JP6142324B2 - 有機ｅｌ表示パネルとその製造方法 - Google Patents

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Description

本発明は、電気的発光素子である有機電界発光素子（以下「有機ＥＬ素子」と称する。）を用いた有機ＥＬ表示パネルとその製造方法に関する。本発明は特にインクジェットヘッドを用いた塗布技術に関する。
有機ＥＬ素子は電流駆動型の発光素子であり、陽極と陰極の一対の電極対の間に有機発光層が配設された基本構造を有する。駆動時には一対の電極対間に電圧印加し、陽極側から注入したホールと、陰極側から注入した電子とを有機発光層中で再結合させ、この際に発生する電界発光現象を利用する。有機ＥＬ素子は自己発光するので視認性が高い。また完全固体素子であるため、耐衝撃性に優れるなどの特徴を有する。
有機ＥＬ素子の種類として、高分子材料や薄膜形成性の良い低分子材料を含むインクをウェットプロセス（塗布工程）で塗布し、インクを乾燥させて有機発光層や電荷注入層を形成する塗布型有機ＥＬ素子がある。多数の塗布型有機ＥＬ素子を基板上に行列方向に配設してなる有機ＥＬ表示パネルが開発されている。ウェットプロセスとしてはインクジェット方式等の方式が存在する。
例えばインクジェット方式では、有機ＥＬ表示パネルの製造中間体（塗布対象基板）をテーブルに載置し、塗布対象基板に対してインクジェットヘッドを走査する。塗布対象基板上において、バンク層に区画されて存在する開口部（有機ＥＬ素子形成予定領域）に対し、有機発光材料或いは電荷注入材料と、溶媒等を含むインク液滴をインクジェットヘッドの複数のノズルより吐出する（特許文献１を参照）。インクジェットヘッドの駆動方式としては圧電素子でインクを吐出制御するピエゾ方式等の方式がある。
図１９（ｂ）は、従来の塗布工程における、塗布対象基板１００ＰＸとインクジェットヘッド３０との配置関係を示す部分拡大図である。図１９（ｂ）の１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂは開口部であり、塗布対象基板１００ＰＸ上で行（Ｘ）方向に繰り返して存在する。開口部１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂには同順に赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の有機発光材料のインク液滴が吐出される。インクジェットヘッド３０は一列に配置されたノズル群を備える。図１９（ｂ）では連続する番号ｎ1〜ｎ11のノズルを含むノズル群を示す。図１９（ｂ）中、黒丸はインクを吐出するノズル、白丸はインクを吐出しないノズルを示す。ここでは番号ｎ4〜ｎ9のノズルを使用する。
塗布工程では図１９（ｂ）に示すように、行（Ｘ）方向を描画方向とし、同方向にインクジェットヘッド３０を走査する。各列（Ｙ）方向ラインＬR1、ＬG1、ＬB1、・・・に並ぶ各開口部１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂのいずれかに対し、ノズル群（番号ｎ4〜ｎ9のノズル）よりインク液滴を吐出する。ここで、行列（ＸＹ）方向に複数の開口部を有する塗布対象基板１００ＰＸでは、列（Ｙ）方向に並ぶ特定の各開口部に対して一定のノズル群を割り当てると、このノズル群は行（Ｘ）方向に並ぶ各開口部に対しても共通して割り当てられる。
図１９（ｃ）は完成した有機ＥＬ表示パネル１００Ｘの列（Ｙ）方向に沿った部分断面図である。図１９（ｃ）では、基板１と、ＴＦＴ層２と、給電電極３と、平坦化膜４とを備え、且つ一対の電極対（第１電極６と第２電極１０）とその間に形成された有機発光層９（ここでは赤（Ｒ）色）を備える３つの有機ＥＬ素子１１Ｒａ、１１Ｒｂ、１１Ｒｃを示す。有機ＥＬ素子１１Ｒａ、１１Ｒｂ、１１Ｒｃは図１９（ｂ）の列（Ｙ）方向ラインＬR1、ＬR2、ＬR3、ＬR4、・・・上の各開口部１３Ｒの内部に形成される。
有機ＥＬ表示パネルでは各有機ＥＬ素子の特性が均一であることが重要である。このため、塗布工程において各開口部に吐出するインク量を均一にし、有機発光層や電荷注入層の各膜厚を揃えることが要求される。そこでインクジェットを設定する際、例えば各ノズルから射出されるインクの体積（以下、「液滴体積」と称する。）を揃え、各開口部に吐出するインクの液滴体積が均一になるように図られる。
特開２００３−２４１６８３号公報 特開２００４−０１４３２１号公報 特開２００８−２４９７８１号公報
従来の有機ＥＬ表示装置における有機ＥＬ表示パネル１００Ｘの正面図を図１９（ａ）に示す。有機ＥＬ表示装置を駆動させた場合、有機ＥＬ表示パネル１００Ｘの画面上で行（Ｘ）方向に沿って、筋状の輝度ムラ（以下、筋ムラと称する。）が発生しうる。筋ムラが発生する原因を図１９（ｂ）、図１９（ｃ）を用いて説明する。
インクジェットヘッドの製造時において、インクジェットヘッド内部に設けられる液室やノズル等の加工精度がばらつくことがある。また、インクジェットヘッドの使用経過に伴い、液室やノズル内部にインク成分が付着し、インクの流量が変動することがある。これらの理由により、インクジェットヘッドの各ノズル間で液滴吐出特性に誤差が生じうる。従って図１９（ｂ）に示す番号ｎ4〜ｎ9の各ノズルにおいても互いにインクの液滴体積のばらつきが発生しうる。
今、仮に番号ｎ4〜ｎ9のノズル群に吐出液滴量が多い誤差を持つノズルが含まれている場合を想定する。番号ｎ4〜ｎ9のノズル群を図１９（ｃ）に示す有機発光層９の形成に用いる場合を考える。この場合、行（Ｘ）方向に沿って番号ｎ4〜ｎ9のノズル群より列（Ｙ）方向ラインＬR1、ＬR2、ＬR3、ＬR4、・・・上の各開口部１３Ｒに吐出するインクの液滴体積は、全て同一の誤差量を含んでいる。よって行（Ｘ）方向に並ぶ各有機ＥＬ素子１１Ｒｂの膜厚Ｄ2は、別の行（Ｘ）方向に並ぶ有機ＥＬ素子１１Ｒａ、１１Ｒｃの有機発光層９の膜厚Ｄ1、Ｄ3よりも膜厚が異なる（ここでは膜厚が厚くなる）場合がある。
また、膜厚の厚い有機発光層９を持つ有機ＥＬ素子１１Ｒｂは、有機ＥＬ表示パネル１００Ｘで行（Ｘ）方向に連続的に並んで存在する。結果として有機ＥＬ表示パネル１００Ｘでは、図１９（ａ）に示すように、有機発光層９の膜厚差に起因した筋ムラが画面上に発生する。筋ムラは画面上に周期的に表れることがあり、画面を見た際には目立つため、有機ＥＬ表示パネルの画像表示性能を低下させる一因となる。
本発明は上記課題を鑑みてなされたものであって、インクジェット方式で形成された有機発光層を備え、筋ムラ発生による画像表示性能の低下を効果的に抑制可能な有機ＥＬ表示パネルとその製造方法を提供することを目的とする。
上記課題を解決するために、本発明の一態様における有機ＥＬ表示パネルの製造方法は、基板の上方に、複数の第１電極の少なくとも一部を前記基板の表面の行列方向に沿って形成する第１電極形成工程と、前記基板の上方に、前記各第１電極を個別に露出する複数の開口部を存在させてバンク層を形成するバンク層形成工程と、複数のノズルを有するインクジェットヘッドと前記基板の少なくともいずれかを移動させることで、前記インクジェットヘッドと前記基板とを行方向に相対移動させ、各ノズルがいずれかの前記開口部と対向する際に、前記各ノズルより前記対向する前記開口部の内部にインク液滴を吐出し、前記インク液滴を乾燥させて有機発光層を形成する有機発光層形成工程と、前記各有機発光層の上方に第２電極を形成する第２電極形成工程とを有し、前記バンク層形成工程では、前記複数の開口部のうち、第１列の開口部群と第２列の開口部群とが、列方向に沿って前記開口部のピッチの半分以下の距離差で互いにずれて存在するように前記バンク層を形成し、前記複数のノズルには第１ノズル群と第２ノズル群とが含まれ、前記有機発光層形成工程では、前記第１列の開口部群に含まれる前記各開口部上を前記インクジェットヘッドが移動する際には前記第１ノズル群より前記インク液滴を吐出し、前記第２列の開口部群に含まれる前記各開口部上を前記インクジェットヘッドが移動する際には前記第２ノズル群より前記インク液滴を吐出するように、前記第１ノズル群と前記第２ノズル群とを切り換えて使用するものとする。
本発明の一態様における有機ＥＬ表示パネルの製造方法では、バンク層形成工程において、第１及び第２列の各開口部群を列方向の前記開口部ピッチの半分以下の距離差で列方向に互いにずれるように配置調整する。これにより有機発光層形成工程において、行方向に基板とインクジェットヘッドの少なくともいずれかを互いに相対移動するように移動させる際、列方向の各開口部に割り当てるインクジェットヘッドのノズル群を、第１列と第２列の各開口部の位置に対応して第１ノズル群と第２ノズル群とに切り換えて使用できる。従って、第１ノズル群と第２ノズル群とを切り換えた際に、インクの吐出量の誤差を有するノズルが切り換えられる場合には、行方向に並ぶ開口部に対応して、連続して同一の誤差量のインクが吐出されるのを防止できる。これにより、ノズルのインクの液滴体積の誤差を第１列に並ぶ各開口部と第２列に並ぶ各開口部とで互いに異なるように分散できる。
この効果により有機ＥＬ表示パネルでは、同じ膜厚誤差を生じた有機発光層が行方向に連続して形成されるのを低減できる。よって、インクジェット方式で形成された有機発光層を備え、筋ムラ発生による画像表示性能の低下を効果的に抑制可能な有機ＥＬ表示パネルとその製造方法を提供することができる。
（ａ）は実施の形態１に係る有機ＥＬ表示パネル１００の構成を示す模式的な断面図である。（ｂ）は有機ＥＬ表示パネル１００の１ピクセル分の有機ＥＬ素子１１Ｒ、１１Ｇ、１１Ｂを示す部分正面図である。 有機ＥＬ表示パネル１００の製造工程を示す図である。 インクジェット装置システム１０００の主要構成を示す斜視図である。 インクジェット装置システム１０００の機能ブロック図である。 （ａ）はヘッド部３０１の長手方向に沿った断面図である。（ｂ）は（ａ）のＷ0−Ｗ0´矢視断面図（ヘッド部３０１の短手方向断面図）である。 インク塗布を実施する際のヘッド部３０１と塗布対象基板１００Ｐとの配置関係を示す図である。 有機ＥＬ表示パネル１００の製造工程を示す図である。 インク塗布直後の様子を示す塗布対象基板１００Ｐの断面斜視図である。 有機ＥＬ表示パネルの製造工程を示す図である。 （ａ）は実施の形態１に係る有機発光層形成工程を説明するための塗布対象基板１００Ｐの拡大正面図である。（ｂ）は実施の形態２に係る有機発光層形成工程を説明するための塗布対象基板１００Ｐ1の拡大正面図である。 （ａ）は実施の形態３に係る各有機発光層形成工程を説明するための塗布対象基板１００Ｐ2の拡大正面図である。（ｂ）は実施の形態４に係る各有機発光層形成工程を説明するための塗布対象基板１００Ｐ3の拡大正面図である。 （ａ）は実施の形態５に係る各有機発光層形成工程を説明するための塗布対象基板１００Ｐ4の拡大正面図である。（ｂ）は実施の形態６に係る各有機発光層形成工程を説明するための塗布対象基板１００Ｐ5の拡大正面図である。 実施の形態１の効果確認試験の結果を示す図（筋ムラの模式的なマッピング図）である。 実施の形態１の効果確認試験の結果を示す図（列方向の開口部間でのインク体積のばらつき量）を示すグラフである。 実施の形態７に係る有機ＥＬ表示パネルの有機ＥＬ素子１１、１１´周辺の構成を示す部分拡大図である。 実施の形態７に係る有機ＥＬ表示パネルの有機ＥＬ素子１１Ｒ周辺の構成を示す部分断面図（ａ）と、有機ＥＬ素子１１Ｒ´周辺の構成を示す部分断面図（ｂ）である。 実施の形態８に係る有機ＥＬ表示パネルの有機ＥＬ素子１１、１１´周辺の構成を示す部分拡大図である。 実施の形態８に係る有機ＥＬ表示パネルの有機ＥＬ素子１１Ｒ周辺の構成を示す部分断面図（ａ）と、有機ＥＬ素子１１Ｒ´周辺の構成を示す部分断面図（ｂ）である。 従来構成における筋ムラの発生を説明するための図である。
＜発明の態様＞
