JP5624047B2 - 有機ｅｌ表示パネルとその製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、電気的発光素子である有機電界発光素子（以下「有機ＥＬ素子」と称する）を用いた有機ＥＬ表示パネルとその製造方法に関し、特にインクジェットヘッドを用いた塗布工程の改良技術に関する。

近年、実用化が進む有機ＥＬ素子は電流駆動型の発光素子であり、陽極と陰極の一対の電極対の間に有機発光材料を含む発光層が配設された基本構造を有する。駆動時には一対の電極対間に電圧を印加し、陽極から発光層に注入されるホールと、陰極から発光層に注入される電子との再結合で発生する電界発光現象を利用する。有機ＥＬ素子は自己発光を行うので視認性が高く、完全固体素子であるため耐衝撃性に優れるなどの特徴を有する。

有機ＥＬ素子の種類としては、高分子材料や薄膜形成性の良い低分子を用い、これをインクジェット方式等によるウエットプロセス（塗布工程）で塗布し、発光層や電荷注入層を形成した塗布型が知られている。この塗布型の有機ＥＬ素子を発光単位とし、基板上に行列方向に沿って複数にわたり配設した有機ＥＬ表示パネルが、小型電子機器のディスプレイや画像表示装置等として実用化されている。

代表的なインクジェット方式では、作業テーブルの上に塗布対象基板を載置し、当該基板上を行列方向のいずれかの方向に沿って横断するようにインクジェットヘッドを移動させ、基板上のバンクに区画された各有機ＥＬ素子形成領域に合わせて、発光層や電荷注入層の有機材料と溶媒を含む溶液（以下、単に「インク」と称する。）の液滴をノズルから吐出させる（特許文献１を参照）。インクジェットヘッドはピエゾ方式等の駆動方式で駆動される。前記バンクの形状としては複数の有機ＥＬ素子形成領域に共通して配されるラインバンクもあるが、各有機ＥＬ素子毎に区画・規制する形状（いわゆるピクセルバンク）が主流である。

複数の有機ＥＬ素子を配設して有機ＥＬパネルを製造する場合、各有機ＥＬ素子の特性を揃えることが大切である。このため、各有機ＥＬ素子形成領域に吐出するインクの量を均一にするとともに、前記インクを蒸発乾燥させて形成する各発光層や電荷注入層の膜厚を揃えることが求められる。そこで通常は、前記塗布工程において、各々のノズルの印加電圧を調整し、インクがノズルから射出される速度（以下、「液滴速度」と称する。）を揃える等の方法で、基板上の各有機ＥＬ素子形成領域間のインク量の均一化が図られている。

特開２００３−２４１６８３号公報 特開２００５−３２２６５６号公報

しかしながら、従来のインクジェット方式で有機ＥＬ表示パネルを製造する場合、幾つかの課題がある。
第一の課題として、塗布したインクにより形成される層の膜厚の均一性が、未だ要求されるレベルに及び難いことが挙げられる。
図１９は、従来の有機ＥＬ表示パネルの製造工程を示す、模式的な断面図である。基板１には、表面にＴＦＴ層２、平坦化膜４、下部電極６、バンク７が順次され、バンク７は列（Ｙ）方向を長手とする略長方形状の開口部１３を形成するように配設される。インクジェットヘッドのヘッド部３０１から吐出されたインクの液滴は、この開口部１３を有機ＥＬ素子形成領域として、インクジェットヘッドのノズル本体３０１に設けられたノズルから吐出される。吐出されたインク９ｘからは溶媒成分の多くが真上方向に蒸発して乾燥する。しかし、列（Ｙ）方向で隣接する開口部１３の間にはバンク７が介在し、各開口部１３の間が比較的大きく隔てられている。このため、開口部１３の列（Ｙ）方向両端部付近では、インクから蒸発する溶媒の拡散自由度が比較的大きく、当該領域の溶媒の蒸気濃度が、各開口部の中央領域付近の蒸気濃度よりも高くなる。その結果、前記インクにより形成される層は、開口部１３の前記中央領域の膜厚に比べて前記両端部領域の膜厚が厚くなり、全体として膜厚が不均一になる。ここで図２０は、従来の発光層の膜厚測定結果を規格化して示したものであり、発光層９の長手方向両端で膜厚が厚く不均一になっている様子を示す。

第二の課題として、インクジェットヘッドのノズルが目詰まりを生じる課題がある。
有機ＥＬ表示パネルの製造のためにインクジェットヘッドに充填されるインクは、一般にインクジェットプリンタで用いられる印字用インクに比べて高粘度である。この高粘度のインクを用いる場合、有機ＥＬ素子形成領域に対応しない特定のノズルについてインクを吐出しないように設定すると（図１９（ａ）参照）、当該ノズルの内部でインクが凝固し、目詰まりを生じることがある。目詰まりを生じたノズルがあると、設定時間内に正しく液滴を吐出できない。また、一の開口部に複数のノズルで液滴を吐出する場合、目詰まりを生じたノズルがこの中に含まれていると、各有機ＥＬ形成領域でインクにより形成される層の厚みが不均一になり、発光ムラの原因にもなる。さらに、一の開口部に一つのノズルから液滴を吐出する場合、当該ノズルが目詰まりを起こして不吐出ノズルになっていると、インクジェットヘッドの走査方向に沿った複数の開口部の全てにインクを吐出できない不具合も生じうる。

目詰まりを生じたノズルは基板上の印刷パターンの変更に対応できなくなる他、最悪の場合、基板のロスやインクジェットヘッドの交換が必要となる。また、ノズルの再生が望める場合でも、インクジェットヘッドを装置から取り外し、洗浄後に再度、装置側に高精度でアライメントして装着する手間（回復動作も含む）が必要であり、生産効率を著しく低下させる原因にもなる。

本発明は以上の課題に鑑みてなされたものであって、第一の目的として、インクジェット方式により均一な膜厚の層を形成し、発光ムラを抑制して優れた画像表示性能を期待できる有機ＥＬ表示パネルとその製造方法を提供する。
また、第二の目的として、インクジェットヘッドのノズルの目詰まりを防止し、良好な生産効率で有機ＥＬ表示パネルを製造することが可能な有機ＥＬ表示パネルの製造方法を提供する。

上記課題を解決するために、本発明の一態様における有機ＥＬ表示パネルの製造方法は、基板を準備する工程と、前記基板上にＴＦＴ層を形成する工程と、前記ＴＦＴ層の上方に平坦化膜を形成する工程と、前記平坦化膜の上方に形成される電極層と前記ＴＦＴ層とのコンタクト用の孔であるコンタクトホールを前記平坦化膜に形成するコンタクトホール形成工程と、有機ＥＬ素子形成領域を区画する開口部を複数個にわたり行列方向に配列し、このうち列方向に配列された前記複数個の開口部間に前記コンタクトホールが配置されるように、少なくとも表面が撥液性のバンクを前記平坦化膜の上方に形成し、前記コンタクトホールの上方を覆う前記バンクの上面に前記コンタクトホールの窪みに追従させて窪み部を形成する、複数のノズルを配置したインクジェットヘッドと前記基板を相対移動させながら、一開口部に対し前記複数のノズルの中の所定数のノズルから有機材料及び溶媒を含む液滴を吐出し、溶媒を蒸発乾燥させて前記一開口部内に発光層を形成する発光層形成工程と、を含み、発光層形成工程において、前記複数のノズルのうち、前記複数個の開口部間に位置するノズルから、前記液滴を前記窪み部に吐出することで、全ノズルから液滴を吐出するものとした。

本発明の有機ＥＬ表示パネルの製造方法では、基板上に列方向に配列された各開口部の間におけるバンクの上面に窪み部を設け、発光層及び窪み部形成工程において、当該窪み部に発光層の材料である有機材料と溶媒を含む液滴を吐出する。この窪み部に滴下された液滴中の溶媒を開口部に滴下された液滴中の溶媒とともに蒸発させると、特に列方向で隣接する開口部の列方向両端部付近における溶媒の蒸気濃度が従来に比べて均一になる。その結果、均一な蒸気濃度の雰囲気で溶媒を乾燥させることで、膜厚のばらつきの小さい発光層を得ることができる。これによりパネル全体において、発光ムラの少ない良好な画像表示性能が期待できる。

