所定の位置に所定の厚み(0.286μm)で形成した。
μ=(2αp/ωCp) 1/2 …(3)
ただし、ω=2πfである。
α(λ)=(4/Dn 2 )[{fs(fr+1) 2 /n 2 +fr}sin 2 θ
+(fr+fs)cos 2 θ] …(4)
ただし、
D={(fr+1)(fs+1)/n 2 +1}sin 2 θ
+{(fr+fs+2)/n 2 }cos 2 θ
fr=120π/Rr
fs=120π/Rs
θ=2πnd/λ
である。
実施形態1では、熱絶縁層2を基板3の一表面に形成した例を示したが、本実施形態では、熱絶縁層2の背面に気体が接触する構成を採用している。具体的には、図7(a)のように熱絶縁層2と基板3との間に気体層8を形成するか、図7(b)のように基板3において熱絶縁層2の背面側となる部位に表裏に貫通した開口9を形成する。
0.05Lg′<Lg<3Lg′ …(6)
ただし、Lg′=(2αg/ωCg) 1/2 、ω=2πfである。
2 熱絶縁層
3 基板
4 放射層
5 透過層
6 反射層
7 電極
8 気体層
Claims (5)
- 検出対象であるガスが吸収する波長の赤外線を選択的に受光する赤外線受光素子とともに用いられ、前記検出対象のガスの濃度を計測する装置を構成する赤外線放射素子であって、基板の一表面に形成され通電に伴って発生した熱により赤外線を放射する赤外線発生層と、一面に前記赤外線発生層が積層されることにより前記赤外線発生層を支持するように前記基板の一表面に形成された熱絶縁層とを備え、前記赤外線発生層は、温度上昇により赤外線を放射する放射層と、目的波長の赤外線に対して透明である材料により形成され前記放射層が一面に積層された透過層と、前記透過層の他面と熱絶縁層との間に形成され赤外線を反射する反射層とからなり、前記放射層と前記透過層と前記反射層とのいずれかに通電することにより熱を発生させるとともに、前記放射層の温度を上昇させて赤外線を放射させ、前記透過層は、前記検出対象のガスに応じて定められる目的波長の赤外線に対する光路長が当該赤外線の4分の1波長の奇数倍となる厚み寸法に設定されており、前記放射層は、赤外線を通過させる機能を有し、前記放射層と前記透過層と前記反射層との各シート抵抗は前記反射層がもっとも小さく、前記反射層に通電されることを特徴とする赤外線放射素子。
- 前記熱絶縁層の他面が気体に接触していることを特徴とする請求項1記載の赤外線放射素子。
- 前記透過層の材料は、シリコンとゲルマニウムとから選択されることを特徴とする請求項1又は2記載の赤外線放射素子。
- 前記放射層の材料は、TaNとTiNとから選択されることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の赤外線放射素子。
- 前記熱絶縁層は、ポーラス半導体であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の赤外線放射素子。
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