本発明の一態様における有機ＥＬ表示パネルの製造方法は、基板の上方に、複数の第１電極を前記基板の表面の行列方向に沿って形成する第１電極形成工程と、前記基板の上方に、前記各第１電極を個別に露出する複数の開口部を存在させてバンク層を形成するバンク層形成工程と、複数のノズルを有するインクジェットヘッドと前記基板の少なくともいずれかを移動させることで、前記インクジェットヘッドと前記基板とを行方向に相対移動させ、各ノズルがいずれかの前記開口部と対向する際に、前記各ノズルより前記対向する前記開口部の内部にインク液滴を吐出し、前記インク液滴を乾燥させて有機発光層を形成する有機発光層形成工程と、前記各有機発光層の上方に第２電極を形成する第２電極形成工程とを有し、前記バンク層形成工程では、前記複数の開口部のうち、第１列の開口部群と第２列の開口部群とが、列方向に沿って前記開口部のピッチの半分以下の距離差で互いにずれて存在するように前記バンク層を形成し、前記複数のノズルには第１ノズル群と第２ノズル群とが含まれ、前記有機発光層形成工程では、前記第１列の開口部群に含まれる前記各開口部上を前記インクジェットヘッドが移動する際には前記第１ノズル群より前記インク液滴を吐出し、前記第２列の開口部群に含まれる前記各開口部上を前記インクジェットヘッドが移動する際には前記第２ノズル群より前記インク液滴を吐出するように、前記第１ノズル群と前記第２ノズル群とを切り換えて使用するものとする。
上記本発明の一態様における有機ＥＬ表示パネルの製造方法では、バンク層形成工程において、第１列の開口部群と第２列の開口部群とを列方向に沿って開口部のピッチの半分以下の距離差で互いにずれて存在させる。これにより各開口部に割り当てたノズルは、行方向に沿って基板とインクジェットヘッドとを相対移動させる際、第１列の各開口部群に対応する第１ノズル群と、第２列の各開口部群に対応する第２ノズル群とに切り換えて使用する。ここで第１ノズル群と第２ノズル群とを切り換えた際に、インクの液滴体積の誤差を有するノズルが切り換えられる場合には、行方向に並ぶ開口部に対応して、連続して同一の誤差の液滴体積のインクが吐出されるのを防止できる。これによりノズルのインクの液滴体積の誤差を第１列に並ぶ各開口部と第２列に並ぶ各開口部とで互いに異なるように分散できる。
ここで本発明の別の態様として、前記バンク層形成工程において、前記距離差は、列方向の前記開口部ピッチの１０％以上５０％以下の距離差とすることもできる。
また本発明の別の態様として、前記有機発光層形成工程では、行方向で隣接する前記各開口部の内部に対し、同順に互いに発光色が異なる前記インク液滴を吐出することにより第１、第２、第３の各有機発光層を形成し、前記第１の開口部群と前記第２の開口部群の前記各開口部には、前記第１、第２、第３の各有機発光層のうち、いずれか同一発光色の前記有機発光層を形成することもできる。
また本発明の別の態様として、前記バンク層形成工程では、前記第１、第２、第３の各有機発光層を形成予定の各開口部に前記第１列の開口部群と前記第２列の開口部群とを存在させ、且つ、内部に前記第１、第２、第３の各有機発光層を同順に形成予定で行方向に隣接する３つの前記各開口部を１組とするとき、前記１組内では前記各開口部の配置が揃うように前記バンク層を形成することもできる。
また本発明の別の態様として、前記バンク層形成工程では、前記１組の前記各開口部を行方向に２組以上１００組以下にわたり連続して存在させることもできる。
また本発明の別の態様として、前記バンク層形成工程では、前記第１列の開口部群と前記第２列の開口部群とを行方向で隣接して存在させることもできる。
また本発明の別の態様として、前記バンク層形成工程では、前記第１列の開口部群と前記第２列の開口部群とを行方向に繰り返し存在させ、前記第１列の開口部群中の前記各開口部と前記第２列の開口部群中の前記各開口部とを互いに千鳥状にずれるように存在させることもできる。
また本発明の別の態様として、前記バンク層形成工程では、前記第１列の開口部群と前記第２列の開口部群とを行方向に繰り返し存在させ、前記第１列の開口部群中の前記各開口部と前記第２列の開口部群中の前記各開口部とを互いに階段状にずれるように存在させることもできる。
また本発明の別の態様として、前記バンク層形成工程では、前記第１列の開口部群と前記第２列の開口部群とを行方向に繰り返し存在させ、前記第１列の開口部群中の前記各開口部と前記第２列の開口部群中の前記各開口部とを互いにランダム状にずれるように存在させることもできる。
また本発明の別の態様として、前記有機発光層形成工程で使用するインクジェットヘッドは、前記第１ノズル群と前記第２ノズル群とにそれぞれ属するノズルの個数が１０個以下である構成とすることもできる。
また本発明の別の態様として、前記インクジェットヘッドにおいて、前記複数のノズルは一の方向に沿ってライン状に配設され、前記有機発光層形成工程では、前記一の方向を列方向と交差するように前記インクジェットヘッドを傾けた状態で、前記インクジェットヘッドと前記基板のすくなくともいずれかを移動させることもできる。
また本発明の別の態様として、少なくとも前記有機発光層形成工程前において、前記各第１電極と部分的に重ねて配置することにより、前記各開口部内の発光領域を規制する画素規制層を形成する画素規制層形成工程を有し、前記画素規制層形成工程では、前記第１開口部群中の前記各開口部の内部における第１発光領域の位置と、前記第２開口部群中の前記各開口部の内部における第２発光領域の位置が互いに行方向で揃うように、前記各開口部の列方向に沿った周縁の両端の少なくとも一端側となる領域に、絶縁性材料からなる前記画素規制層を形成することもできる。
また本発明の別の態様として、前記画素規制層形成工程では、前記列方向に沿って、前記開口部内の前記第１発光領域及び前記第２発光領域の各長さが、少なくとも前記開口部の長さの３０％以上となるように前記画素規制層を形成することもできる。
また本発明の別の態様として、前記第２電極の上方に封止層を形成する封止層形成工程と、前記封止層の上方に第２基板を配置する第２基板配置工程とを有し、前記第２基板は、前記開口部との対向位置に存在する透光性領域と、前記各透光性領域の周囲に存在するブラックマトリクスとを有し、前記透光性領域は、前記第１開口部群中の前記各開口部の内部における第１発光領域の位置と、前記第２開口部群中の前記各開口部の内部における第２発光領域の位置が互いに行方向で揃うように存在しているものとすることもできる。
また本発明の別の態様として、前記第２基板配置工程で配置する前記第２基板において、前記列方向に沿って、前記開口部内の前記第１発光領域及び前記第２発光領域の各長さが、少なくとも前記開口部の長さの３０％以上となるように前記透光性領域が存在しているものとすることもできる。
本発明の一態様である有機ＥＬ表示パネルは、基板と、前記基板上に形成されたＴＦＴ層と、前記ＴＦＴ層の上方において、行列方向に複数にわたり形成された第１電極と、各第１電極を個別に露出させる複数の開口部を行列方向に存在させるように形成されたバンク層と、各開口部の内部に形成された有機発光層と、前記有機発光層の上方に形成された第２電極とを有し、前記複数の開口部には第１列の開口部群と第２列の開口部群とが含まれ、第１列の開口部群と第２列の開口部群とが列方向に沿って前記開口部のピッチの半分以下の距離差で互いにずれて存在している構成とする。
ここで本発明の別の態様として、前記距離差は、列方向の前記開口部ピッチの１０％以上５０％以下の距離差とすることもできる。
また本発明の別の態様として、行方向で隣接する前記各開口部の内部に対し、同順に互いに発光色が異なる前記インク液滴を吐出することにより第１、第２、第３の各有機発光層が形成され、前記第１の開口部群と前記第２の開口部群の前記各開口部には、前記第１、第２、第３の各有機発光層のうち、いずれか同一発光色の前記有機発光層が形成されている構成とすることもできる。
また本発明の別の態様として、前記第１、第２、第３の各有機発光層が形成された各開口部毎に前記第１列の開口部群と前記第２列の開口部群とが存在し、且つ、内部に前記第１、第２、第３の各有機発光層を同順に形成予定で行方向に隣接する３つの前記各開口部を１組とするとき、前記１組内では前記各開口部の配置が揃うように前記バンク層が形成されている構成とすることもできる。
また本発明の別の態様として、前記１組の前記各開口部が行方向に２組以上１００組以下にわたり連続して存在している構成とすることもできる。
また本発明の別の態様として、前記第１列の開口部群と前記第２列の開口部群とが行方向で隣接して存在する構成とすることもできる。
また、本発明の別の態様として、前記第１列の開口部群と前記第２列の開口部群とが行方向に繰り返し存在し、前記第１列の開口部群中の前記各開口部と前記第２列の開口部群中の前記各開口部とが互いに千鳥状にずれるように存在している構成とすることもできる。
また本発明の別の態様として、前記第１列の開口部群と前記第２列の開口部群とが行方向に繰り返し存在し、前記第１列の開口部群中の前記各開口部と前記第２列の開口部群中の前記各開口部とが互いに階段状にずれるように存在している構成とすることもできる。
また本発明の別の態様として、前記第１列の開口部群と前記第２列の開口部群とが行方向に繰り返し存在し、前記第１列の開口部群中の前記各開口部と前記第２列の開口部群中の前記各開口部とが互いにランダム状にずれるように存在している構成とすることできる。
また本発明の別の態様として、前記各第１電極と部分的に重ねて配置されることにより、前記各開口部内の発光領域を規制する画素規制層を有し、前記画素規制層は、前記第１開口部群中の前記各開口部の内部における第１発光領域の位置と、前記第２開口部群中の前記各開口部の内部における第２発光領域の位置が互いに行方向で揃うように、前記各開口部の列方向に沿った周縁の両端の少なくとも一端側となる領域に、絶縁性材料により形成されている構成とすることもできる。また本発明の別の態様として、前記画素規制層は、前記列方向に沿って、前記開口部内の前記第１発光領域及び前記第２発光領域の各長さが、少なくとも前記開口部の長さの３０％以上となるように形成されている構成とすることもできる。
また本発明の別の態様として、前記第２電極の上方に形成された封止層と、前記封止層の上方に配置された第２基板とを有し、前記第２基板は、前記開口部との対向位置に存在する透光性領域と、前記各透光性領域の周囲に存在するブラックマトリクスとを有し、前記透光性領域は、前記第１開口部群中の前記各開口部の内部における第１発光領域の位置と、前記第２開口部群中の前記各開口部の内部における第２発光領域の位置が互いに行方向で揃うように存在している構成とすることもできる。
また本発明の別の態様として、前記第２基板において、前記列方向に沿って、前記開口部内の前記第１発光領域及び前記第２発光領域の各長さが、少なくとも前記開口部の長さの３０％以上となるように前記透光性領域が存在している構成とすることもできる。
＜実施の形態１＞
（有機ＥＬ表示パネル１００の構成）
図１（ａ）は、本発明の実施の形態１に係る有機ＥＬ表示パネル１００の構成を模式的に示す断面図である。図１（ａ）では有機ＥＬ表示パネル１００で列（Ｙ）方向に隣接して形成された、同色（赤色）の３つの有機ＥＬ素子１１Ｒの構成を示す。
有機ＥＬ素子１１Ｒの構成はＴＦＴ基板１（以下、単に「基板１」と称する。）と、ＴＦＴ基板１の片側主面（図１（ａ）では上面）に順次積層された、ＴＦＴ配線部（ＴＦＴ層２）と、平坦化膜４と、第１電極６と、有機発光層９と、第２電極（陰極）１０とを有してなる。
一方、有機ＥＬ表示パネル１００を正面から見ると、有機ＥＬ表示パネル１００の部分正面図（図１（ｂ））に示すように、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）に対応する有機ＥＬ素子１１Ｒ、１１Ｇ、１１Ｂが、行（Ｘ）方向に隣接して存在する開口部１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂに対し、サブピクセル（発光単位）として形成されている。有機ＥＬ素子１１Ｒ、１１Ｇ、１１Ｂは、互いに有機発光層９の発光色が異なっている。
有機ＥＬ表示パネル１００では、行（Ｘ）方向で隣接する３つの有機ＥＬ素子１１Ｒ、１１Ｇ、１１Ｂをサブピクセルとする。これら３つのサブピクセルを１組として１ピクセル（画素）が構成される。図１（ｂ）では、第１ピクセルＰｉｘ1と、これに行（Ｘ）方向で隣接する第２ピクセルＰｉｘ2とを図示している。第２ピクセルＰｉｘ2は有機ＥＬ素子１１Ｒ´、１１Ｇ´、１１Ｂ´を１組として構成される。