また、発光層及び窪み部形成工程では、列方向で隣接する開口部に対し、インクジェットヘッドの複数のノズルのうちの所定のノズルから液滴を吐出するとともに、前記隣接する開口部の間に位置する窪み部にも、前記複数のノズルのうち、前記所定のノズルを除く他のノズルから液滴を吐出させるので、従来のように不吐出に設定するノズルが生じない。このように、基板上の窪み部をノズルのダミー打ちの孔に利用し、全てのノズルから液滴を吐出させることで、インクジェットヘッドのノズルが目詰まりを生じる問題を低減でき、優れた生産効率で有機ＥＬ表示パネルを製造することができる。

実施の形態１に係る有機ＥＬ表示パネルの構成を示す模式的な断面図である。 窪み部周辺の構成を示す模式的な拡大断面図である。 窪み部周辺の構成を示す模式的な拡大断面図である。 有機ＥＬ表示パネルの製造過程を示す図である。 インクジェット装置システムの一部構成を示す図である。 インクジェット装置システムの機能ブロック図である。 インクジェットヘッドの構成を示す断面図である。 有機ＥＬ表示パネルの製造過程を示す図である。 インクジェットヘッドと塗布対象基板の位置関係（横打ち時）を示す図である。 インクジェットヘッドと塗布対象基板の位置関係（縦打ち時）を示す図である。 インク塗布直後の様子を示すパネルの断面斜視図である。 実施の形態２に係る有機ＥＬ表示パネルの構成を示す模式的な断面図である。 インク塗布直後の様子を示すパネルの断面斜視図である。 実施の形態３に係る有機ＥＬ表示パネルの構成を示す模式的な断面図である。 窪み部周辺の構成を示す模式的な拡大断面図である。 有機ＥＬ表示パネルの製造過程を示す図である。 有機ＥＬ表示パネルの製造過程を示す図である。 インク塗布直後の様子を示すパネルの断面斜視図である。 有機ＥＬ表示パネルの従来の製造過程の問題を示す図である。 従来の問題（発光層の膜厚不均一）を示す図である。

＜発明の態様＞
本発明の一態様における有機ＥＬ表示パネルの製造方法は、基板を準備する工程と、前記基板上にＴＦＴ層を形成する工程と、前記ＴＦＴ層の上方に平坦化膜を形成する工程と、前記平坦化膜の上方に形成される電極層と前記ＴＦＴ層とのコンタクト用の孔であるコンタクトホールを前記平坦化膜に形成するコンタクトホール形成工程と、有機ＥＬ素子形成領域を区画する開口部を複数個にわたり行列方向に配列し、このうち列方向に配列された前記複数個の開口部間に前記コンタクトホールが配置されるように、少なくとも表面が撥液性のバンクを前記平坦化膜の上方に形成し、前記コンタクトホールの上方を覆う前記バンクの上面に前記コンタクトホールの窪みに追従させて窪み部を形成する、複数のノズルを配置したインクジェットヘッドと前記基板を相対移動させながら、一開口部に対し前記複数のノズルの中の所定数のノズルから有機材料及び溶媒を含む液滴を吐出し、溶媒を蒸発乾燥させて前記一開口部内に発光層を形成する発光層形成工程と、を含み、発光層形成工程において、前記複数のノズルのうち、前記複数個の開口部間に位置するノズルから、前記液滴を前記窪み部に吐出することで、全ノズルから液滴を吐出するものとする。

このように本発明では、列方向に配列された前記複数個の開口部間に前記コンタクトホールを設け、前記コンタクトホールの上方を覆う前記バンクの上面に前記コンタクトホールの窪みに追従させて窪み部を設け、各開口部と各窪み部の両方に、所定の有機材料及び溶媒を含む液滴を吐出し、溶媒を蒸発乾燥させる。これにより、特に列方向で隣接する開口部の列方向両端部付近において、溶媒の蒸気濃度が従来に比べて均一になる。従って溶媒を乾燥させると、前記開口部において均一な膜厚の発光層が形成され、均一な発光特性の有機ＥＬ素子を利用して、発光ムラが少ない良好な画像表示性能の有機ＥＬ表示パネルの製造を期待できる。

また、基板において、列方向で隣接する各開口部と、その間のバンク上面に形成された窪み部に対し、ともにインクジェットヘッドのノズルでインクを吐出することによって、従来のようにインクを不吐出に設定するノズルが生じない。このように基板上の窪み部を用いてノズルのダミー打ちを行うことで、インクジェットヘッドのノズルが目詰まりを生じる問題を低減でき、優れた生産効率で有機ＥＬ表示パネルを製造することができる。

また、本発明の別の態様として、上記バンク及び窪み部形成工程において、前記バンクの形成と前記窪み部の形成を同時に行うこともできる。この方法によれば、バンクのパターニングに合わせて効率よく窪み部を形成することができ、製造効率上、有利である。
また、本発明の別の態様として、基板を準備する工程と、前記基板上にＴＦＴ層を形成する工程と、前記ＴＦＴ層の上方に平坦化膜を形成する工程と、前記平坦化膜の上方に形成される電極層と前記ＴＦＴ層とのコンタクト用の孔であるコンタクトホールを前記平坦化膜に形成するコンタクトホール形成工程と、有機ＥＬ素子形成領域を区画する開口部を複数個にわたり行列方向に配列し、このうち列方向に配列された前記複数個の開口部間に前記コンタクトホールが配置されるように、少なくとも表面が撥液性のバンクを前記平坦化膜の上方に形成し、前記コンタクトホールの上方を覆う前記バンクの上面に前記コンタクトホールの窪みに追従させて窪み部を形成するバンク及び窪み部形成工程と、複数のノズルを配置したインクジェットヘッドにより、一開口部に対し前記複数のノズルの中の所定数のノズルから有機材料及び溶媒を含む液滴を吐出し、溶媒を蒸発乾燥させて前記一開口部内に発光層を形成する発光層形成工程と、を含み、発光層形成工程において、前記複数のノズルのうち、前記複数個の開口部間に位置するノズルから、前記液滴を前記窪み部に吐出するものとする。

このように、コンタクトホールの形状に合わせて窪み部を形成することで、ノズルの目詰まりを防止するために、基板上に孔や窪み部を別途設けるまでもなく、既存の基板上の形状を活用して窪み部を用いることができる。このため、発明の実現性が高く、コスト面及び製造効率の面において特に有効である。
また、このようにコンタクトホールの形状を利用した窪み部を利用しても、列方向で隣接する開口部において溶媒の蒸気濃度の均一化が図られ、均一な膜厚を有する発光層を形成できる。さらに、窪み部へもノズルから液滴を吐出することによって、インクジェットヘッドにおいて不吐出に設定するノズルを無くし、ノズルの目詰まりの問題を防止することもできる。

また、本発明の別の態様として、上記の場合においても、平坦化膜を形成する工程と、コンタクトホール形成工程とを同時に行うことができる。このようにすれば、平坦化膜のパターニングに合わせてコンタクトホールも形成でき、製造効率上、有効である。
また、本発明の別の態様として、コンタクトホール形成工程後バンク及び窪み部形成工程前において、前記平坦化膜の上方に電極層を形成することもできる。前記窪み部はバンクの上面に形成されるため、電極層は従来と同様に形成することができる。

ここで、本発明の別の態様として、前記一窪み部に対する前記液滴の総量を、前記一開口部に対する前記液滴の総量よりも少なくすることができる。このような工夫を行うことで、窪み部に使用するインク量の無駄をなくし、液滴のロスによるコストアップを抑制するほか、窪み部に吐出したインクが開口部に流れ込むおそれも防止することができる。
なお、前記液滴の総量の制御方法としては、本発明の別の態様として、前記一窪み部に吐出する液滴の吐出回数を、前記一開口部に吐出する液滴の吐出回数よりも少なくすることができる。この場合、インクジェットヘッドに対するパルス電圧の周波数を変更することで制御できる。

