JP5622854B2 - 有機elパネル及びパネル接合型発光装置 - Google Patents

有機elパネル及びパネル接合型発光装置 Download PDF

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Description

本発明は、有機ELパネル及びパネル接合型発光装置に関するものである。
有機ELパネルは、有機EL素子を備えた自発光パネルであり、例えば携帯電話の表示画面,車載用或いは家庭用電子機器のモニタ画面,パーソナルコンピュータやテレビジョン受像装置の情報表示画面,宣伝用点灯パネル等に用いられる各種表示装置として、スキャナやプリンタ等に用いられる各種光源として、一般照明や液晶表示装置のバックライト等に用いられる照明装置として、また、光電変換機能を利用した光通信用デバイスとして、各種用途及び機種に利用可能なものである。
有機EL素子は大気に含まれる水分等に触れると発光特性が劣化する性質があるので、有機ELパネルを長時間安定的に作動させるためには、有機EL素子を大気から遮断するための封止構造が必要不可欠になっている。有機ELパネルの封止構造の一例としては、有機EL素子が形成された基板と封止基板とを貼り合わせて有機EL素子を囲う封止空間を形成し、その封止空間内に乾燥剤を配備する中空封止構造が知られている(例えば下記特許文献1参照)。
特開2002−231439号公報
前述した中空封止構造を有する有機ELパネルでは、基板の表面内で、有機EL素子からなる発光部が形成されている領域(発光領域)の外側に、基板と封止基板とを接着剤層を介して接着するための領域(接着領域)を確保する必要があることから、発光領域の外側に所定幅の発光しない領域(額縁領域)を形成することが必要になっており、基板全体を発光領域にすることができない。
これに対して、有機ELパネルを各種装置に組み込む場合や単体で設置する場合には、額縁領域は有機ELパネルの設置スペース効率を高める上で、できるだけ小さくすることが望まれている。また、大判の基板上に複数の発光部を形成し、この大判の基板と大判の封止基板を貼り合わせて一度の貼合工程で多数のパネルを形成する場合には、額縁領域が大きくなると一つの大判基板から取り出せるパネル数が少なくなって製造歩留まりが悪く生産性の向上効果が十分に得られない。したがって、この場合にも額縁領域はできるだけ小さくすることが望まれている。
また、複数の有機ELパネルを並べることで大面積パネル(タイリングパネル)を形成する場合、個々のパネルの額縁領域は、大面積パネルの全体的な発光領域内に位置して発光しない領域を形成することになるので、大面積パネルの全体的な発光領域の性能を高める上で、額縁領域をできる限り小さくすることが求められる。
額縁領域を小さくするためには、接着領域の幅を狭くせざるを得ず、単純に接着領域の幅を狭くすると、基板と封止基板との接着強度が十分に確保できず、有機EL素子の良好な封止性能を維持できない問題が生じる。
また、単純に接着領域を狭くすると、封止空間を支持している支持部の幅が狭くなり、支持部の強度が低下するので、封止基板に大きな荷重が作用すると支持部が破損して封止空間が潰れてしまい、有機EL素子の封止性能が維持できなくなる問題が生じる。
本発明は、このような問題に対処することを課題の一例とするものである。すなわち、有機ELパネルの額縁領域の幅を狭くして、有機ELパネルの性能向上或いは設置スペース効率や生産性の向上を図ること、有機ELパネルの額縁領域を狭くするに際して、基板と封止基板との接着強度を十分に確保し、有機EL素子の良好な封止性能を維持できること、封止基板における封止空間を支持する支持部の強度を確保し、この支持部の破損による封止性能劣化が生じないようにすること、等が本発明の目的である。
このような目的を達成するために、本発明の有機ELパネルは、以下の構成を少なくとも具備するものである。
基板と、該基板上に形成され、陽極と有機層と陰極が積層された有機EL素子を備える発光部と、該発光部を封止するために前記基板に貼り合わせられる封止基板とを備え、前記封止基板は、前記発光部を収容する凹部と該凹部の外周に沿って形成され前記基板に対面する接着面を有する支持部とを備え、前記発光部は、一つ又は複数の前記有機EL素子からなる発光単位が間隔を空けて複数配置され、前記凹部の外周縁は、前記間隔を空けた箇所の範囲内に前記発光部側に部分的に突出する突出部を有することを特徴とする有機ELパネル。