一方、有機ＥＬ表示パネル１００では、列（Ｙ）方向では図１（ａ）のように、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）のいずれか同一発光色のサブピクセルが形成されている。
このように有機ＥＬ表示パネル１００では、行列（ＸＹ）方向に沿って、マトリクス状に複数の有機ＥＬ素子が配列されている（以下、発光色及びピクセルを区別しない場合、有機ＥＬ素子１１Ｒ、１１Ｇ、１１Ｂ、１１Ｒ´、１１Ｇ´、１１Ｂ´を単に「有機ＥＬ素子１１」と称し、開口部１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂを単に「開口部１３」と称する。）。
次に有機ＥＬ素子１１の構造を順に説明する。
各第１電極６の上には、図１（ａ）に示す有機ＥＬ素子１１Ｒの開口部１３Ｒのように、開口部１３を有するバンク層７が形成される（図１（ｂ））。開口部１３は素子形成予定領域を区画するように存在する。開口部１３の内部には、第１電極６の上方に、有機発光層９、第２電極（陰極）１０が順次積層形成される。
［基板１］
基板１は有機ＥＬ表示パネル１００のベース部分である。基板１は、無アルカリガラス、ソーダガラス、無蛍光ガラス、燐酸系ガラス、硼酸系ガラス、石英、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエチレン、ポリエステル、シリコーン系樹脂、又はアルミナ等の絶縁性材料のいずれかを用いて形成される。
［ＴＦＴ層２］
ＴＦＴ層２は、有機ＥＬ表示パネル１００の全ての有機ＥＬ素子１１をアクティブマトリクス方式で駆動するために設けられる。ＴＦＴ層２は、導電材料と半導体材料と絶縁性材料を用いて形成される。
［平坦化膜４］
平坦化膜４は、絶縁性に優れる有機材料からなる層間絶縁膜であって、ＴＦＴ層２の表面を平坦に被覆するために設けられる。平坦化膜４には、列（Ｙ）方向で隣接する各開口部１３同士の間の領域を厚み方向（Ｚ方向）に貫通させることで、円形の孔（コンタクトホール５）が存在している（図１（ａ））。コンタクトホール５の内部において、ＴＦＴ層が給電電極３を介して第１電極６と電気的に接続される。
［第１電極６］
第１電極６は陽極であり、第２電極１０と一対の電極対を構成する。第１電極６はＡｇ（銀）の他、例えばＡＰＣ（銀、パラジウム、銅の合金）、ＡＲＡ（銀、ルビジウム、金の合金）、ＭｏＣｒ（モリブデンとクロムの合金）、ＮｉＣｒ（ニッケルとクロムの合金）、等の導電性材料を用いて形成される。有機ＥＬ素子１１をトップエミッション型とする場合、第１電極６は光反射性材料を用いて形成する。或いは有機ＥＬ素子１１をボトムエミッション型とする場合、第１電極６は光透過性材料を用いて形成する。第１電極６は基板１の上方において、各開口部１３（各素子形成予定領域）の位置に合わせ、行列（ＸＹ）方向に複数にわたり形成される。
［バンク層７］
バンク層７は、主として有機ＥＬ表示パネル１００の各素子形成予定領域を区画するために設けられる。バンク層７は、絶縁性の有機材料（例えばアクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ノボラック型フェノール樹脂等）からなり、少なくとも表面において撥水性を有する。バンク層７のパターンは適宜調節可能であるが、有機ＥＬ表示パネル１００では井桁状（ピクセルバンク状）とする。すなわち、行列（ＸＹ）方向に沿って、各素子形成予定領域を個別に区画する開口部１３を複数有する形状に形成される。バンク層７は、全体的にはＸＹ平面またはＹＺ平面に沿った断面が台形の断面形状を有している。尚、コンタクトホール５に対応するバンク層７の位置には、バンク材料がコンタクトホール５の内部に落ち込み、シュリンク（収縮）してなる窪み部１２が存在する（図１（ａ））。
ここで図１（ｂ）に、バンク層７で区画された、行（Ｘ）方向で隣接する２つのピクセル（第１ピクセルＰｉｘ1、第２ピクセルＰｉｘ2）を示す。第１ピクセルＰｉｘ1と第２ピクセルＰｉｘ2の配置関係に示すように、バンク層７では行（Ｘ）方向で隣接する各ピクセルにおいて、第１ピクセルＰｉｘ1で列（Ｙ）方向に並ぶＲＧＢ各色の開口部群と、第２ピクセルＰｉｘ2で列（Ｙ）方向に並ぶＲＧＢ各色の開口部群とが、互いに列（Ｙ）方向でずれるように配置されている。
一例として図１（ｂ）では、第１列（Ｗ1−Ｗ1´線上の列）に並ぶ複数の開口部１３Ｒからなる開口部群と、第２列（Ｗ2−Ｗ2´線上の列）に並ぶ複数の開口部１３Ｒからなる開口部群とを比較した場合、各開口部群は互いに列（Ｙ）方向に沿って、列（Ｙ）方向の開口部ピッチの１０％以上５０％の距離の差でずれるように配置されている。実施の形態１では、第１ピクセルＰｉｘ1におけるＲＧＢ各色の開口部群の各第１列と、第２ピクセルＰｉｘ2におけるＲＧＢ各色の開口部群の各第２列とが互いに列（Ｙ）方向でずれるように配置される。一方、列（Ｙ）方向での各ピクセル内での開口部１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂの配置が同一位置になるように設定している。このような開口部１３の配置は、有機ＥＬ表示パネル１００を駆動させた際に発生しうる筋ムラを防止するためである。
尚、図１（ｂ）では説明を簡単にするため窪み部１２を省略している。
行（Ｘ）方向で隣接する各ピクセルにおける、列（Ｙ）方向での各開口部群のずれ量としては、少なくとも列（Ｙ）方向の開口部ピッチの半分以下の距離であればよい。具体的には列（Ｙ）方向の開口部ピッチの１０％以上５０％以下の距離差とするのが望ましい。これは一般的なウェットプロセスの有機発光層形成工程において、インクジェットヘッドを用いた場合、１つの開口部に対応して使用するノズル群中のノズル個数が１０個程度以下（本実施の形態１では６個）であることと、１ピクセルを構成するサブピクセルの配置のバランス保持とを考慮したものである。
［有機発光層９］
有機発光層９は、有機ＥＬ素子１１における発光部分である。有機発光層９は、開口部１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂ内の第１電極６の上方において、同順に赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）で発光するように形成される。有機発光層９は所定の有機材料を含むように構成されているが、その材料には公知材料を利用できる。たとえば特開平５−１６３４８８号公報に記載のオキシノイド化合物、ペリレン化合物、クマリン化合物、アザクマリン化合物、オキサゾール化合物、オキサジアゾール化合物、ペリノン化合物、ピロロピロール化合物、ナフタレン化合物、アントラセン化合物、フルオレン化合物、フルオランテン化合物、テトラセン化合物、ピレン化合物、コロネン化合物、キノロン化合物及びアザキノロン化合物、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、ローダミン化合物、クリセン化合物、フェナントレン化合物、シクロペンタジエン化合物、スチルベン化合物、ジフェニルキノン化合物、スチリル化合物、ブタジエン化合物、ジシアノメチレンピラン化合物、ジシアノメチレンチオピラン化合物、フルオレセイン化合物、ピリリウム化合物、チアピリリウム化合物、セレナピリリウム化合物、テルロピリリウム化合物、芳香族アルダジエン化合物、オリゴフェニレン化合物、チオキサンテン化合物、アンスラセン化合物、シアニン化合物、アクリジン化合物、８−ヒドロキシキノリン化合物の金属錯体、２、２´−ビピリジン化合物の金属錯体、シッフ塩とＩＩＩ族金属との錯体、オキシン金属錯体、希土類錯体等の蛍光物質等を挙げることができる。
［第２電極１０］
第２電極１０は陰極である。第２電極１０は、例えばＩＴＯ、ＩＺＯ（酸化インジウム亜鉛）等の導電性材料を用いて構成される。有機ＥＬ素子１１をトップエミッション型にする場合は、光透過性材料を用いる。或いは有機ＥＬ素子１１をボトムエミッション型にする場合は、光反射性材料を用いる。
［その他の構成］
図１には図示しないが、第２電極１０の上方には公知の封止層が設けられる。封止層は、例えばＳｉＮ（窒化シリコン）、ＳｉＯＮ（酸窒化シリコン）等の材料で形成され、有機発光層９が水分や空気等に触れて劣化するのを抑制する。有機ＥＬ素子１１をトップエミッション型にする場合、封止層は光透過性材料で構成する。
また、図１には図示しないが、有機ＥＬ表示パネル１００を平面視した際、各有機ＥＬ素子１１を区画するようにブラックマトリクスを配し、各有機ＥＬ素子１１との対向面にカラーフィルター層を設けたカラーフィルター基板を、第２電極１０と対向するように設けることもできる。
尚、有機ＥＬ表示パネル１００では、第１電極６の上に直接、有機発光層９を形成しているが、第１電極６と有機発光層９との間には公知の機能層（例えばホール輸送層、ホール注入層、バッファ層等）のいずれかを配置してもよい。また有機発光層９と第２電極１０との間には公知の電子輸送層、電子注入層等、その他の公知の層のいずれかを配置してもよい。
（有機ＥＬ表示パネル１００で奏される効果）
有機ＥＬ表示パネル１００では図１（ｂ）に示したように、行（Ｘ）方向に隣接するピクセル毎に、各ピクセル内の開口部１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂの列（Ｙ）方向に沿った位置が、互いに一定間隔でずれて配置されている。
このため有機発光層９をウェットプロセスで製造する際に、行（Ｘ）方向にインクジェットヘッド３０を相対的に走査して各開口部１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂにインク液滴８を塗布する場合（図６）、行（Ｘ）方向に並ぶ開口部１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂに対応して用いるノズル３０３０のノズル群を、１ピクセル毎に切り換えることができる。これにより、たとえいずれかのノズル３０３０がインクの液滴体積に誤差を有する場合であっても、ノズル群を切り換えた際に、インクの液滴体積に誤差を有するノズル３０３０が切り換えられる場合には、行（Ｘ）方向に並ぶ同一色の開口部１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂに対応して、連続して同一の誤差量の液滴体積のインクが吐出されるのが防止される。すなわち、個々のノズル３０３０のインクの液滴体積の誤差が、行（Ｘ）方向に並ぶ同一色の開口部１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂにおいて、１ピクセル毎に互いに異なるように分散される。
結果として有機ＥＬ表示パネル１００では、同じ膜厚誤差を生じた有機発光層９が行（Ｘ）方向に連続して形成されるのが低減されている。従って駆動時における筋ムラの発生が抑制されており、良好な画像表示性能を期待できる。
（有機ＥＬ表示パネル１００の全体的な製造方法）
有機ＥＬ表示パネル１００の全体的な製造方法を図２、図６〜図９等を用いて例示する。その後、有機発光層形成工程について詳細を説明する。
まず基板１を準備し、スパッタ成膜装置のチャンバ内に載置する。チャンバ内に所定のスパッタガスを導入する。この状態で、例えば反応性スパッタ法に基づき、パターンマスクを介して導電性材料を基板１にスパッタリングする。これによりＴＦＴ層２と給電電極３とをそれぞれ形成する（図２（ａ））。ここで、後にバンク層形成工程でバンク層７に存在させる開口部１３の配置位置によっては、ＴＦＴ層２と給電電極３との各配置位置を予め調整する必要がある。従って反応性スパッタ法による成膜を行う際に、所定のパターニング及び配置位置でＴＦＴ層２と給電電極３とをそれぞれ形成する点に留意する。
次に、フォトレジスト法に基づき、ＴＦＴ層２及び給電電極３の上に絶縁性に優れる公知の有機材料を用いて、厚み約４μｍの平坦化膜４を形成する（図２（ｂ））。このとき平坦化膜４の上に形成される予定の第１電極６と給電電極３とを電気接続するためのコンタクトホール５を、列（Ｙ）方向で隣接する各開口部１３の間の位置に合わせて存在させる。所望のパターンマスクを用いたフォトレジスト法を実施することで、平坦化膜４とコンタクトホール５を同時に形成することができる。尚、当然ながらコンタクトホール５の形成方法はこれに限定されない。例えば、一様に平坦化膜４を形成した後、所定の位置の平坦化膜４を貫通させることで、コンタクトホール５を存在させることもできる。