或いは、前記本発明の別の態様として、前記窪み部に吐出する一液滴当たりの吐出体積を、前記開口部に吐出する一液滴当たり吐出体積よりも小さくすることができる。この場合、インクジェットヘッドにおける各ノズルへの印加電圧を変化させることで制御できる。
また、本発明の別の態様として、バンク及び窪み部形成工程後、発光層形成工程前において、前記複数のノズルを配置したインクジェットヘッドにより、一開口部に対し前記複数のノズルの中の所定数のノズルから有機材料及び溶媒を含む液滴を吐出し、溶媒を蒸発乾燥させて、前記一開口部内に電荷輸送層を形成する電荷輸送層形成工程を含み、電荷輸送層形成工程において、前記複数のノズルのうち、前記複数個の開口部の間の位置に対応するノズルから、前記液滴を前記窪み部に吐出することもできる。この場合、電荷輸送層についても、有機材料及び溶媒を含む液滴を開口部及び窪み部に吐出し、溶媒を蒸発乾燥させて形成することにより、列方向に並ぶ開口部の溶媒の蒸気濃度の均一化を図れるで、均一な膜厚で電荷輸送層を形成し、有機ＥＬ表示パネルにおける良好な画像表示性能を期待することができる。

ここで液滴の塗布方法としては、本発明の別の態様として、前記インクジェットヘッドを、前記複数のノズルが前記列方向に配列された前記基板上の各開口部に対応して並ぶように配置し、当該インクジェットヘッドを行方向に移動させ、行列方向に配列された前記複数の開口部に前記液滴を吐出することができる。
この場合、列方向に隣接する開口部の間における窪み部に対しても液滴を塗布できるため、インクジェットヘッド上においてインクを吐出しないように設定するノズルが生じない。これにより、ノズルの目詰まりを効果的に防止することができる。

また、この場合、本発明の別の態様として、前記ノズルの各々が、列方向に沿って前記窪み部の各々の上方を通過するように、前記インクジェットヘッドを列方向に対して所定角度で配置することもできる。このようにヘッドを配置すれは、各窪み部に確実に液滴を吐出することが可能である。
また本発明の別の態様として、発光層形成工程において、前記所定角度に配置されたインクジェットヘッドにより前記液滴を吐出することもできる。これにより、基板上の開口部及び窪み部に対するインクジェットヘッドの各ノズルのピッチを正確に合わせることができる。

また、本発明の別の態様として、前記インクジェットヘッドを、前記複数のノズルが前記行方向に配列された前記基板上の各開口部に対応して並ぶように配置し、当該インクジェットヘッドを列方向に移動させ、行列方向に配列された前記複数の開口部に前記液滴を吐出することもできる。この方法によっても、列方向で隣接する開口部の間の窪み部に、各開口部ととともに液滴が吐出されるので、溶媒の蒸発濃度の均一化を図り、発光層の膜厚を均一にする効果が得られる。

また、本発明の別の態様として、前記窪み部の深さの値を、前記バンクの高さ値と同一またはこれより９５％以上の値とすることもできる。
或いは本発明の別の態様として、前記窪み部の深さの値を、前記バンクの高さ値より大きく前記コンタクトホールの深さ値よりも浅い値とすることもできる。
このように窪み部の深さはある程度自由に設定できるので、インクジェットヘッド側の設定と併せることで、窪み部中に吐出すべきインクの量を調整することが可能である。

また、本発明の別の態様における有機ＥＬ表示パネルは、基板と、前記基板上に形成されたＴＦＴ層と、前記ＴＦＴ層の上方に形成された平坦化膜とを有し、前記平坦化膜の上方には、一の有機ＥＬ素子形成領域を区画する開口部が行列方向に複数個にわたり配列するように、少なくとも表面が撥水性のバンクが形成され、前記列方向に配列された前記開口部間における前記バンクの上面には窪み部が形成され、前記各開口部と前記各窪み部には、ともに有機材料及び溶媒を含む液滴をインクジェットの複数のノズルから吐出し、液滴中の溶媒を蒸発乾燥させてなる層が配設され、このうち前記各開口部に配設された前記層が発光層であるものとした。これにより、特に列方向で隣接する開口部の列方向両端部付近において、前記液滴の蒸発乾燥時に溶媒の蒸気濃度が均一になり、各開口部において均一な膜厚の発光層が形成される。よって均一な発光特性の有機ＥＬ素子が形成され、発光ムラが少ない良好な画像表示性能の有機ＥＬ表示パネルが実現される。

また、本発明の別の態様における有機ＥＬ表示パネルは、基板と、前記基板上に形成されたＴＦＴ層と、前記ＴＦＴ層の上方に形成さけた平坦化膜と、平坦化膜の上方に形成された電極層を有し、前記電極層は、前記平坦化膜に形成されたコンタクトホールを通じて前記ＴＦＴ層と電気接続され、前記電極層の上方には、一の有機ＥＬ素子形成領域を区画する開口部が行列方向に複数個にわたり配列するように、少なくとも表面が撥水性のバンクが形成され、前記コンタクトホールの上方を覆う前記バンクの上面には前記コンタクトホールの窪みに追従する窪み部が形成され、前記各開口部と前記各窪み部には、ともに同一の有機材料からなる層が配設され、このうち前記各開口部に配設された前記層が発光層である
ものとした。

この構成によっても、特に列方向で隣接する開口部の列方向両端部付近において、前記液滴の蒸発乾燥時に溶媒の蒸気濃度が均一になり、各開口部において均一な膜厚の発光層が形成される。よって均一な発光特性の有機ＥＬ素子が形成され、発光ムラが少ない良好な画像表示性能の有機ＥＬ表示パネルが実現される。また、基板上に形成されるコンタクトホールの形状に合わせて窪み部を形成するため、インクジェットヘッドのダミー打ちのために別途、孔や窪み部を形成する必要がないため、比較的低コストで実施することができ、優れた実現性を有している。

＜実施の形態１＞
（有機ＥＬ表示パネル１００の構成）
図１は、本発明の実施の形態１に係る有機ＥＬ表示パネル１００の構成を模式的に示す断面図である。
当図に示される有機ＥＬ表示パネル１００では、ＲＧＢのいずれかの色に対応する発光層９を有する有機ＥＬ素子１１ａ〜１１ｃをサブピクセル（発光画素）とし、当該３つのサブピクセルの組み合わせを１画素（ピクセル）としている。各有機ＥＬ素子１１ａ〜１１ｃはパネル全体において行（Ｘ）方向及び列（Ｙ）方向にわたりマトリクス状に隣接配置されている。

なお、当然ながら有機ＥＬ素子１１ａ〜１１ｃを同色で発光させる構成とすることもできる。
ＴＦＴ基板１（以下、単に「基板１」と称する。）の片側主面には、ＴＦＴ配線部（ＴＦＴ層２）、平坦化膜４、下部電極６が順次積層されてなる。
下部電極６の上には、各有機ＥＬ素子形成領域（開口部１３）を区画するバンク７が形成される。開口部１３の内部には発光層９、上部電極（陰極）１０が順次積層形成される。

基板１は有機ＥＬ表示パネル１００におけるベース部分であり、無アルカリガラス、ソーダガラス、無蛍光ガラス、燐酸系ガラス、硼酸系ガラス、石英、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエチレン、ポリエステル、シリコーン系樹脂、又はアルミナ等の絶縁性材料のいずれかを用いて形成することができる。

当該基板１の表面には、パネル全体の各素子１１ａ〜１１ｃをアクティブマトリクス方式で駆動するためのＴＦＴ配線部（ＴＦＴ層２）が形成されている。ＴＦＴ層２の表面は絶縁性に優れる有機材料（平坦膜４）で被覆される。平坦膜４には、列（Ｙ）方向に沿って隣接する開口部１３の間の位置を、厚み方向（Ｚ方向）に沿って掘り下げることにより、円形の底面を持つ孔（コンタクトホール５）が形成されている。当該コンタクトホール５の内部で、ＴＦＴ層２は給電電極３において下部電極６と電気的に接続されている。