本発明の一実施形態に係る有機ELパネルの要部を示した説明図である(同図(a)が基板側からみた平面図、同図(b)がX−X断面図)。 複数の有機ELパネルを平面的に敷き詰めて接合し大型のパネルを形成したパネル接合型発光装置を示した説明図である(同図(a)がパネル接合型発光装置100の平面図、同図(b)が各有機ELパネル1の内部構造を示した平面図)。 パネル接合型発光装置における各有機ELパネルの配線構造の例を示した説明図である。 本発明の実施形態における封止基板の形態例を示した説明図である。 封止基板における乾燥剤の他の配置例を示した平面図である。 封止基板加工工程を示す説明図である。
以下、図面を参照しながら本発明の実施形態を説明する。本発明の実施形態は図示の内容を含むがこれのみに限定されるものではない。図1は本発明の一実施形態に係る有機ELパネルの要部を示した説明図である(同図(a)が基板側からみた平面図、同図(b)がX−X断面図)。
有機ELパネル1は、基板10と、基板10上に形成される発光部11と、封止基板20とを備えている。発光部11は、陽極と有機層と陰極が積層された有機EL素子11Aが単数又は複数備えられており、例えば、ドットマトリクス状に画素となる有機EL素子11Aを配列している。図示の例では基板10上に形成される有機EL素子11Aは、基板10を介して外部に光を放射することができるものである(ボトムエミッション型)。また、本発明の実施形態に係る有機ELパネル1は、これとは逆に、後述する封止基板20側から外部に光を放出するもの(トップエミッション型)であっても良く、基板10と封止基板20の両面から外部に光を放出するもの(デュアルエミッション型)であっても良い。
封止基板20は、発光部11を封止空間C内で中空封止するために基板10に接着剤層21を介して貼り合わせられている。この封止基板20は、発光部11を収容する凹部22と凹部22の外周に沿って形成され基板10に対面する接着面23Aを有する支持部23を備えている。封止基板20の凹部22の内面22Aには必要に応じて乾燥剤(図示省略)が配備される。
発光部11は、一つ又は複数の有機EL素子11Aからなる発光単位11Uが間隔Lを空けて複数配置されている。発光単位11Uは発光部11が画像表示を行う場合には画素となるものであり、カラー表示を行う場合には、一つの発光単位11Uは複数の異なる色(例えばR,G,B)を発光する有機EL素子11Aによって構成される。一つの発光単位11Uと他の発光単位11Uとの間に間隔Lが設けられる。
封止基板20における凹部22の外周縁22Sは、間隔Lを空けた箇所に対応して、発光部11側に部分的に突出する突出部22Pを有する。凹部22の外周縁22Sは支持部23の内周縁に対応しており、前述した突出部22Pにおいては、支持部23の接着面23Aの幅が突出部22Pの無いところの幅W1に対して拡大した幅W2を有するようになっている。
このような構成の有機ELパネル1によると、有機ELパネル1の接着面の幅W1によって規定される額縁領域の幅を狭くして、有機ELパネル1の性能向上或いは設置スペース効率や生産性の向上を図った場合であっても、前述した突出部22Pを部分的に設けることで、基板10と封止基板20との接着強度を十分に確保することができる。またこれによって、有機EL素子11Aの良好な封止性能を維持することができる。そして、突出部22Pを設けることで、封止基板20における封止空間Cを支持する支持部23の強度を確保することができ、支持部23の破損による封止性能劣化を抑止することができる。
図2は、複数の有機ELパネル1を平面的に敷き詰めて接合し大型のパネルを形成したパネル接合型発光装置100を示した説明図である(同図(a)がパネル接合型発光装置100の平面図、同図(b)が各有機ELパネル1の内部構造を示した平面図)。
個々の有機ELパネル1の構成は前述したとおりであり、このパネル接合型発光装置100では、隣接する有機ELパネル1の上下左右端面を互いに対面させて各有機ELパネル1を接合している。図2(b)に示した例では、12個の有機EL素子11Aが集まって一つの発光単位11Uを形成している。カラー表示を行うものでは、各有機EL素子11Aが異なる色(例えばRGB)を発光する発光要素になる。
パネル接合型発光装置100は、図2(a)に示すように、平面的に複数の有機ELパネル1を敷き詰めており、各有機ELパネル1の発光部11を結合して一つ又は複数の発光面(或いは表示面)を形成している。各有機ELパネル1の発光部11は、同図(b)に示すように複数の発光単位11Uの集合によって形成されており、各発光単位11Uの間に有機EL素子11Aを含まない間隔Lが設けられている。