上記形成した平坦化膜４の上に、例えば真空蒸着法またはスパッタ法に基づき、厚み５０ｎｍ程度の金属材料からなる第１電極６を形成する。このとき第１電極６を、給電電極３と電気接続させつつ、所望の形状（例えば素子形成予定領域毎に対応する形状）を有するように形成する（図２（ｃ））。
尚、必要に合わせて反応性スパッタ法に基づき、第１電極６及び給電電極３の上から基板１の表面に沿って一様にホール注入層を成膜する。具体的には、モリブデンやタングステン等の金属材料をスパッタ源（ターゲット）として用い、スパッタガスとしてアルゴンガス、反応性ガスとして酸素ガスをそれぞれチャンバ内に導入する。これにより、モリブデンやタングステンの酸化物からなるホール注入層が形成する。
尚、実施の形態７で示すように、第１電極６の形成後、バンク層７の形成前において、第１電極６の上に部分的に重なるように画素規制層を設けてもよい。画素規制層形成工程は、フォトレジスト法に基づき、絶縁性材料等を含むペーストを塗布し、パターニングすることで実施できる。
続いてバンク層形成工程を実施する。バンク材料として、例えば感光性のレジスト材料、もしくはフッ素系やアクリル系材料を含有するレジスト材料を用意する。バンク層形成工程はフォトレジスト法に基づいて実施できる。すなわち、バンク材料を第１電極６上から基板１の表面に沿って一様に塗布し、その上にフォトレジストを重ねて塗布する。塗布したフォトレジスト上に、形成予定のバンク層７のパターンに合わせたマスクを重ねる。マスクには公知のハーフトーンマスクを利用できる。ここでは、各第１電極６の少なくとも一部が開口部１３より露出するように、開口部１３を存在させてバンク層７をパターニングするものとする。マスクを介してフォトレジストを感光させ、レジストパターンを形成する。余分なバンク材料及び未硬化のフォトレジストを水系もしくは非水系エッチング液（剥離剤）で洗い出す。以上でバンク材料のパターニングが完了する。その後はパターニングされたバンク材料の周囲に残留したレジスト残渣を純水で洗浄除去する。以上で図２（ｄ）に示すように、素子形成予定領域に開口部１３（色毎に１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂが存在する。図２（ｄ）では赤色対応の１３Ｒを示す）を有し、表面が少なくとも撥水性のバンク層７が完成する。尚、各開口部１３の配置位置としては、図１（ｂ）に示したように、行（Ｘ）方向に沿ってピクセル毎に開口部１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂの位置が列（Ｙ）方向で一定距離をおいてずれるように調整する。各開口部１３の配置位置は、マスクのパターン形状を調節することにより調整可能である。
尚、平坦化膜４にコンタクトホール５を存在させると、バンク材料がコンタクトホール５の内部でシュリンクする。このためバンク層７の頂部には自然に窪み部１２が形成される（図２（ｄ））。以上で有機ＥＬ表示パネル１００の製造中間体である塗布対象基板１００Ｐが完成する。
バンク層形成工程では、有機発光層形成工程で開口部１３内に吐出予定のインクに対するバンク層７の接触角を調節してもよい。或いは、バンク層７の少なくとも表面に撥水性を付与してもよい。これらの調節は、バンク層７の表面を所定のアルカリ性溶液や水、有機溶媒等によって表面処理したり、プラズマ処理を施して表面処理することで実施できる。
次に、有機発光層形成工程を実施する。発光層材料の有機材料と溶媒を所定比率で混合してインクを調整する。このインクを、図３のインクジェット装置システム１０００に装備されたインクジェットヘッド３０に供給する。そして公知のインクジェット方式によるウェットプロセスに基づき、行（Ｘ）方向を描画方向として、インクジェットヘッド３０より各開口部１３にインクの液滴８を塗布する（図７（ａ）、図７（ｂ））。この際、塗布対象基板１００Ｐとインクジェットヘッド３０とが互いに相対移動するように、塗布対象基板１００Ｐとインクジェットヘッド３０の少なくともいずれかを移動させる。
図８は、塗布対象基板１００Ｐの窪み部１２´及び開口部１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂに対し、インク液滴を塗布した直後の様子を示す部分斜視図である。開口部１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂ内の各インク液滴８の溜まりは、いずれも走査中のインクジェットヘッド３０の複数のノズル３０３０（ノズル群）から高速で滴下されてなる。インク液滴８中の溶媒を蒸発させて乾燥させれば、図９（ａ）に示すように開口部１３Ｒ内に有機発光層９が形成される。また、同様に開口部１３Ｇ、１３Ｂ内にも有機発光層９が形成される。
次に、有機発光層９の表面に、ＩＴＯ、ＩＺＯ等の材料を用い、真空蒸着法で成膜する。これにより第２電極１０が形成される（図９（ｂ））。
尚、第２電極１０の表面には、ＳｉＮ（窒化シリコン）、ＳｉＯＮ（酸窒化シリコン）等の材料を真空蒸着法で成膜することで、封止層（不図示）を形成する。
以上の工程を経ることで有機ＥＬ素子１１が形成される。これにより有機ＥＬ表示パネル１００が完成する。
（有機発光層形成工程の詳細）
次に有機発光層形成工程について詳細を説明する。まず、有機発光層形成工程で使用するインクジェット装置システム１０００について具体的に説明し、その後に有機発光層形成工程の実施内容を説明する。
（インクジェット装置システム１０００）
図３は、インクジェット装置システム１０００（以下、単に「システム１０００」と称する。）の主要構成を示す斜視図である。図４は、システム１０００の機能ブロック図である。
図４に示すように、システム１０００は、制御装置（ＰＣ）１５と、インクジェットテーブル２０と、インクジェットヘッド３０とで構成される。
制御装置１５は、ＣＰＵ１５０と、記憶手段１５１と、表示手段１５３と、入力手段１５２とを有して構成される。記憶手段１５１は、一例としてＨＤＤ等の大容量記憶手段である。表示手段１５３は、一例としてディスプレイである。制御装置１５は、一例としてパーソナルコンピュータ（ＰＣ）である。記憶手段１５１には、ＣＰＵ１５０がインクジェットテーブル２０を駆動制御するために読み込む制御プログラムが格納されている。システム１０００の駆動時には、ＣＰＵ１５０が入力手段１５２を通じてオペレータにより入力された入力指示と、記憶手段１５１に格納された制御プログラムとに基づいてインクジェットテーブル２０とインクジェットヘッド３０の各駆動制御を行う。
尚、システム１０００にはインクジェットヘッド３０から吐出されるインクの状態を確認するための液滴観察装置がＣＰＵ１５０に制御可能に接続されることもある。
（インクジェットテーブル２０）
インクジェットテーブル２０は一例としてガントリー式の作業テーブルである。全体構造として、基台２００の上に横架されたガントリー部（移動架台）２１０が一対のガイドシャフト２０３Ａ、２０３Ｂに沿って往復移動可能とされた構造を有する（図３）。
具体的構成として、インクジェットテーブル２０は、長方形状主面を持つ基台２００と、４本のスタンド２０１Ａ、２０１Ｂ、２０２Ａ、２０２Ｂと、ガイドシャフト２０３Ａ、２０３Ｂと、リニアモータ２０４、２０５と、ガントリー部２１０と、インクジェットヘッド３０等とを有する。
スタンド２０１Ａ、２０１Ｂ、２０２Ａ、２０２Ｂは柱状体であり、板状の基台２００のＺ方向上面の四隅付近に立設されている。スタンド２０１Ａ、２０１Ｂ、２０２Ａ、２０２Ｂに囲まれた基台２００上の内側領域には、塗布対象基板１００Ｐを載置するための固定ステージＳＴと、ウェットプロセスの実施前に予めインクを吐出させて安定化するために用いるインクパン（皿状容器）６０とが配設される（図３）。
ガイドシャフト２０３Ａ（２０３Ｂ）は、基台２００の長手（Ｘ）方向に延びる両側部において、スタンド２０１Ａ、２０１Ｂ（２０２Ａ、２０２Ｂ）により軸支される。リニアモータ２０４（２０５）はガイドシャフト２０３Ａ（２０３Ｂ）に挿通される。ガントリー部２１０はリニアモータ２０４、２０５に対し、基台２００の短手（Ｙ）方向を横断するように搭載されている。この構成によりシステム１０００の駆動時には、一対のリニアモータ２０４、２０５が同方向に等速駆動されると、ガントリー部２１０がガイドシャフト２０３Ａ、２０３Ｂの長手（Ｘ）方向に沿って精密にスライドする（図３）。
ガントリー部２１０は、長手（Ｙ）方向に沿ったガイド溝２１１を有する。ガイド溝２１１の内部には長手（Ｙ）方向に沿って微細なラック（不図示）が形成されている。ガントリー部２１０にはＬ字型台座である移動体（キャリッジ）２２０が配設される。移動体２２０にはサーボモータ（移動体モータ）２２１が配設され、モータ軸の先端にはギヤ（不図示）が配されている。ギヤはガイド溝２１１のラックと噛合している。この構成によりシステム１０００の駆動時には、サーボモータ２２１が回転駆動されると移動体２２０がピニオンラック機構により長手（Ｙ方向）に精密にスライドする。図３中の２１２は移動体２２０を安定してスライドさせるためのガイド溝である。移動体２２０には図３に示すようにインクジェットヘッド３０が装備される。
尚、リニアモータ２０４、２０５とサーボモータ２２１は図４に示すように、これらを個別に直接制御して駆動するための制御部２０６に接続される。制御部２０６は制御装置１５内のＣＰＵ１５０に接続される。
また、リニアモータ２０４、２０５、サーボモータ２２１はそれぞれガントリー部２１０及び移動体２２０を移動させる機構の一例にすぎず、これらの構成は必須ではない。例えばタイミングベルト機構やボールネジ機構を利用してガントリー部または移動体の少なくともいずれかを移動させてもよい。
（インクジェットヘッド３０）
インクジェットヘッド３０は、図３に示すヘッド部３０１と、本体部３０２と、図４に示す制御部３００とを有して構成される。インクジェットヘッド３０はピエゾ方式を採用している。
本体部３０２は筐体の内部にサーボモータ３０３（図４）を内蔵する。筐体は移動体２２０に固定されている。
ヘッド部３０１は直方体の外観形状を有し、その上面の中央部付近でサーボモータ３０３のモータ軸の先端より垂下されている（図３）。これによりサーボモータ３０３のモータ軸が回転すると、ヘッド部３０１と固定ステージＳＴとの間の角度が変化する。
図５はヘッド部３０１の内部構成を示す断面図である。図５（ａ）はヘッド部３０１の長手方向に沿った断面図である。図５（ｂ）は（ａ）のＷ0−Ｗ0´矢視断面図（ヘッド部３０１の短手方向断面図）である。図５（ａ）ではヘッド部３０１で隣接する５つのインク吐出機構部３０４ａ〜３０４ｅのみを部分的に示すが、ヘッド部３０１に存在する全てのインク吐出機構部は同一構成である。以下、図５（ａ）に示す構成を例示してヘッド部３０１の構成を説明する。
ヘッド部３０１は、複数のインク吐出機構部３０４ａ〜３０４ｅを備える。インク吐出機構部３０４ａ〜３０４ｅは、フレーム部３０５０と、振動板３０４０と、圧電素子３０１０（３０１０ａ〜３０１０ｅ）とを有して構成される。インク吐出機構部３０４ａ〜３０４ｅは、ここではヘッド部３０１の長手方向に沿って一定間隔毎に複数個（一例として百〜数千個、具体例として１２８個）にわたり一列に形成される（図５（ａ））。
フレーム部３０５０は、内部に液室３０２０（３０２０ａ〜３０２０ｅ）と、ノズル３０３０（３０３０ａ〜３０３０ｅ）とを有する。フレーム部３０５０は、例えばＳＵＳ等の金属材料やセラミック材料で構成される。液室３０２０（３０２０ａ〜３０２０ｅ）と、ノズル３０３０（３０３０ａ〜３０３０ｅ）とは機械加工やエッチング、あるいは放電加工により、フレーム部３０５０の内部で一体的に形成されている。