下部電極６は陽極であって、Ａｇ（銀）の他、例えばＡＰＣ（銀、パラジウム、銀の合金）、ＡＲＡ（銀、ルビジウム、金の合金）、ＭｏＣｒ（モリブデンとクロムの合金）、ＮｉＣｒ（ニッケルとクロムの合金）、等を用いて形成することができる。有機ＥＬ素子１１ａ〜１１ｃをトップエミッション型とする場合は、光反射性材料を用いることが好適である。

バンク７は、絶縁性の有機材料（例えばアクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ノボラック型フェノール樹脂等）からなり、少なくとも表面が撥水性を持つように形成されている。バンク７のパターンとしては、各有機ＥＬ素子形成領域（開口部１３）を取り囲むように、フォトリソグラフィー法等の方法に基づいて形成されている。バンク７は、全体的にはＸＹ平面またはＹＺ平面に沿った断面が台形の断面形状を有しているが、前記コンタクトホール５に対応する位置では、バンク材料がシュリンク（収縮）して落ち込んだ形状となる。これにより、コンタクトホール５に対応する位置のバンクには、その上面に窪み部８が形成されている。

下部電極６表面には、ＲＧＢのいずれかの色に対応する発光層９が形成される。発光層９は所定の有機材料を含むように構成されているが、その材料には公知材料が利用できる。たとえば特開平５−１６３４８８号公報に記載のオキシノイド化合物、ペリレン化合物、クマリン化合物、アザクマリン化合物、オキサゾール化合物、オキサジアゾール化合物、ペリノン化合物、ピロロピロール化合物、ナフタレン化合物、アントラセン化合物、フルオレン化合物、フルオランテン化合物、テトラセン化合物、ピレン化合物、コロネン化合物、キノロン化合物及びアザキノロン化合物、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、ローダミン化合物、クリセン化合物、フェナントレン化合物、シクロペンタジエン化合物、スチルベン化合物、ジフェニルキノン化合物、スチリル化合物、ブタジエン化合物、ジシアノメチレンピラン化合物、ジシアノメチレンチオピラン化合物、フルオレセイン化合物、ピリリウム化合物、チアピリリウム化合物、セレナピリリウム化合物、テルロピリリウム化合物、芳香族アルダジエン化合物、オリゴフェニレン化合物、チオキサンテン化合物、アンスラセン化合物、シアニン化合物、アクリジン化合物、８−ヒドロキシキノリン化合物の金属錯体、２−ビピリジン化合物の金属錯体、シッフ塩とＩＩＩ族金属との錯体、オキシン金属錯体、希土類錯体等の蛍光物質等を挙げることができる。

なお、パネル１００では、バンク７の窪み部８に上記発光層９の材料と同一のインクを吐出し、その溶媒を蒸発乾燥してなる有機層１２が形成されている。この有機層１２はパネル１００完成後に機能する構成要素ではないが、詳細を後述するように、インクジェット方式によるウェットプロセスにおいて、開口部１３とともに窪み部８にもインクを吐出することで、発光層９と同時に形成されたものである。

上部電極１０は陰極であって、例えばＩＴＯ、ＩＺＯ（酸化インジウム亜鉛）等で構成される。有機ＥＬ素子をトップエミッション型にする場合は、光透過性材料を用いることが好適である。
なお、当図には図示しないが、上部電極１０の上には公知の封止層が設けられる。封止層は、例えばＳｉＮ（窒化シリコン）、ＳｉＯＮ（酸窒化シリコン）等の材料で形成され、発光層９が水分や空気等に触れて劣化するのを抑制する。当該封止層も、有機ＥＬ素子をトップエミッション型にする場合は、光透過性材料で構成する。

以上の構成を有する有機ＥＬ表示パネル１００では、各有機ＥＬ素子１１ａ〜１１ｃの構成要素である発光層９が、窪み部８中の有機層１２とともに、インクジェット方式による同一の工程で有機材料及び溶媒を含むインクを塗布し、溶媒成分を蒸発・乾燥させて形成されている。開口部１３及び窪み部８の両方からインク中の溶媒を蒸発させることで、特に開口部１３の列（Ｙ）方向に沿った両端部付近における溶媒の拡散自由度が従来よりも低減され、溶媒の蒸発濃度の均一化が図られる。この効果により、各有機ＥＬ素子１１ａ〜１１ｃの発光層９は高度に均一な膜厚で形成され、筋ムラや面ムラ等、各種発光ムラの発生が抑制されている。その結果、有機ＥＬ素子１１ａ〜１１ｃを複数にわたり配設してなる有機ＥＬ表示パネル１００では、従来に比べて良好な画像表示性能を発揮させることが可能となっている。

なお、実施の形態１では、窪み部８に前記インクを塗布することで、製造工程で用いるインクジェットヘッドのノズルの目詰まりを防止する効果も奏される。以下、この効果も含め、本発明の有機ＥＬ表示パネルの製造方法を例示する。
（有機ＥＬ表示パネル１００の製造方法）
ここでは、先に有機ＥＬ表示パネル１００の全体的な製造方法を例示する。その後、製造方法中のウェットプロセスについて詳細を説明する。

まず、基板１を準備し、スパッタ成膜装置のチャンバー内に載置する。そしてチャンバー内に所定のスパッタガスを導入し、反応性スパッタ法に基づき、ＴＦＴ層２及び給電電極３を形成する（図４（ａ））。
その後、フォトレジスト法に基づき、ＴＦＴ層２及び給電電極３の上に絶縁性に優れる公知の有機材料を用いて、厚み約４μｍの平坦化膜４を形成する（図４（ｂ））。このとき、後に平坦化膜４の上に形成する下部電極６と給電電極３とを電気接続するためのコンタクトホール５を、列（Ｙ）方向で隣接する各開口部１３の間の位置に合わせて形成する。所望のパターンマスクを用いたフォトレジスト法を実施することで、平坦化膜４とコンタクトホール５を同時に形成することができる。なお、当然ながらコンタクトホール５の形成方法はこれに限定されない。例えば、一様に平坦化膜４を形成した後、所定の位置の平坦化膜４を除去して、コンタクトホール５を形成することもできる。

続いて、平坦化膜４の上に、真空蒸着法またはスパッタ法に基づき、厚み５０ｎｍ程度の金属材料からなる下部電極６を、前記給電電極３と電気接続させつつ、所望のパターン（例えば各有機ＥＬ素子形成領域毎）に形成する（図４（ｃ））。
次に、ホール注入層４を反応性スパッタ法で成膜する。具体的には、モリブデンやタングステン等の金属材料をスパッタ源（ターゲット）として用い、スパッタガスとしてアルゴンガス、反応性ガスとして酸素ガスをそれぞれチャンバー内に導入する。これにより、モリブデンやタングステンの酸化物からなるホール注入層４が形成される。

次に、バンク材料として、例えば感光性のレジスト材料、もしくはフッ素系やアクリル系材料を含有するレジスト材料を用意し、フォトレジスト法に基づいてバンク７及び窪み部８を形成する。すなわち、バンク材料を下部電極６上に一様に塗布し、その上にフォトレジストを重ねて塗布する。この上に、形成するバンク７のパターンに合わせたマスクを重ねる。このマスクとしては、公知のハーフトーンマスクが利用できる。続いてマスクの上から感光させ、レジストパターンを形成する。その後は、余分なバンク材料及び未硬化のフォトレジストを水系もしくは非水系エッチング液（剥離剤）で洗い出す。これにより、バンク材料のパターニングが完了する。その後、パターニングされたバンク材料の上のフォトレジスト（レジスト残渣）を純水で洗浄して除去する。以上で有機ＥＬ素子形成領域に開口部１３、列（Ｙ）方向で隣接する開口部１３の間の上面に窪み部８を有する、表面が少なくとも撥水性のバンク７が完成する（図４（ｄ））。本実施の形態１のように、コンタクトホール５を形成する場合、通常はバンク材料がコンタクトホール５の内部にシュリンクするため、窪み部８が自然に形成される。このため、別途窪み部８を形成するための工程が不要であり、生産コスト及び製造効率上において有利である。

なお、図２の拡大断面図に示すように、窪み部８の深さＤ１はバンク７の高さＨよりも深くすることが好適である。こうすることで、後に窪み部８に吐出するインクの量を豊富にでき、比較的長時間にわたり、インク中の溶媒の蒸発濃度の均一化を図ることができる。
一方、図３の拡大断面図に示すように、窪み部８の深さＤ２をバンク７の高さＨと同一、または精度誤差を考慮して、高さＨの９５％以内の高さとすることもできる。このように深さＤ２の深さを比較的浅くすると、図２の構成とは反対に、窪み部８中の溶媒の蒸発時間を短くすることが可能である。

もちろん、窪み部８の深さはバンク７の高さよりもさらに浅くすることが可能である。いずれの深さで窪み部８を形成する場合も、公知の材料の中からバンク材料を適宜選択する等の方法で深さの設定が可能である。
なお、バンク７の形成工程では、さらに、開口部１３に塗布するインクに対するバンク７の接触角を調節したり、少なくとも表面に撥水性を付与するために、バンク７の表面を所定のアルカリ性溶液や水、有機溶媒等によって表面処理するか、プラズマ処理を施してもよい。

次に、発光層材料である有機材料と溶媒を所定比率で混合し、インクを調整する。このインクを、後述するインクジェット装置システム１０００のインクジェットヘッド３０に供給する。公知のインクジェット方式によるウェットプロセスに基づき、各々の開口部１３及び窪み部８に塗布する（図８（ｅ））。
ここで図１１は、前記ウェットプロセスにより基板側に前記インクを塗布した直後の様子を示す部分斜視図である。当図では基板上において、行列（ＸＹ）方向に二次元的に開口部１３をなすとともに、列（Ｙ）方向に隣接する開口部１３の間に窪み部８を設けるようにバンク７を形成した後、各開口部１３及び各窪み部８にインクを滴下して塗布し、インク溜まり９ｘ、１２ｘを形成した様子を示す。各インク溜まり９ｘ、１２ｘは、いずれも高速で各開口部１３及び各窪み部８に複数のインクの液滴を滴下し、その液滴の総和で形成されている。このようなインク溜まり９ｘ、１２ｘの溶媒を蒸発させて乾燥させると発光層９及び有機層１２が形成される（図８（ｆ））。

次に、発光層９の表面に、ＩＴＯ、ＩＺＯ等の材料を用い、真空蒸着法で成膜する。これにより上部電極１０が形成される（図８（ｇ））。
なお、上部電極１０の表面には、ＳｉＮ（窒化シリコン）、ＳｉＯＮ（酸窒化シリコン）等の材料を真空蒸着法で成膜することで、封止層を形成する。
以上の工程を経ることにより全ての有機ＥＬ素子１１ａ〜１１ｃが形成され、有機ＥＬ表示パネル１００が完成する。

（インクジェット装置システム１０００）
次に、前記ウェットプロセスで使用するインクジェット装置システム１０００について説明する。
図５は、インクジェット装置システム（以下、「システム」と称する。）１０００の主要構成を示す図である。図６は、システム１０００の機能ブロック図である。

図３に示すように、システム１０００は、インクジェットテーブル２０、インクジェットヘッド３０、制御装置（ＰＣ）１５等で構成される。
制御装置１５は、ＣＰＵ１５０、記憶手段１５１（ＨＤＤ等の大容量記憶手段を含む）、表示手段（ディスプレイ）１５３、入力手段１５２で構成される。当該制御装置１５は、具体的にはパーソナルコンピューター（ＰＣ）を用いることができる。記憶手段１５１には、制御装置１５に接続されたインクジェットテーブル２０を駆動するための各制御プログラムが格納されている。システム１０００の駆動時には、ＣＰＵ１５０が入力手段１５２を通じてオペレータにより入力された指示と、前記記憶手段１５１に格納された各制御プログラムに基づいて所定の制御を行う。

なお、ここには示さないが、当該システム１０００にはインクジェットヘッド３０のインクの液滴を確認するための公知の液滴観察装置がＣＰＵ１５０に制御可能に接続されることもある。
（インクジェットテーブル２０）
インクジェットテーブル２０は、いわゆるガントリー式の作業テーブルであって、基台のテーブルの上をガントリー部（移動架台）が一対のガイドシャフトに沿って移動可能に配されている。

具体的構成として、板状の基台２００には、その上面の四隅に柱状のスタンド２０１Ａ、２０１Ｂ、２０２Ａ、２０２Ｂが配設されている。これらのスタンド２０１Ａ、２０１Ｂ、２０２Ａ、２０２Ｂに囲まれた内側領域には、バンク７及び窪み部８を形成した基板（塗布対象基板）を載置するための固定ステージＳＴと、塗布直前にインクを吐出させて安定化するために用いるインクパン（皿状容器）６０がそれぞれ配設されている。

また基台２００には、その長手（Ｙ）方向に沿った一対の両側部に沿って、ガイドシャフト２０３Ａ、２０３Ｂが前記スタンド２０１Ａ、２０１Ｂ、２０２Ａ、２０２Ｂにより平行に軸支されている。各々のガイドシャフト２０３Ａ、２０３Ｂにはリニアモーター２０４、２０５が挿通され、当該リニアモーター２０４、２０５に基台２０を横断するようにガントリー部２１０が搭載されている。この構成により、システム１０００の駆動時には、一対のリニアモーター２０４、２０５が駆動されることで、ガントリー部２１０がガイドシャフト２０３Ａ、２０３Ｂの長手方向に沿って、スライド自在に往復運動する。

ガントリー部２１０には、Ｌ字型の台座からなる移動体（キャリッジ）２２０が配設される。移動体２２０にはサーボモーター（移動体モーター）２２１が配設され、各モーターの軸の先端に不図示のギヤが配されている。ギヤはガントリー部２１０の長手方向（Ｘ方向）に沿って形成されたガイド溝２１１に嵌合される。ガイド溝２１１の内部にはそれぞれ長手方向に沿って微細なラックが形成され、前記ギヤは当該ラックと噛合しているので、サーボモーター２２１が駆動すると、移動体２２０はいわゆるピニオンラック機構によって、Ｘ方向に沿って往復自在に精密に移動する。移動体２２０にはインクジェットヘッド３０が装備される。

なお、図６に示すようにリニアモーター２０４、２０５、サーボモーター２２１は、機能ブロックとして表わすと、それぞれ直接駆動を制御するための制御部２０６に接続され、当該制御部２０６は制御装置１５内のＣＰＵ１５０に接続される。システム１０００の駆動時には、制御プログラムを読み込んだＣＰＵ１５０により、制御部２０６を介してリニアモーター２０４、２０５、サーボモーター２２１の各駆動が制御される。

また、リニアモーター２０４、２０５、サーボモーター２２１はそれぞれガントリー部２１０、移動体２２０の移動手段の例示にすぎず、これらの利用は必須ではない。例えばタイミングベルト機構やボールネジ機構を利用してガントリー部または移動体の少なくともいずれかを移動させてもよい。
（インクジェットヘッド３０）
インクジェットヘッド３０は公知のピエゾ方式を採用し、図５に示すヘッド部３０１及び本体部３０２と、図６に示す制御部３００で構成されている。本体部３０２にはサーボモーター３０３が内蔵され、インクジェットヘッド３０は移動体２２０に対し、この本体部３０２において固定されている。ヘッド部３０１は図５に示すように直方体の外観形状を有し、その上面中央部付近において本体部３０２のサーボモーター３０３の軸先端から垂下されている。これにより、当該ヘッド部３０１の底面に形成された複数のノズル３０３０（図７参照）が、サーボモーター３０３の軸回転に応じて固定ステージＳＴと所定の角度で対向する。

図７はヘッド部３０１の内構成を示す断面図である。図７（ａ）は長手方向に沿った断面を示し、図７（ｂ）は（ａ）のＡ−Ａ‘矢視断面（短手方向断面）を示す。当図では、ヘッド部３０１において隣接して形成された５つのインク吐出機構部を部分的に示す（液室３０２０ａ〜３０２０ｅ、ノズル３０３０ａ〜３０３０ｅ、圧電素子３０１０ａ〜３０１０ｅ等）。