液室３０２０（３０２０ａ〜３０２０ｅ）はノズル３０３０（３０３０ａ〜３０３０ｅ）より吐出される直前のインクの貯留空間である。液室３０２０（３０２０ａ〜３０２０ｅ）の体積は、圧電素子３０１０（３０１０ａ〜３０１０ｅ）及び振動板３０４０が液室３０２０（３０２０ａ〜３０２０ｅ）側に変形すると縮小し、圧電素子３０１０（３０１０ａ〜３０１０ｅ）及び振動板３０４０の形状が復元すると復元する。液室３０２０ａ〜３０２０ｅの各々は互いに隔壁３０７０で区画されている（図５（ａ）、図５（ｂ））。液室３０２０ａ〜３０２０ｅの各後部はインク流路３０６０と連通する。インク流路３０６０にはヘッド部３０１の外部より輸液チューブＬ1が接続される（図３）。システム１０００の駆動時には輸液チューブＬ1を通じ、外部のインクタンクからインクがインク流路３０６０に供給される。これにより各液室３０２０ａ〜３０２０ｅはインクで満たされる。
ノズル３０３０（３０３０ａ〜３０３０ｅ）はインクの吐出手段である。各ノズル３０３０ａ〜３０３０ｅはフレーム部３０５０の底面において、各液室３０２０ａ〜３０２０ｅと連通して一定のピッチで列状に形成される。ヘッド部３０１でのノズル３０３０ａ〜３０３０ｅ間のピッチは固定であるが、サーボモータ３０３のモータ軸の回転角を調節することで、塗布対象基板１００Ｐに対する相対的なノズルピッチが調節可能である。ヘッド部３０１では、ＣＰＵ１５０がサーボモータ３０３のモータ軸の回転角を制御することで、隣接する複数のノズル３０３０からなるいずれかのノズル群が塗布対象基板１００Ｐ上の所定の開口部１３の上方を走査可能に制御される。
振動板３０４０は、各液室３０２０ａ〜３０２０ｅの上方を覆うように配設される。振動板３０４０の上方には、各圧電素子３０１０ａ〜３０１０ｅが積層される。振動板３０４０は、ステンレスやニッケルからなる可撓性の薄板で構成される。従って振動板３０４０は各圧電素子３０１０ａ〜３０１０ｅの変形とともに変形する。
圧電素子３０１０（３０１０ａ〜３０１０ｅ）はピエゾ素子である。一例として圧電素子３０１０ｄは、素子本体３０１２ｄと、素子本体３０１２ｄを挟設する一対の電極３０１１ｄ、３０１３とを有してなる（図５（ｂ））。素子本体３０１２ｄは、例えばチタン酸ジルコン酸鉛等からなる板状体である。
図４に示す制御部３００は、ヘッド部３０１における圧電素子３０１０の各々を個別に駆動可能な駆動回路を備える。システム１０００の駆動時には特定の圧電素子３０１０に対し、例えば数百Ｈｚの駆動周波数で波形電圧を印加する。この電圧印加による圧電素子３０１０の変形に伴って振動板３０４０が振動し、液室３０２０の体積が減少または復元される。圧電素子３０１０の印加電圧波形としては、例えば矩形パルス電圧波形を利用できる。矩形パルス電圧を利用すれば、パルスの立ち上がり時に合わせて圧電素子３０１０が変形し、これに伴って振動板３０４０が変形して液室３０２０の体積が減少する。また、パルスの立ち下がり時に合わせて圧電素子３０１０と振動板３０４０の形状が復元し、液室３０２０の体積が復元する。液室３０２０の体積減少時に合わせてインクがノズル３０３０から吐出される。圧電素子３０１０の印加電圧波形は矩形に限定されず、ステップ状や一部曲線状を持つ波形でもよい。
尚、各圧電素子３０１０への電圧印加は、ＣＰＵ１５０が制御プログラムに基づき、塗布対象基板１００Ｐに対するヘッド部３０１の走査速度を考慮して、各圧電素子３０１０に対して所定のタイミングでいずれの波形の電圧印加を行うかを制御部３００に指示することで調整される。初期設定の一例としては、ＣＰＵ１５０が制御プログラムに基づき、各ノズル３０３０の液滴体積（ノズルから吐出される液滴の体積）を全て揃うように制御する。
また、ヘッド部３０１におけるノズル３０３０ａ〜３０３０ｅの配列は１列に限定されず、複数にわたり配列したり、複数列で且つ千鳥状に配列することもできる。
また、インクジェットヘッド３０が備えるヘッド部３０１は１個のみに限定されず、２個以上のヘッド部３０１を備えてもよい。例えば２個のヘッド部３０１を並設して本体部３０２のサーボモータ３０３の軸先端に固定することができる。尚、並設された複数のヘッド部３０１を用いて塗布対象基板１００Ｐに対するノズルピッチを調節すれば、実際のインクのピッチ（着弾インクのピッチ）は、塗布対象基板１００Ｐに対して傾斜させた２個のヘッド部３０１の各ノズルピッチを考慮した値になるため、塗布対象基板１００Ｐ上におけるノズルピッチを１個のヘッド部３０１を用いた場合よりも緻密に設定することができる。
また、ヘッド部３０１の内部に設けるインク流路３０６０は一つに限定されず、複数にわたり形成してもよい。この場合、幾つかのインク吐出機構部をグループごとに分け、グループ毎に個別の経路で外部より色や成分が異なるインクを供給してもよい。
（有機発光層形成工程の実施内容）
システム１０００を用いて有機発光層形成工程を行う場合の手順を説明する。
［システム１０００の設定］
システム１０００を用いて最初にウェットプロセスを実行する場合、オペレータは入力手段１５２を操作し、システム１０００に対して例えば以下の設定を行う。
オペレータは、塗布対象基板１００Ｐ上の開口部１３の配列情報を制御装置１５に入力する。配列情報には、行列（ＸＹ）方向の開口部１３のサイズ、行列方向（ＸＹ）の開口部１３同士のピッチ、行列（ＸＹ）方向の開口部１３の数等の情報の他、各開口部群のずれに関する情報を含む。
配列情報を入力することで、ＣＰＵ１５０は塗布対象基板１００Ｐ上の各開口部１３の位置を把握でき、且つ、ヘッド部３０１のどのノズル３０３０がどの開口部１３に対応するかを把握できる。配列情報に基づき、ＣＰＵ１５０は制御プログラムに従い、第１列と第２列の各開口部群へのインク塗布において、各列においてインク液滴を吐出するノズル３０３０と吐出しないノズル３０３０とを設定可能となる。
尚、各開口部群のずれに関する情報としては、以下のものを例示できる。当然ながらこれ以外の設定を行っても構わない。
ａ）塗布対象基板１００Ｐ上の開口部群のずれを、行（Ｘ）方向に沿ってピクセル単位とサブピクセル単位のいずれで設定するかの情報
ｂ）塗布対象基板１００Ｐ上の開口部群のずれを、行（Ｘ）方向に沿って周期的或いはランダム的のいずれで設定するかの情報（列（Ｙ）方向で切り換えるノズル数の情報を含む）
ここで、行（Ｘ）方向へのヘッド部３０１の走査において、吐出／不吐出状態を切り換えるノズルの数は適宜調整が可能である。目安の一つとして、通常の有機発光層形成工程を考慮すると、列（Ｙ）方向の各開口部１３のピッチの１０％以上５０％以下のずれ量の範囲で各開口部１３を配置することで、各開口部１３の位置に合わせて走査時に切り換えるノズル数を調節できる。
尚、ヘッド部３０１の走査時に切り換えるノズル数を増大させると、その分、インクの液滴体積に誤差を生じたノズル３０３０がノズル群の切り換えに伴って切り換えられる可能性も高まる。これにより一層、筋ムラの発生防止を効果的に図れるため望ましい。
或いは、各開口部１３に吐出するインク液滴の着弾ピッチを増大させ、１の開口部１３に対応してインク液滴を吐出させるノズル３０３０の数を減らすことで、ノズル群の切り換えに伴って切り換えるノズル数を減らすこともできる。この場合でも、第１列と第２列との開口部群の配置のずれ量は、少なくとも着弾ピッチ以上で且つ列（Ｙ）方向の各開口部１３のピッチの５０％以下に設定することが望ましい。
具体的には有機発光層形成工程において、１の開口部１３当たり７〜１０個程度のノズル３０３０を含むノズル群によりインク液滴を吐出させる場合を考えると、ノズル群の切り換えに伴って切り換えるノズル３０３０の数としては、１個〜３個程度の範囲が適当であると考えられる。
［システム１０００の準備］
システム１０００の設定が完了したら、オペレータは固定ステージＳＴの上に塗布対象基板１００Ｐを載置する。この際、オペレータはインクジェットテーブル２０に対する塗布対象基板のアライメントを的確に行う。
オペレータからの入力情報に基づき、ＣＰＵ１５０は制御部３００を介し、サーボモータ３０３のモータ軸を一定角度に回転駆動させて、固定ステージＳＴに対するヘッド部３０１の角度を設定する。
ここで図６に、インク塗布を実施する際のインクジェットヘッド３０（ヘッド部３０１）と塗布対象基板１００Ｐとの配置関係を例示する。図６では、ヘッド部３０１の長手方向を塗布対象基板１００Ｐの列（Ｙ）方向と一定角度で交差するように傾斜させた状態とし、行（Ｘ）方向にヘッド部３０１を走査してインク液滴を描画する場合を示す。塗布対象基板に対してヘッド部３０１を傾斜すれば、各開口部１３に対するインク液滴の実際のピッチ（着弾ピッチ）を狭く調節できる。このようなインク液滴の実際のピッチ（着弾ピッチ）の調整は、塗布対象基板１００Ｐ及び開口部１３の規格やサイズ等の条件に合わせて適宜行うことができる。
尚、塗布対象基板１００Ｐに対するヘッド部３０１の角度調整を行うタイミングは、実際に塗布対象基板１００Ｐにインクを塗布する前であればよい。
オペレータは、組成を調整したインクをインクタンクに貯留させ、ポンプを起動させる。輸液チューブＬ1を通してインクをヘッド部３０１内の液室３０２０に密に充填させる。
オペレータは制御装置１５を操作し、ヘッド部３０１をインクパン６０の上に移動させる。この状態でオペレータは、ＣＰＵ１５０に制御プログラムに基づき、制御部３００を介し、各圧電素子３０１０に電圧印加して、各ノズル３０３０からインクパン６０にインクを吐出させる。
尚、システム１０００において液滴観察装置を用いる場合は、ノズル３０３０から吐出されるインク状態をＣＣＤカメラで撮影し、ＣＰＵ１５０によりリアルタイムで表示手段１５３に表示させることができる。オペレータは表示手段１５３で全てのノズルから正しくインクが吐出されているかを確認し、インクの吐出が安定化するまで吐出を継続させる。
次にオペレータは、ＣＰＵ１５０に制御プログラムに基づき、ノズル３０３０から吐出されるインクの液滴体積が一定になるように、各ノズル３０３０の印加電圧値を予め定められた電圧値（初期電圧値）に設定させる。
［塗布工程の実行指示］
システム１０００の準備を完了した後、オペレータはシステム１０００に塗布工程を実行するように指示する。
ＣＰＵ１５０は制御プログラムに基づき、制御部２０６を介してリニアモータ２０４、２０５、サーボモータ２２１を駆動制御する（図４）。これによりＣＰＵ１５０は、図６に示すように塗布対象基板１００Ｐに対し、行（Ｘ）方向に沿ってヘッド部３０１を走査させる。ＣＰＵ１５０は走査中のヘッド部３０１における特定のノズル３０３０に所定のタイミングで、パルス電圧を印加し、各開口部１３に対して間欠的にインク液滴を吐出させる。ＣＰＵ１５０はヘッド部３０１を走査させ、同一色のインクを吐出すべき全ての開口部１３に対して所定量のインクを吐出する。所定の開口部１３にインクを全て吐出させたら、ヘッド部３０１より吐出するインクを切り換える。その後は、上記と同様の手順で、異なる色のインクを別の開口部１３に吐出する。
［有機発光層形成工程］
システム１０００を用いた有機発光層形成工程の実施の様子を図６〜図８、図９（ａ）、図１０（ａ）を用いて具体的に説明する。図７（ａ）、図７（ｂ）は、同順に図６に示す第１列（Ｗ1−Ｗ1´線に沿った列）と、第２列（Ｗ2−Ｗ2´線上に沿った列）とにおける塗布対象基板１００Ｐの断面図を示す。図７（ａ）、図７（ｂ）はノズル番号ｎ1〜ｎ22のノズル３０３０を制御する場合を例示するが、実際にはヘッド部３０１の全ノズル３０３０が制御対象とされる。図１０（ａ）は塗布時の塗布対象基板１００Ｐの様子を示す拡大正面図である。図１０（ａ）では番号ｎ4〜ｎ9のノズル群（第１ノズル群）を使用する場合のモードを「Ａ」と称する。また番号ｎ5〜ｎ10のノズル群（第２ノズル群）を使用する場合のモードを「Ｂ」と称する。「ＬR」、「ＬG」、「ＬB」は、同順にＲ、Ｇ、Ｂ各色の開口部群の列（Ｙ）方向の配列（以下、「列（Ｙ）方向ライン」と称する。）である。図１０（ａ）では便宜上、ノズル番号は図６の図示分の一部のみを示す。図１０（ａ）中の黒丸はインク液滴８を吐出するノズル番号を示す。
図６に示すようにヘッド部３０１が行（Ｘ）方向に走査され、図７（ａ）に示すようにＷ1−Ｗ1´線が横断する各開口部１３Ｒの位置（図１０（ａ）のラインＬR1に相当）にまでヘッド部３０１が移動すると、ＣＰＵ１５０は制御プログラムに基づき、モード「Ａ」のノズル３０３０を使用する。すなわち図７（a）、図１０（ａ）に示すように、番号ｎ4〜ｎ9、ｎ14〜ｎ19のノズル３０３０が駆動対象のノズル３０３０に割り当てられる。ＣＰＵ１５０は番号ｎ4〜ｎ9、ｎ14〜ｎ19の各ノズル３０３０を駆動し、パルス電圧を印加して、開口部１３Ｒの内部に赤色（Ｒ）のインク液滴８を吐出させる。一方、ＣＰＵ１５０はこれ以外の図１０（ａ）に示すノズル３０３０を駆動しない。具体的には、ｎ4〜ｎ9、ｎ14〜ｎ19のノズル３０３０をＯＮ制御し、ｎ1〜ｎ3、ｎ10〜ｎ13のノズル３０３０をＯＦＦ制御する。