当図に示すように、ヘッド部３０１には長手方向に沿って、インクを吐出するためのインク吐出機構部が一定間隔毎に複数個（一例として１２８個）にわたり一列に形成されている。
各々のインク吐出機構部は、液室３０２０及びノズル３０３０が一体的に形成されたフレーム部３０５０に対し、前記液室３０２０を覆うように振動板３０４０が配設され、その上に圧電素子３０１０が積層されてなる。個々の圧電素子３０１０への電圧印加によって、インク吐出機構部はそれぞれ独立に駆動される。

フレーム部３０５０は、例えばＳＵＳ等の金属材料やセラミック材料で構成され、機械加工やエッチング、あるいは放電加工を施すことにより、内部に複数の液室３０２０及びノズル３０３０がそれぞれ形成されている。
液室３０２０は吐出される直前のインクを貯留する空間であって、圧電素子３０１０の駆動により可逆的に体積が縮小・復元する。隣接する液室３０２０同士は図７（ｂ）のように隔壁３０４０で区画されている。各々の液室３０２０の後部はインク流路３０６０と連通している。このインク流路３０６０には、ヘッド部３０１の外部に延出された輸液チューブＬ１（図５参照）が接続されている。システム１０００の駆動時にはこの輸液チューブＬ１を通じ、不図示のインクタンクからポンプの駆動圧力によりインク流路３０６０へインクが供給される。これにより液室３０２０はインクで密に満たされる。

ノズル３０３０はフレーム部３０５０の底面において、液室３０２０と連通するように一定のピッチで一列に形成されている。ここで、各々のノズル３０３０のピッチは構成的には一定であるが、固定ステージＳＴに対するサーボモーター３０３の軸の回転角度を調節することで、塗布対象基板に対するノズルピッチを調節することができる。ここでＣＰＵ１５０は、全てのノズル３０３０を開口部１３または窪み部８の上方を通過させるようにサーボモーター３０３を調節することで、不吐出ノズルを設定しないようにする。

なお、ノズル３０３０の配列は上記した１列に限定されず、複数列や、複数列で且つ千鳥状にノズル３０３０を形成することもできる。
また、インク流路３０６０も一つに限定されず、ヘッド部３０１の内部で複数にわたり形成してもよい。この場合、幾つかのインク吐出機構部をグループごとに分け、当該グループごとに別経路でインクを分けて供給する（例えば色や成分が異なるインクを供給する）ようにしてもよい。

振動板３０４０は、ステンレスやニッケルからなる薄板であり、上に積層された圧電素子とともに変形可能に配設されている。
圧電素子３０１０は公知のピエゾ素子であって、例えばチタン酸ジルコン酸鉛等からなる板状の圧電体を一対の電極で挟設した積層体の構成を持つ。一対の電極への通電は、図６に示すように制御部３００を介してＣＰＵ１５０に管理され、記憶手段１５１に格納された所定の制御プログラムに基づき、間欠的にインクが吐出される。具体的には前記一対の電極に対し、数百Ｈｚの駆動周波数で数百μｓ幅の矩形パルス電圧が印加される。この各々の矩形パルス電圧の立ち上がり時に合わせて圧電素子３０１０が変形し、これに伴って振動板３０４０は液室３０２０の体積が減少または復元するように変形する。この体積減少時にインクがノズル３０３０から吐出される。なお、前記パルス電圧の波形は矩形に限定されず、ステップ状や一部曲線状を持つ形でもよい。

駆動時には、ＣＰＵ１５０が所定の制御プログラムを記憶手段１５１から読み出し、制御部３００に対して各圧電素子３０１０にいずれのパルス電圧値または駆動周波数で電圧印加を行うかを指示する。通常の初期設定では、各ノズル３０３０は、例えば液滴速度（液滴が塗布対象面に到達するまでの速度）が揃うように設定される。
さらにＣＰＵ１５０は、塗布対象基板が開口部１３または窪み部８のそれぞれに対応して、ノズル３０３０より吐出するインクの量（吐出体積）を調節する。通常、塗布対象基板上の開口部１３の体積は、窪み部８への体積よりも大きい。従って開口部１３への吐出体積は、窪み部８への吐出体積よりも多く設定する。

従って、ＣＰＵ１５０が行う各ノズル３０３０の吐出体積の調節方法としては、第一の方法として、各ノズル３０３０の一回の吐出体積（一液滴の体積）をそれぞれ均一に設定した上で、パルス電圧の駆動周波数を調節することにより、開口部１３への吐出回数を、窪み部８への吐出回数よりも多くなるように設定することができる。また、パルス電圧の駆動周波数を一定にし、塗布対象基板に対するインクジェットヘッド３０の相対移動速度を開口部１３上では遅く、窪み部８上では速くなるように調節することで、開口部１３または窪み部８へのインクの吐出回数を調節することも可能である。

或いは第二の方法として、開口部１３または窪み部８への吐出回数を同一に設定した上で、パルス電圧値を調節することにより、各ノズル３０３０の一回の吐出体積（一液滴の体積）を、開口部１３については多く、窪み部８については少なくなるように、それぞれ調節することも可能である。
また、当然ながら、上記第一の方法（吐出回数制御）及び第二の方法（液滴体積制御）を組み合わせて吐出体積の調整を行うこともできる。

このような開口部１３と窪み部８へのインクの各吐出体積の調節を行うことで、窪み部８に塗布するインクがあふれ出て開口部１３側に流れ込む問題を防ぐことができるほか、無駄なインクの使用を避け、コストアップを防止する効果も期待できる。
（システム動作について）
以上の構成を有するシステム１０００を用い、インクジェット方式によるウェットプロセスを行う場合、まずオペレータは、入力手段１５２を操作し、塗布対象基板に対し、行（Ｘ）方向または列（Ｙ）方向のいずれの方向に沿ってインクジェットヘッド３０を走査して塗布を実行するかを設定する。ここでは、まず行（Ｘ）方向に沿って塗布を行う（いわゆる横打ちを行う）場合を説明する。オペレータからの入力情報に基づき、ＣＰＵ１５０は制御部３００を介し、サーボモーター３０３を一定角度に回転駆動させて、固定ステージＳＴに対するヘッド部３０１の角度を設定する。ここで図９は、横打ちを実施する際のインクジェットヘッド３０と塗布対象基板との配置関係を示す図である。この図９の例では、ヘッド部３０１の長手方向をＹ方向に対して若干傾斜させることで、ノズル３０３０の塗布ピッチを狭く調節し、全てのノズル３０３０が開口部１３または窪み部８の上方を通過するように（言い換えると、不吐出ノズルを設定しないように）調整し、開口部１３または窪み部８へ確実にインクの塗布を行う。塗布対象基板に対するインクジェットヘッド３０の角度調整は、当該基板の規格やサイズに合わせて適宜行う。

なお、インクジェットヘッド３０の角度調整はインクを実際に塗布する前のいずれかのタイミングに行えばよい。
続いてオペレータは、インクタンクに組成を調整したインクを貯留させ、ポンプを起動させる。これにより輸液チューブＬ１を通してインクをヘッド部３０１内の液室３０２０に密に充填させる。

次にオペレータは制御装置１５を操作し、ヘッド部３０１をインクパン６０の上に移動させる。この状態でＣＰＵ１５０は制御部３００を介し、各圧電素子３０１０に電圧印加し、全ノズル３０３０からインクパン６０にインクを吐出させる。
なお、システム１０００において液滴観察装置を用いる場合は、このときノズル３０３０から吐出されるインクの状態をＣＣＤカメラで撮影し、ＣＰＵ１５０によりリアルタイムで表示手段１５３に表示することができる。オペレータは表示手段１５３で全てのノズルから正しくインクが吐出されているかを確認し、インクの吐出が安定化するまで吐出を継続させるようにＣＰＵ１５０に指示する。

次にＣＰＵ１５０は、記憶手段１５１に格納された前記制御プログラムに基づき、全ノズル３０３０から吐出されるインクの液滴速度が一定になるように、各ノズル３０３０の印加電圧値を予め定められた電圧（初期電圧）にそれぞれ初期設定する。設定が完了すると、ＣＰＵ１５０は図９のように、パルス電圧を印加して間欠的にインクを吐出させながら、インクジェットヘッド３０（図中ではヘッド部３０１）を行（Ｘ）方向に走査し、各開口部１３及び各窪み部８へ各所定量のインクを塗布する。

ここで、行（Ｘ）方向に沿った各々の開口部１３への塗布は、いずれかのグループａ１、ａ２、・・・に属する、隣接する複数のノズル３０３０によって行う。この場合、各グループ間のノズル３０３０（ｂ１、ｂ２、・・・）は開口部１３への塗布には用いないが、実施の形態１では、行（Ｘ）方向に沿った各ラインｌ１、ｌ２、・・・上に配列されている各窪み部８への塗布にノズル３０３０（ｂ１、ｂ２、・・・）を用いる点に特徴がある。このように、インクジェットヘッド３０における全てのノズル３０３０を開口部１３又は窪み部８への塗布に用い、不吐出に設定するノズルを無くすことで、ノズル３０３０の目詰まりの防止を期待できる。

次に、インクジェットヘッド３０を列（Ｙ）方向に沿って走査させてインクを塗布する（いわゆる縦打ちを行う）場合を説明する。図１０は、縦打ちを実施する際のインクジェットヘッド３０と基板との配置関係を示す図である。縦打ちの場合、インクジェットヘッド３０の角度を調整することにより、全てのノズル３０３０の位置がそれぞれ隣接する行（Ｘ）方向に沿ったラインＬ１、Ｌ２、・・・上に配列されている各開口部１３の位置と漏れなく対応する。そして、各ノズル３０３０は列（Ｙ）方向に走査されることで、開口部１３及び窪み部８の両方に交互に複数のインク液滴を滴下する。

この縦打ちの場合、列（Ｙ）方向に沿って、ノズル３０３０から間欠的にインクを吐出するが、各開口部１３の間の窪み部８にもインクを吐出するため、従来に比べて各ノズル３０３０のインクの吐出を停止させる時間が短い。従って、この場合も各ノズル３０３０のインクの目詰まりを効果的に防止することができる。
上記のようにインクを塗布した後、図１１に示す各開口部１３及び各窪み部８中のインク溜まり９ｘ、１２ｘは、乾燥雰囲気中に載置されて溶媒を蒸発乾燥される。このとき、列（Ｙ）方向で隣接する開口部１３では、窪み部８中に存在するインク溜まり１２ｘの溶媒が蒸発することによって、各開口部１３の中央領域から列（Ｙ）方向両端部付近にかけ、比較的均一な溶媒の蒸発濃度の雰囲気が形成されて乾燥が進む。このため図１９に示した従来の不均一な溶媒の蒸発濃度下で乾燥が進む問題を防止し、特に開口部１３の列（Ｙ）方向両端部付近における膜厚が盛り上がるのを抑制することで、全体として膜厚が均一に調整された発光層９を得ることができる。

なお、行（Ｘ）方向に沿った溶媒の乾燥については、もともと隣接する開口部１３同士が列（Ｙ）方向に比べて近接しているため、乾燥によって形成される膜厚のばらつきが生じる問題は小さいものの、上記のように溶媒の蒸発濃度の均一化を図ることで、より均一な膜厚の調整が図れることを期待できる。
次にインクの吐出量について例示する。図３のように、バンク７の高さＨを１μｍ程度とし、窪み部８の底面の直径を約２０μｍ、窪み部８の深さＤ２を１μｍ程度にそれぞれ設定する場合、窪み部８へのインク量はその頂部が底面から高さ１５μｍ程度に盛り上がる程度に調整する。この場合、インク中の溶媒が完全に乾燥し、インクの体積がシュリンクすることによって、およそ５０〜１００ｎｍ程度の膜厚の有機層１２が形成される。ここで、窪み部８の形に追随させてインクをシュリンクさせるには、アクリル樹脂成分を含むインクを用いると好適であることが分かっている。

以上のように、実施の形態１では、バンク７の上面に形成された窪み部８に発光層９の材料と同一のインクを滴下することで、均一な膜厚の発光層９を形成し、良好な画像表示性能を発揮できる有機ＥＬ表示パネル１００が得られる。また、この効果に加え、インクジェットヘッド３０におけるノズル３０３０の目詰まりを防止し、良好な生産効率で前記有機ＥＬ表示パネルを製造することが可能になっている。

また、実施の形態１では、コンタクトホール５の位置に対応して形成される既存の構成である、バンク７の上面の窪み（窪み部８）を利用し、これをノズル３０３０のダミー打ち用の構造物として活用する。従って、バンク７上に別途、ダミー打ちを行うための窪み部や凹部、孔等を設ける必要がないため、比較的低コストで実現が可能であり、良好な実現性を有するものである。

次に、本発明の別の実施の形態について、実施の形態１との差異を中心に説明する。
＜実施の形態２＞
図１２は、実施の形態２における有機ＥＬ表示パネル１００Ａの構成を示す模式的な断面図である。
有機ＥＬ表示パネル１００Ａでは、発光層９の下に、キャリアを良好に発光層９側に輸送して発光効率を高めるための電荷輸送層９ａを配設する。この電荷輸送層９ａも、発光層９と同様にウェットプロセスで形成されたものである。すなわち電荷輸送層９ａは、所定の有機材料（例えばバリウム、フタロシアニン、フッ化リチウム、或いはこれらのいずれかの組み合わせ）と溶媒を含むインクを滴下し、列（Ｙ）方向に沿った溶媒蒸気濃度を均一に調整することで、良好な均一性を有する膜厚で構成されたものである。この電荷輸送層９ａを形成した後、その上に実施の形態１と同じ要領で発光層９が形成されている。

この有機ＥＬ表示パネル１００Ａの製造工程は基本的に有機ＥＬ表示パネル１００と同じであるが、電荷輸送層９ａ及び発光層９の各形成工程において、インクジェット方式による所定のウェットプロセスを実施し、開口部１３及び窪み部８に所定のインクを塗布した後、インクの溶媒を蒸発乾燥させて各層を得ている。
ここで図１３は、発光層９についてのウェットプロセスを実施した直後のパネルの様子を示す斜視図である。この例でも実施の形態１と同様の原理により、列（Ｙ）方向に沿った各開口部１３において、インク乾燥時における溶媒の蒸気濃度の均一化が図られ、膜厚の均一な電荷輸送層９ａ及び発光層９が形成される。このため、有機ＥＬ表示パネル１００Ａ全体では発光ムラの少ない有機ＥＬ素子１１ａ〜１１ｃを用いることで、優れた画像表示性能が発揮される。また、インクジェットヘッド３０におけるノズル３０３０の目詰まりも、実施の形態１と同様に良好に防止され、生産効率の維持向上を期待することができる。
＜実施の形態３＞
図１４は、実施の形態３における有機ＥＬ表示パネル１００Ｂの構成を示す模式的な断面図である。

この有機ＥＬ表示パネル１００Ｂでは、コンタクトホール５を形成しないので、バンク７の窪み部８はバンク７の形状のみを調整して構成される。ここでは図１５に示すように、窪み部８の深さＤ３は、バンク７の高さＨと同等に調整されているが、深さＤ３は高さＨに対して浅く、或いは深くなるように設定することもできる。
このような構成においても、発光層９の形成工程におけるインクジェット方式によるウェットプロセスにおいて、開口部１３及び窪み部８に同じインクを滴下することで、インクの乾燥時における溶媒の蒸気濃度の均一化が図られ、均一な膜厚の発光層９を形成できる。

また、窪み部８にもインクをダミー打ちすることで、インクジェットヘッド３０からインクが吐出されないノズル３０３０が生じるのを避けられるため、ノズル３０３０の目詰まりを防止し、良好な生産効率を期待することもできる。
このように本発明は、コンタクトホール５を利用しない（もしくはコンタクトホール５を形成しない）構成の有機ＥＬ表示パネル１００Ｂにおいても、バンク７の上面に窪み部８を形成することで適用が可能である。