次に、図７（ｂ）に示すようにＷ2−Ｗ2´線が横断する各開口部１３Ｒの位置（図１０（ａ）のラインＬR2に相当）にまでヘッド部３０１が移動すると、ＣＰＵ１５０は制御プログラムに基づき、モード「Ｂ」のノズル３０３０を使用する。すなわち図７（ｂ）、図１０（ｂ）に示すように、番号ｎ5〜ｎ10、ｎ15〜ｎ20のノズル３０３０が駆動対象のノズル３０３０に割り当てられる。ＣＰＵ１５０は番号ｎ5〜ｎ10、ｎ15〜ｎ20のノズル３０３０を駆動し、パルス電圧を印加して、開口部１３Ｒの内部にインク液滴８を吐出させる。一方、ＣＰＵ１５０はこれ以外の図１０（ａ）に示すノズル３０３０駆動しない。具体的には、ｎ5〜ｎ10、ｎ15〜ｎ20のノズルをＯＮ制御し、ｎ1〜ｎ4、ｎ11〜ｎ14のノズル３０３０をＯＦＦ制御する。
以降、走査中のヘッド部３０１が列（Ｙ）方向ラインＬR3、ＬR4、ＬR5、ＬR6、ＬR7、・・・の上に位置するたびに、ＣＰＵ１５０は同順にモード「Ａ」、モード「Ｂ」を相互に切り換え、定められたノズル３０３０を駆動対象とし、インク液滴８を開口部１３に吐出する。
図１０（ａ）に示すように、塗布対象基板１００Ｐ上の対応する全ての列（Ｙ）方向ラインＬR3、ＬR4、ＬR5、ＬR6、ＬR7、・・・の開口部１３に赤色（Ｒ）のインクを塗布し終わったら、次にＣＰＵ１５０は上記と同じ動作に基づき、緑色（Ｇ）のインクを列（Ｙ）方向ラインＬG1、ＬG2、ＬG3、・・・の各開口部１３に対して吐出する。さらにＣＰＵ１５０は同じ動作に基づき、青色（Ｂ）のインクを列（Ｙ）方向ラインＬB1、ＬB2、ＬB3、・・・の各開口部１３に対して塗布する。塗布対象基板１００Ｐ上の全開口部１３に吐出されたインク液滴８（図８）の溶媒を乾燥除去することで、各有機発光層９が形成される（図９（ａ））。
上記した有機発光層形成工程の例では、番号ｎ1、ｎ4、ｎ10、ｎ14、ｎ20のノズル３０３０の使用状態をヘッド部３０１の走査中に切り換える。このため、番号ｎ1、ｎ4、ｎ10、ｎ14、ｎ20のいずれかのノズル３０３０がインクの液滴体積に誤差を有している場合には、モード「Ａ」とモード「Ｂ」の切り換えによって、インクの液滴体積の誤差を分散させることができ、行（Ｘ）方向に並ぶ同色の開口部１３に同一の誤差量の液滴体積のインクが連続して吐出されるのを防止できる。
塗布対象基板１００Ｐ上の全ての開口部１３にインクを吐出した後、溶媒乾燥を経ることで有機発光層９が形成される。
このように有機発光層形成工程では、行（Ｘ）方向にヘッド部３０１を走査して各開口部１３にインク液滴８を塗布する際、行（Ｘ）方向に並ぶ開口部１３に対応して用いるノズル３０３０のノズル群を、列（Ｙ）方向ライン毎に切り換える。従って、ヘッド部３０１において、インクの液滴体積に誤差を有するノズル３０３０が存在する場合であっても、ノズル群を切り換えた際にインクの液滴体積の誤差を有するノズル３０３０が切り換えられる場合には、行（Ｘ）方向に並ぶ開口部１３に対応して、連続して同じ誤差量の液滴体積のインクが吐出されるのを低減できる。これにより、ノズル３０３０のインクの液滴体積の誤差を個々の列（Ｙ）方向ライン毎で異なるように分散できる。
従って、この有機発光層形成工程によって有機発光層９を形成した有機ＥＬ表示パネル１００では、インクの液滴体積に誤差を生じたノズル３０３０を用いたことにより、同じ膜厚誤差を生じた有機発光層９が行（Ｘ）方向のある線上に並んで連続して形成されるのが低減される。これにより駆動時における筋ムラの発生が抑制され、良好な画像表示性能を期待できる。
＜効果確認試験＞
実施の形態１の効果をシミュレーションで確認する試験を行った。この試験内容と結果考察について図１３、図１４を参照しながら説明する。
［試験内容］
本実験では、第１列の開口部群と第２列の開口部群を、互いにずらさないで配置した有機ＥＬ表示パネル（従来例）、インクジェットヘッドの１ノズル分だけずらして配置した有機ＥＬ表示パネル（適用例１）、インクジェットヘッドの２ノズル分だけずらして配置した有機ＥＬ表示パネル（適用例２）、インクジェットヘッドの３ノズル分だけずらして配置した有機ＥＬ表示パネル（適用例３）を評価対象とした。各パネルは、列（Ｙ）方向に１００ピクセル、行（Ｘ）方向に２００ピクセルを有する構成とした。インクジェットヘッドは、１開口部当たり１０個のノズルを対応させるように設定した。
インクジェットヘッドに配設された全ノズル（合計１５００個）のインクの液滴体積の誤差ばらつきを±１０％の範囲に設定し、その平均値を基準値１とした。これにより個々のノズルの液滴体積のばらつき（相対ずれ量）を、基準値１．００に対する比率（０．９１〜１．０８）の範囲で規格化して正規分布させた。このインクジェットヘッドを用いて各パネルにインク塗布を行った。
［結果考察］
次にシミュレーション結果を考察する。
従来例と各適用例１〜３の各パネルに対し、各相対ずれ量の範囲で発生する筋ムラを模式的にマッピングした結果を、同順に図１３（ａ）〜（ｄ）に示す。
図１３（ａ）の従来例に示すように、すべての開口部群同士のずれが無い場合、インクジェットヘッドの全ノズルのインクの液滴体積の誤差が各行方向に並ぶ複数の開口部で共通する。このため、各規格分布の範囲において、明らかな筋ムラが多数生じているのを確認できる。
これに対し、図１３（ｂ）〜１３（ｄ）の適用例１〜３に示すように、行方向に並ぶ開口部のずれ量があると筋ムラのパターンがギザギザになり、行方向に連続しにくくなるのを確認できる。この効果は開口部のずれ量が大きくなるほど顕著になる。これは列方向の開口部群のピッチを行方向で異ならせることで、ノズルのインクの液滴体積の誤差が行方向の各開口部で連続するのが防止されたためであると考えられる。
尚、筋ムラの防止効果は、開口部のずれ量が最も大きい図１３（ｄ）において最も高く得られている。これにより、開口部のずれ量の増大に伴い、筋ムラの発生を効果的に抑制できることが推測される。しかしながら、あまり開口部のずれ量を大きくすると、行方向での各ピクセルの並びが必要以上にばらつくため、注意が必要である。
従来例と各適用例１〜３の各パネルに対し、列方向全１００ピクセル間のインク体積ばらつき（筋ムラの程度を示す数値）を比較した結果を図１４に示す。同一行方向２００ピクセル分の各開口部に対するインク吐出量の平均値を列方向各ピクセルのインク体積とし、列方向全１００ピクセルのインク体積の平均値をＡ、３σ（σは標準偏差）をＢとすると、Ｂ／Ａ（％）を、「インク体積ばらつき」として示すことができる。インク体積ばらつき（％）が大きいほど、列方向の開口部群でインク吐出量の誤差のばらつきが大きい、すなわち筋ムラの程度が悪いことを示す。
図１４に示すように、従来例ではインク体積のばらつきが最も高い結果となった。この原因として、従来例では行方向に並ぶ各開口部に対して同一に割り当てられたノズル群でインクを塗布するため、列方向の開口部間において、ある特定の位置の開口部だけに液滴体積の誤差を含むインクが吐出されることが考えられる。このため、列方向の開口部群で見ると、各開口部のインクの液滴体積の誤差ばらつきが大きくなり易いことが考えられる。一方、適用例１〜３では、行方向に並ぶ各開口部に対し、異なるノズル群でインクを塗布するため、列方向の開口部間において、ある開口部だけに液滴体積の誤差を含むインクが吐出されるのが防止される。これにより、インク体積のばらつきが従来例に比べて小さく抑えられた結果が得られたと考えられる。
以上の結果より、従来例に対する本発明の実施の形態１の優位性を確認できた。
＜開口部の配列パターンのバリエーションに係る実施の形態＞
以下、開口部の配列パターンのバリエーションに係る本発明の実施の形態２〜６について、図１０（ｂ）〜図１２を用いて説明する。各図の符号の表記方法は図１０（ａ）と共通する。各図中、「Ｂ」、「Ｃ」、「Ｄ」は、それぞれ同順に、基準となるモード「Ａ」に対して列（Ｙ）方向にノズル１個分、２個分、３個分ずれた各ノズル群を切り換えてインク液滴を塗布する各モードを示す。図中のライン上にある数字はノズル３０３０のずれ個数を示す。
［実施の形態２］
図１０（ｂ）は実施の形態２に係る開口部の配列パターンを示す。図１０（ｂ）に示す実施の形態２は、塗布対象基板１００Ｐ1上において、行（Ｘ）方向に赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の各発光色に対応するサブピクセル毎で、互いに千鳥状に開口部１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂを配置調整させた例である。有機発光層形成工程では千鳥状吐出プロセスに基づき、ヘッド部３０１の走査中にモード「Ａ」と「Ｂ」とを各サブピクセルに対応する列（Ｙ）方向ラインＬR1、ＬG1、ＬB1、・・・毎に切り換えて実施する。
このような実施の形態２においても、実施の形態１と同様の効果を期待できる。また行（Ｘ）方向で隣接する開口部１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂの位置が全てずれているので、筋ムラの発生を一層防止できる。
［実施の形態３］
図１１（ａ）は実施の形態３に係る開口部の配列パターンを示す。図１１（ａ）に示す実施の形態３は、塗布対象基板１００Ｐ2上において、行（Ｘ）方向で隣接して連続する２つのピクセル単位を一組とし、この一組の連続内では開口部１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂの各位置が揃うように調整し、隣接する一組間ではモード「Ａ」とモード「Ｂ」とを切り換え、各開口部１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂの位置を互いに階段状に配置調整させた例である。有機発光層形成工程は階段状吐出プロセス基づき、２つのモード「Ａ」と「Ｂ」とを隣接する２ピクセル毎に切り替えて実施する。
このような実施の形態３においても、実施の形態１と同様の効果を期待できる。また行（Ｘ）方向における各開口部１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂの位置のずれを比較的少なくできるため、走査中のモードの切り替えによるヘッド部３０１の位置変更が少なくてすみ、安定してインクを吐出できる利点がある。
尚、実施の形態３では隣接する２つのピクセル単位を一組としたが、組に含めるピクセル単位としては、例えば２以上１００以下とすることも可能である。このような各ピクセルの配設もバンク層７のパターニングを適宜調節することで実現可能である。
［実施の形態４］
図１１（ｂ）は、実施の形態４に係る開口部の配列パターンを示す。図１１（ｂ）に示す実施の形態４は、塗布対象基板１００Ｐ3上において、行（Ｘ）方向に隣接するピクセル単位でノズルずれ個数を３段階で徐々に増加させ、その後はノズルずれ個数を一気に０まで戻し、以降はこのノズルずれ個数の変化を繰り返す階段状パターンとして各開口部１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂを配置調整させた例である。有機発光層形成工程は階段状吐出プロセスに基づき、１ピクセル毎に４つのモード「Ａ」〜「Ｄ」を順次切り換えて実施する。
このような実施の形態４においても、実施の形態１と同様の効果を期待できる。また実施の形態４では、モード「Ａ」〜「Ｄ」を切り換えることで、ヘッド部３０１の走査中に番号ｎ1、ｎ2、ｎ4、ｎ5、ｎ10、ｎ11、ｎ12の比較的多数のノズルを切り換えることができる。従って、インクの液滴体積の誤差を有するノズルを高確率で切り換えて使用することができるので、良好な筋ムラ防止効果を期待できる。
［実施の形態５］
図１２（ａ）は、実施の形態５に係る開口部の配列パターンを示す。図１２（ａ）に示す実施の形態５は、塗布対象基板１００Ｐ4上において、行（Ｘ）方向に隣接するピクセル単位で、ランダムに開口部１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂの配置位置をずらした例である。ここではノズルずれ個数を３個以内の範囲で分散させている。有機発光層形成工程はランダム吐出プロセスに基づき、１ピクセル毎に４つのモード「Ａ」〜「Ｄ」をランダムに切り換えて実施する。開口部１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂの配置位置のランダム性については特に限定されない。ノズルずれ個数も３個より多くてもよい。開口部１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂの配置位置のずれ量の範囲は、少なくとも着弾ピッチ以上、列（Ｙ）方向の開口部ピッチの５０％以下の範囲とする。また、行（Ｘ）方向に並ぶ開口部のずらし方についてもピクセル単位に限定されず、サブピクセル単位で行うことができる。
このような実施の形態５においても、実施の形態１と同様の効果を期待できる。さらに実施の形態５では、実施の形態４と同様にモード「Ａ」〜「Ｄ」を切り換え、番号ｎ4、ｎ5、ｎ10、ｎ11、ｎ12の比較的多数のノズルを切り換え可能であり、良好な筋ムラ防止効果を期待できる。
［実施の形態６］
図１２（ｂ）は、実施の形態６に係る開口部の配列パターンを示す。図１２（ｂ）に示す実施の形態６は、塗布対象基板１００Ｐ5上において、行（Ｘ）方向に隣接するピクセル単位でノズルずれ個数を徐々に３段階まで増加させ、その後はノズルずれ個数を徐々に３段階まで減少させて０に戻し、以降はこのノズルずれ個数の変化を繰り返す階段状（波状）パターンとして各開口部１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂを配置調整させた例である。有機発光層形成工程は階段状吐出プロセスに基づき、１ピクセル毎に４つのモード「Ａ」「Ｂ」「Ｃ」「Ｄ」を順に切り換えて実施した後、逆順にモード「Ｃ」「Ｂ」「Ａ」を切り換えて実施する。
このような実施の形態６においても、実施の形態１と同様の効果を期待できる。さらに実施の形態６では、実施の形態４と同様にモード「Ａ」〜「Ｄ」を切り換えることで、番号ｎ4〜ｎ6、ｎ10〜ｎ12の比較的多数のノズルを切り換え可能であり、良好な筋ムラの防止効果を期待できる。
＜その他の実施の形態＞
［実施の形態７］
図１５は、実施の形態７に係る有機ＥＬ表示パネル１００Ａにおいて第１列の開口部群に対応して形成された第１ピクセルＰｉｘ1の各有機ＥＬ素子１１（１１Ｒ、１１Ｇ、１１Ｂ）と、第１列と行（Ｘ）方向で隣接する第２列の開口部群に対応して形成された第２ピクセルＰｉｘ2の各有機ＥＬ素子１１´（１１Ｒ´、１１Ｇ´、１１Ｂ´）とを示す模式的な部分拡大図である。図１６（ａ）は図１５における有機ＥＬ素子１１Ｒ周辺のＹ1−Ｙ1´矢視断面図である。図１６（ｂ）は図１５における有機ＥＬ素子１１Ｒ´周辺のＹ2−Ｙ2´矢視断面図である。
有機ＥＬ表示パネル１００Ａが有機ＥＬ表示パネル１００と異なる点は、各有機ＥＬ素子１１、１１´において、各開口部１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂの列（Ｙ）方向に沿った周縁の両端の少なくとも一端側となる領域で、第１電極２と有機発光層９との間に画素規制層１４（図１５では、発光領域１６Ａ、１６Ｂに対向する周縁を２点鎖線で示す）を配設した点である（図１５、図１６（ａ）、図１６（ｂ））。画素規制層１４は有機または無機の絶縁性材料で構成される。このため有機ＥＬ素子１１、１１´において画素規制層１４がある領域は非発光領域となり、画素規制層１４がない領域は同順に発光領域１６Ａ、１６Ｂとなる。画素規制層１４は、有機ＥＬ素子１１では紙面下方、有機ＥＬ素子１１´では紙面上方の位置にそれぞれ対応して設けられている（図１５）。
ここで図１５に示すように、行（Ｘ）方向で隣接する第１ピクセルＰｉｘ1と第２ピクセルＰｉｘ2とにおいて、各画素規制層１４の配置位置を調整することにより、第１ピクセルＰｉｘ1の各有機ＥＬ素子１１（１１Ｒ、１１Ｇ、１１Ｂ）に対応する各第１発光領域１６Ａと、第２ピクセルＰｉｘ2の各有機ＥＬ素子１１´（１１Ｒ´、１１Ｇ´、１１Ｂ´）に対応する各第２発光領域１６Ｂの長手（Ｙ）方向長を同一に設定しつつ、行（Ｘ）方向に沿った発光領域１６Ａ、１６Ｂの各位置が揃うように設定する。これにより図１６（ａ）、図１６（ｂ）において点線で示すように、Ｙ方向に沿って、同一の幅Ｑ1を有する第１ピクセルＰｉｘ1の各発光領域（第１発光領域）１６Ａと、第２ピクセルＰｉｘ2の各発光領域（第２発光領域）１６Ｂとが、列（Ｙ）方向で同じ位置に整列される。有機ＥＬ表示パネル１００Ａでは、全ピクセルの各発光領域が、第１ピクセルＰｉｘ1及び第２ピクセルＰｉｘ2の各発光領域と同様に、行（Ｘ）方向に沿って整列されている。
また図１５に示す例では、各開口部１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂは列（Ｙ）方向を長手とする楕円形状の周縁を有する。従って発光領域１６Ａ、１６Ｂに近接する画素規制層１４の周縁形状も、開口部１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂの周縁形状と略同一の形状となるように形成している。これは有機ＥＬ表示パネル１００Ａの全体における各発光領域１６Ａ、１６Ｂの形状を揃え、良好な画像表示性能を得るためである。
このような構成を有する有機ＥＬ表示パネル１００Ａにおいても、実施の形態１と同様の効果を期待できる。さらに、第１ピクセルＰｉｘ1と第２ピクセルＰｉｘ2の各開口部群を列（Ｙ）方向で互いにずらして配置させても、発光領域１６Ａ、１６Ｂの位置はずれずに整列した状態で保持される（図１５）。従って、行列（ＸＹ）方向に整列された発光領域１６Ａ、１６Ｂを有する有機ＥＬ素子１１、１１´によって、輝度ムラの少ない優れた画像表示性能を期待することが可能である。
尚、図１５と図１６の例では、各有機ＥＬ素子１１、１１´の長手（Ｙ）方向両端の一方のみに画素規制層１４を設けたが、各有機ＥＬ素子１１、１１´の長手（Ｙ）方向両端に画素規制層１４を設けてもよい。但し、この場合は長手（Ｙ）方向に沿った発光領域１６Ａ、１６Ｂのサイズが過度に小さくならないように注意する。
以下、画素規制層１４を配設する方法を例示する。第１電極６を形成した後（図２（ｃ））、有機発光層９を形成する前（バンク層７を形成する前が好適である。）において、フォトレジスト法に基づき、各開口部１３の所定位置に上記した絶縁性有機材料或いは絶縁性無機材料を含むペーストを塗布し、パターニングする。これにより画素規制層１４を配設することができる。
尚、当然ながら開口部１３のサイズを小さくすると、これに合わせて有機ＥＬ素子１１、１１´を発光させる際の必要輝度は高くなる。一般に、有機ＥＬ素子の輝度を挙げると素子寿命は短くなる。従って開口部１３のサイズを設定する際は、素子寿命と必要輝度のバランスを考慮することが重要である。この点、例えば、画素における有効発光面積である開口率が半分になると、有効発光面積当りの輝度は２倍必要となる。その場合、輝度加速度係数（一般的には１．６〜１．８程度）から鑑みると、素子寿命は２９〜３３％程度になると見積もることができる。しかしながら、発光層に用いられる材料の寿命特性の改善により、上記素子寿命は許容できる範囲であり、即ち、開口部１３の面積を半分にすることも許容できると考えられる。
上記の点、及び現状の有機ＥＬ表示パネルの規格その他を考慮すると、一例として画素規制層１４のＹ方向長は、各開口部１３の列（Ｙ）方向長の７０％未満の範囲とすることができる。特に各開口部１３の列（Ｙ）方向長の４０％未満の範囲とすると、発光領域１６Ａ、１６Ｂで必要輝度を確保する観点において好適である。
言い換えると、列（Ｙ）方向に沿って、開口部１３内の発光領域１６Ａ、１６Ｂの各長さを、少なくとも開口部１３の長さの３０％以上とすることができる。また、列（Ｙ）方向に沿って、開口部１３内の発光領域１６Ａ、１６Ｂの各長さを開口部１３の長さの６０％以上にすれば好適である。
［実施の形態８］
図１７は、実施の形態８に係る有機ＥＬ表示パネル１００Ｂにおいて第１列の開口部群に対応して形成された第１ピクセルＰｉｘ1の各有機ＥＬ素子１１（１１Ｒ、１１Ｇ、１１Ｂ）と、第１列と行（Ｘ）方向で隣接する第２列の開口部群に対応して形成された第２ピクセルＰｉｘ2の各有機ＥＬ素子１１´（１１Ｒ´、１１Ｇ´、１１Ｂ´）とを示す模式的な部分拡大図である。図１８（ａ）は図１７における有機ＥＬ素子１１Ｒ周辺のＹ1−Ｙ1´矢視断面図である。図１７（ｂ）は図１７における有機ＥＬ素子１１Ｒ´周辺のＹ2−Ｙ2´矢視断面図である。
有機ＥＬ表示パネル１００Ｂが有機ＥＬ表示パネル１００と異なる点は、第２電極１０の上方に封止層１７を形成し、封止層１７の上方にＣＦ基板１８を配設した点である（図１８（ａ）、図１８（ｂ））。ＣＦ基板１８は、有機ＥＬ素子１１の位置に対応して配された透光性領域１９ａと、透光性領域１９ａ以外の位置に配された遮光性のブラックマトリクス１９ｂとを有する（図１７）。これにより、各有機ＥＬ素子１１、１１´はブラックマトリクス１９ｂで囲繞される。
ここで、透光性領域１９ａのＹ方向に沿った幅Ｑ2は、各開口部１３の列（Ｙ）方向長より狭く設定される。また各透光性領域１９ａは、ＣＦ基板１８において、行（Ｘ）方向に沿った位置に整列して設けられる（図１８（ａ）、図１８（ｂ））。このとき、各有機ＥＬ素子１１、１１´において、開口部１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂの列（Ｙ）方向に沿った両端の少なくとも一方がブラックマトリクス１９ｂで覆われる。図１７では、有機ＥＬ素子１１、１１´は、同順に紙面下方、紙面上方の各領域がブラックマトリクス１９ｂで覆われる。また、発光領域１６Ａ、１６Ｂに近接する透光性領域１９ａの周縁形状も、開口部１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂの周縁形状と略同一の形状となるように形成される。
尚、開口部１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂと重なるブラックマトリクス１９ｂのＹ方向長の具体的な値は、例えば実施の形態７の画素規制層１４のＹ方向長と同様の値とする。すなわち各開口部１３の列（Ｙ）方向長の７０％未満の範囲とする。特に各開口部１３の列（Ｙ）方向長の４０％未満の範囲とすると、必要輝度を確保できる観点において好適である。
これにより列（Ｙ）方向に沿って、開口部１３内の発光領域１６Ａ、１６Ｂの各長さを、少なくとも開口部１３の長さの３０％以上にできる。また好適な値として、列（Ｙ）方向に沿って、開口部１３内の発光領域１６Ａ、１６Ｂの各長さを開口部１３の長さの６０％以上にすることができる。
これにより有機ＥＬ表示パネル１００Ｂを正面から見た場合、実施の形態７の有機ＥＬ表示パネル１００Ａのように、列（Ｙ）方向幅Ｑ2を有し、且つ同一形状の発光領域１６Ａ、１６Ｂが、行（Ｘ）方向で整列されて配置される。
このような構成を有する有機ＥＬ表示パネル１００Ｂにおいても、各有機ＥＬ素子１１、１１´の発光領域１６Ａ、１６Ｂが透光性領域１９ａ及びブラックマトリクス１９ｂによって規制され、行（Ｘ）方向で整列される。従って実施の形態７の有機ＥＬ表示パネル１００Ａとほぼ同様の効果を期待できる。
さらに有機ＥＬ表示パネル１００Ｂは、基板１側とは別途にＣＦ基板１８を用意して構成することができる。従って、例えばすでに製造された有機ＥＬ表示パネル１００を利用して比較的容易に実現できる利点を有する。
＜その他の事項＞
上記実施の形態では、ガントリー式のインクジェットテーブル２０を用いる例を示したが、本発明はこれに限定しない。例えばインクジェットヘッド３０の各位置を固定し、塗布対象基板をＸＹテーブルに載置して、インクジェットヘッド３０に対して相対的に塗布対象基板を移動させることにより、インクを塗布することもできる。
本発明は、携帯電話用のディスプレイやテレビなどの表示素子、各種光源などに使用される有機ＥＬ素子及びこれを利用した有機ＥＬ表示パネルとその製造方法として利用可能である。いずれの用途においても、表示ムラの少ない良好な発光特性または画像表示性能を発揮することのできる有機ＥＬ素子や有機ＥＬ表示パネルを期待することが可能である。
ｎ1〜ｎ22 ノズル番号
Ｐｉｘ1 第１ピクセル
Ｐｉｘ2 第２ピクセル