次に、有機ＥＬ表示パネル１００Ｂの製造工程を順次説明する。
まず、実施の形態１と同様の要領で基板１の表面にＴＦＴ層２を形成し（図１６（ａ））、その表面に一様に平坦化膜４を形成する（図１６（ｂ））。さらに、平坦化膜４の表面に沿って、所定のパターンで下部電極６を構成する（図１６（ｃ））。
次に、フォトレジスト法に基づき、開口部１３及び窪み部８を設けるように、バンク７を形成する。本実施の形態３では、窪み部８をバンク７のパターニングだけで形成する。従って、ハーフトーンマスク等を用い、列（Ｙ）方向で隣接する開口部１３の間のバンク７の上面に窪み部８を形成する（図１６（ｄ））。このように、窪み部８は、実際にはコンタクトホール５を利用しなくてもハーフトーンマスク等の利用によって比較的簡単に形成できるため、実施の形態３は実施の形態１に比べても遜色のない良好な実現性を有している。

続いて、実施の形態１と同様に、システム１０００を用い、ウェットプロセスで各開口部１３及び各窪み部８にインクを滴下する（図１７（ｅ））。図１８は、開口部１３及び窪み部８にインク溜まり９ｘ、１２ｘが形成された様子を示す、パネルの部分斜視図である。前記インクを乾燥させる際には、実施の形態１または２と同様に、列（Ｙ）方向で隣接する開口部１３の間の窪み部８において溶媒が蒸発することで、溶媒の蒸気濃度の均一化を図り、均一な膜厚の発光層９を形成することができる（図１７（ｆ））。

発光層９を形成した後は、その上に上部電極１０を形成し（図１７（ｇ））、図示しない封止層を積層すると、有機ＥＬ表示パネル１００Ｂが完成する。
なお、実施の形態３においても、実施の形態２の構成と製造方法に従い、膜厚が均一な電荷輸送層９ａを設け、その上に発光層９を設けてもよい。
＜その他の事項＞
上記実施の形態では、作業テーブルとしてインクジェットテーブル２０を用いる例を示したが、本発明はこれに限定しない。例えばインクジェットヘッド３０の各位置を固定し、塗布対象基板をＸＹテーブルに載置して、前記インクジェットヘッド３０に対して相対的に塗布対象基板を移動させることにより、インクを塗布することもできる。

本発明は、携帯電話用のディスプレイやテレビなどの表示素子、各種光源などに使用される有機ＥＬ素子及びこれを利用した有機ＥＬ表示パネルとその製造方法として利用可能である。いずれの用途においても、表示ムラの少ない良好な発光特性または画像表示性能を発揮することのできる有機ＥＬ素子や有機ＥＬ表示パネルを期待することが可能である。

１ 基板
２ ＴＦＴ層
３ 給電電極
４ 平坦化膜
５ コンタクトホール
６ 下部電極（陽極）
７ バンク
８ 窪み部
９ｘ、１２ｘ インク溜まり部
９ 発光層
１０ 上部電極（陰極）
１１ａ〜１１ｃ 有機ＥＬ素子（サブピクセル）
１２ 発光層材料からなる有機層
１２ａ ホール輸送層材料からなる有機層
１３ 開口部（有機ＥＬ素子形成領域）
１５ 制御装置
２０ インクジェットテーブル
３０ インクジェットヘッド
１００、１００Ａ、１００Ｂ 有機ＥＬ表示パネル
１５０ ＣＰＵ
１５１ 記憶手段（メモリ）
１５２ 表示手段（ディスプレイ）
２００ 基台
２０６、３００ 制御部
２１０ ガントリー部
２２０ 移動体
３０１ ヘッド部
３０２ 本体部
３０３ サーボモーター
１０００ インクジェット装置システム
３０１０、３０１０ａ〜３０１０ｅ 圧電素子（ピエゾ素子）
３０２０、３０２０ａ〜３０２０ｅ 液室
３０３０、３０３０ｂ〜３０３０ｄ ノズル
３０５０ フレーム部
３０６０ インク流路

Claims (13)

1. 基板を準備する工程と、
   前記基板上にＴＦＴ層を形成する工程と、
   前記ＴＦＴ層の上方に平坦化膜を形成する工程と、
   前記平坦化膜の上方に形成される電極層と前記ＴＦＴ層とのコンタクト用の孔であるコンタクトホールを前記平坦化膜に形成するコンタクトホール形成工程と、
   有機ＥＬ素子形成領域を区画する開口部を複数個にわたり行列方向に配列し、このうち列方向に配列された前記複数個の開口部間に前記コンタクトホールが配置されるように、少なくとも表面が撥液性のバンクを前記平坦化膜の上方に形成し、前記コンタクトホールの上方を覆う前記バンクの上面に前記コンタクトホールの窪みに追従させて窪み部を形成するバンク及び窪み部形成工程と、
   複数のノズルを配置したインクジェットヘッドと前記基板を相対移動させながら、一開口部に対し前記複数のノズルの中の所定数のノズルから有機材料及び溶媒を含む液滴を吐出し、溶媒を蒸発乾燥させて前記一開口部内に発光層を形成する発光層形成工程と、を含み、
   バンク及び窪み部形成工程において、前記窪み部の底面を前記電極層の上面よりも下側に形成し、
   発光層形成工程において、前記複数のノズルのうち、前記複数個の開口部間に位置するノズルから、前記液滴を前記窪み部に吐出することで、全ノズルから液滴を吐出する
   有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
2. 平坦化膜を形成する工程と、コンタクトホール形成工程とを同時に行う、
   請求項１記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
3. コンタクトホール形成工程後バンク及び窪み部形成工程前において、前記平坦化膜の上方に電極層を形成する、
   請求項１記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
4. 前記一窪み部に対する前記液滴の総量を、前記一開口部に対する前記液滴の総量よりも少なくする、
   請求項１〜３のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
5. 前記一窪み部に吐出する液滴の吐出回数を、前記一開口部に吐出する液滴の吐出回数よりも少なくする、
   請求項４に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
6. 前記窪み部に吐出する一液滴当たりの吐出体積を、前記開口部に吐出する一液滴当たり吐出体積よりも小さくする、
   請求項４に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
7. バンク及び窪み部形成工程後、発光層形成工程前において、 前記複数のノズルを配置したインクジェットヘッドにより、一開口部に対し前記複数のノズルの中の所定数のノズルから有機材料及び溶媒を含む液滴を吐出し、溶媒を蒸発乾燥させて、前記一開口部内に電荷輸送層を形成する電荷輸送層形成工程を含み、
   電荷輸送層形成工程において、前記複数のノズルのうち、前記複数個の開口部の間の位置に対応するノズルから、前記液滴を前記窪み部に吐出する、
   請求項１〜６のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
8. 前記インクジェットヘッドを、前記複数のノズルが前記列方向に配列された前記基板上の各開口部に対応して並ぶように配置し、
   当該インクジェットヘッドを行方向に移動させ、行列方向に配列された前記複数の開口部に前記液滴を吐出する、
   請求項１〜７のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
9. 前記ノズルの各々が、列方向に沿って前記窪み部の各々の上方を通過するように、前記インクジェットヘッドを列方向に対して所定角度で配置する、
   請求項８に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
10. 発光層形成工程において、前記所定角度に配置されたインクジェットヘッドにより前記液滴を吐出する、
    請求項９に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
11. 前記インクジェットヘッドを、前記複数のノズルが前記行方向に配列された前記基板上の各開口部に対応して並ぶように配置し、当該インクジェットヘッドを列方向に移動させ、行列方向に配列された前記複数の開口部に前記液滴を吐出する、
    請求項１〜７のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
12. 前記バンクおよび窪み部形成工程では、前記窪み部の深さを前記バンクの高さよりも大きくなるように形成する、
    請求項１記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
13. 前記バンクおよび窪み部形成工程では、前記窪み部の深さを前記バンクの高さよりも小さくなるように形成する、
    請求項１記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。

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