１ 基板
２ ＴＦＴ層
３ 給電電極
４ 平坦化膜
５ コンタクトホール
６ 第１電極（陽極）
７ バンク層
８ インク液滴
９ 有機発光層
１０ 第２電極（陰極）
１１、１１Ｒａ〜１１Ｒｃ、１１Ｒ、１１Ｇ、１１Ｂ、１１Ｒ´、１１Ｇ´、１１Ｂ´ 有機ＥＬ素子（サブピクセル）
１２、１２´ 窪み部
１３、１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂ 開口部（素子形成予定領域）
１４ 画素規制層
１５ 制御装置
１６Ａ、１６Ｂ 発光領域
１７ 封止層
１８ ＣＦ基板
１９ａ 透光性領域
１９ｂ ブラックマトリクス
２０ インクジェットテーブル
３０ インクジェットヘッド
１００、１００Ａ、１００Ｂ 有機ＥＬ表示パネル
１００Ｐ、１００Ｐ1〜１００Ｐ5、１００ＰＸ 塗布対象基板
１５０ ＣＰＵ
１５１ 記憶手段（メモリ）
１５２ 表示手段（ディスプレイ）
２００ 基台
２０６、３００ 制御部
２１０ ガントリー部
２２０ 移動体
３０１ ヘッド部
３０２ 本体部
３０３ サーボモータ
３０４ａ〜３０４ｅ インク吐出機構部
１０００ インクジェット装置システム
３０１０、３０１０ａ〜３０１０ｅ 圧電素子（ピエゾ素子）
３０２０、３０２０ａ〜３０２０ｅ 液室
３０３０、３０３０ｂ〜３０３０ｄ ノズル
３０５０ フレーム部
３０６０ インク流路
３０７０ 隔壁

Claims (19)

  1. 基板の上方に、複数の第１電極を前記基板の表面の行列方向に沿って形成する第１電極形成工程と、
    前記基板の上方に、前記各第１電極の少なくとも一部を個別に露出する複数の開口部を存在させてバンク層を形成するバンク層形成工程と、
    複数のノズルを有するインクジェットヘッドと前記基板の少なくともいずれかを移動させることで、前記インクジェットヘッドと前記基板とを行方向に相対移動させ、各ノズルがいずれかの前記開口部と対向する際に、前記各ノズルより前記対向する前記開口部の内部にインク液滴を吐出し、有機発光層を形成する有機発光層形成工程と、
    前記各有機発光層の上方に第２電極を形成する第２電極形成工程とを有し、
    前記バンク層形成工程では、前記複数の開口部のうち、第１列の開口部群と第２列の開口部群とが、列方向に沿って前記開口部のピッチの半分以下の距離差で互いにずれて存在するように前記バンク層を形成し、
    前記複数のノズルには第１ノズル群と第２ノズル群とが含まれ、
    前記有機発光層形成工程では、前記第１列の開口部群に含まれる前記各開口部上を前記インクジェットヘッドが移動する際には前記第１ノズル群より前記インク液滴を吐出し、
    前記第２列の開口部群に含まれる前記各開口部上を前記インクジェットヘッドが移動する際には前記第２ノズル群より前記インク液滴を吐出するように、前記第１ノズル群と前記第２ノズル群とを切り換えて使用する
    有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
  2. 前記バンク層形成工程において、
    前記距離差は、列方向の前記開口部ピッチの１０％以上５０％以下の距離の差とする
    請求項１に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
  3. 前記有機発光層形成工程では、
    行方向で隣接する前記各開口部の内部に対し、互いに発光色が異なる前記インク液滴を吐出することにより第１、第２、第３の各有機発光層を形成し、
    前記第１の開口部群と前記第２の開口部群の前記各開口部には、前記第１、第２、第３の各有機発光層のうち、いずれか同一発光色の前記有機発光層を形成する
    請求項１に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
  4. 前記バンク層形成工程では、
    前記第１、第２、第３の各有機発光層を形成予定の各開口部に前記第１列の開口部群と前記第２列の開口部群とを存在させ、
    且つ、内部に前記第１、第２、第３の各有機発光層を同順に形成予定で行方向に隣接する３つの前記各開口部を１組とするとき、前記１組内では前記各開口部の配置が揃うように前記バンク層を形成する
    請求項３に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
  5. 前記バンク層形成工程では、
    前記１組の前記各開口部を行方向に２組以上１００組以下にわたり連続して存在させる請求項４に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
  6. 前記バンク層形成工程では、
    前記第１列の開口部群と前記第２列の開口部群とを行方向で隣接して存在させる
    請求項１に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
  7. 前記バンク層形成工程では、
    前記第１列の開口部群と前記第２列の開口部群とを行方向に繰り返し存在させ、前記第１列の開口部群中の前記各開口部と前記第２列の開口部群中の前記各開口部とを互いに千鳥状にずれるように存在させる
    請求項１に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
  8. 前記バンク層形成工程では、
    前記第１列の開口部群と前記第２列の開口部群とを行方向に繰り返し存在させ、前記第１列の開口部群中の前記各開口部と前記第２列の開口部群中の前記各開口部とを互いに階段状にずれるように存在させる
    請求項１に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
  9. 前記バンク層形成工程では、
    前記第１列の開口部群と前記第２列の開口部群とを行方向に繰り返し存在させ、前記第１列の開口部群中の前記各開口部と前記第２列の開口部群中の前記各開口部とを互いにランダム状にずれるように存在させる
    請求項１に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
  10. 前記有機発光層形成工程で使用するインクジェットヘッドは、前記第１ノズル群と前記第２ノズル群とにそれぞれ属するノズルの個数が１０個以下である
    請求項１に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
  11. 前記インクジェットヘッドにおいて、前記複数のノズルは一の方向に沿ってライン状に配設され、
    前記有機発光層形成工程では、
    前記一の方向を列方向と交差するように前記インクジェットヘッドを傾けた状態で、前記インクジェットヘッドと前記基板の少なくともいずれかを移動させる
    請求項１に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
  12. 少なくとも前記有機発光層形成工程前において、
    前記各第１電極と部分的に重ねて配置することにより、前記各開口部内の発光領域を規制する画素規制層を形成する画素規制層形成工程を有し、
    前記画素規制層形成工程では、
    前記第１開口部群中の前記各開口部の内部における第１発光領域の列方向の位置と、前記第２開口部群中の前記各開口部の内部における第２発光領域の列方向の位置が、同一行において互いに揃うように、前記各開口部の列方向に沿った周縁の両端の少なくとも一端側となる領域に、絶縁性材料からなる前記画素規制層を形成する
    請求項１に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
  13. 前記画素規制層形成工程では、
    前記列方向に沿って、前記開口部内の前記第１発光領域及び前記第２発光領域の各長さが、少なくとも前記開口部の長さの３０％以上となるように前記画素規制層を形成する
    請求項１２に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
  14. 前記第２電極の上方に封止層を形成する封止層形成工程と、
    前記封止層の上方に第２基板を配置する第２基板配置工程とを有し、
    前記第２基板は、前記開口部との対向位置に存在する透光性領域と、前記各透光性領域の周囲に存在するブラックマトリクスとを有し、
    前記透光性領域は、前記第１開口部群中の前記各開口部の内部における第１発光領域の列方向の位置と、前記第２開口部群中の前記各開口部の内部における第２発光領域の列方向の位置が、同一行において互いに揃うように存在している
    請求項１に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
  15. 前記第２基板配置工程で配置する前記第２基板において、
    前記列方向に沿って、前記開口部内の前記第１発光領域及び前記第２発光領域の各長さが、少なくとも前記開口部の長さの３０％以上となるように前記透光性領域が存在している
    請求項１４に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
  16. 基板と、
    前記基板上に形成されたＴＦＴ層と、
    前記ＴＦＴ層の上方において、行列方向に複数にわたり形成された第１電極と、
    各第１電極を個別に露出させる複数の開口部を行列方向に存在させるように形成されたバンク層と、
    各開口部の内部に形成された有機発光層と、
    前記有機発光層の上方に形成された第２電極と
    前記各第１電極と部分的に重ねて配置されることにより、前記各開口部内の発光領域を規制する画素規制層とを有し、
    前記複数の開口部には第１列の開口部群と第２列の開口部群とが含まれ、第１列の開口部群と第２列の開口部群とが列方向に沿って前記開口部のピッチの半分以下の距離差で互いにずれて存在しており、
    前記画素規制層は、前記第１開口部群中の前記各開口部の内部における第１発光領域の列方向の位置と、前記第２開口部群中の前記各開口部の内部における第２発光領域の列方向の位置が、同一行において互いに揃うように、前記各開口部の列方向に沿った周縁の両端の少なくとも一端側となる領域に、絶縁性材料により形成されている
    有機ＥＬ表示パネル。
  17. 前記画素規制層は、
    前記列方向に沿って、前記開口部内の前記第１発光領域及び前記第２発光領域の各長さが、少なくとも前記開口部の長さの３０％以上となるように形成されている
    請求項１６に記載の有機ＥＬ表示パネル。
  18. 基板と、
    前記基板上に形成されたＴＦＴ層と、
    前記ＴＦＴ層の上方において、行列方向に複数にわたり形成された第１電極と、
    各第１電極を個別に露出させる複数の開口部を行列方向に存在させるように形成されたバンク層と、
    各開口部の内部に形成された有機発光層と、
    前記有機発光層の上方に形成された第２電極と、
    前記第２電極の上方に形成された封止層と、
    前記封止層の上方に配置された第２基板とを有し、
    前記複数の開口部には第１列の開口部群と第２列の開口部群とが含まれ、第１列の開口部群と第２列の開口部群とが列方向に沿って前記開口部のピッチの半分以下の距離差で互いにずれて存在しており、
    前記第２基板は、前記開口部との対向位置に存在する透光性領域と、前記各透光性領域の周囲に存在するブラックマトリクスとを有し、
    前記透光性領域は、平面視で、前記第１開口部群中の前記各開口部と前記透光性領域とが重なる領域として規定される第１発光領域の列方向の位置と、前記第２開口部と前記透光性領域とが重なる領域として規定される第２発光領域の列方向の位置が、同一行において揃うように存在している
    有機ＥＬ表示パネル。
  19. 前記第２基板において、
    前記列方向に沿って、前記開口部内の前記第１発光領域及び前記第２発光領域の各長さが、少なくとも前記開口部の長さの３０％以上となるように前記透光性領域が存在している
    請求項１８に記載の有機ＥＬ表示パネル。
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