この間隔Lは一つの有機ELパネル1における額縁領域の幅Wの約2倍程度に形成されている。即ち、一つの有機ELパネル1における額縁領域の幅Wは間隔Lの略半分になっている。隣接する有機ELパネル1の継ぎ目には、隣接した有機ELパネル1の接合箇所の両側に額縁領域の幅Wの2倍の非発光部分が形成されてしまうが、発光単位11U間に約2Wの間隔Lを設けることで有機ELパネル1同士の継ぎ目を目立たなくすることができる。
この間隔Lを空けた箇所に対応して、封止基板20の凹部22における外周縁の突出部22Pが設けられている。基板10における発光部11の外側には封止基板20の接着面23Aが対面する接着領域が形成されている。この接着領域は、突出部22Pが形成されていないところでは接着面23Aの幅W1に対応した幅を有し、突出部22Pが形成されているところでは幅W1に対して拡大した幅W2を有する。
これによると、接着面23Aの幅W1を狭くすることで額縁領域の幅Wを狭くし、基板10の面積に対する発光部11の面積の割合を大きくした場合であっても、突出部22Pが形成された箇所で接着面23Aの幅W2を確保することができ、封止基板20全体を確実に基板10に接着させることができる。これによって有機ELパネル1の封止性能を良好に維持することが可能になる。
また、封止基板20の接着面23Aの幅は、封止基板20の支持部23の強度に影響することになるが、突出部22Pを設けることで支持部23が部分的に発光部11内に突出して形成されることになるので、凹部22内の封止空間Cを保持する支持構造が強固になり、封止基板20に外力が加わった場合になどでも、封止空間Cを維持することで有機ELパネル1の封止性能を良好に維持することが可能になる。
図3は、パネル接合型発光装置100における各有機ELパネル1の配線構造の例を示した説明図である。同図(a)に示した例は、封止基板20の上面20a及び側面20b上に引き出し配線40を形成している。有機EL素子が形成されている基板10の表面に形成されている引き出し配線(有機EL素子の陽極又は陰極から引き出されている引き出し配線)41と前述した引き出し配線40とを基板10と封止基板20とを貼り合わせることで結合させている。図示の例では、引き出し配線40が形成されている封止基板20の側面20bはテーパ状に形成されており、1つの基板10上に2つの封止基板20,20を貼り付けて、封止基板20,20の間の露出部10aに封止基板20,20で封止される有機EL素子からの引き出し配線41を形成している。
このような有機ELパネル1の配線構造では、封止基板20上にフレキシブル基板42や駆動ICなどの接続対象物が圧着されることになる。図示の例では、フレキシブル基板42の端子部42aが引き出し配線40の端部に圧着接続されている。この際、同図(b)に示すように、封止基板20の上面20aの一部が圧着領域20Pになり、前述した突出部22Pがこの圧着領域20Pに相当する領域(図示の例では圧着領域20Pの下)に設けられている。これによると、突出部22Pにおける支持部23が圧着領域20Pに加えられる圧力に対する補強リブ構造になっており、大きな圧力が加えられた場合であっても封止基板20或いは封止空間Cの破損を抑止することが可能になり、有機ELパネル1の封止性能を良好に維持することが可能になる。また、同図(b)に示すように、封止基板20の各辺に一つ又は複数の突出部22Pを設けることで、封止基板20の上面20aに圧力が加わった場合の上面20aの撓みを抑止することができる。これによって、封止基板20の凹部22の内面22Aと有機EL素子11Aとの接触や内面22Aに配備された乾燥剤と有機EL素子11Aとの接触の不具合を回避することが可能になる。
図4は、本発明の実施形態における封止基板の形態例を示した説明図である。同図(a),(b)に示した例は、前述した形態例と同様に、封止基板20における凹部22の外周縁22Sは、間隔Lを空けた箇所に対応して、発光部11側に部分的に突出する突出部22Pを有する。凹部22の外周縁22Sは支持部23の内周縁に対応しており、突出部22Pにおいては、支持部23の接着面23Aの幅が突出部22Pの無いところの幅W1に対して拡大した幅W2を有するようになっている。更に、封止基板20は、接着面23Aを有する支持部23を発光部11内に有し、支持部23の接着面23Aは間隔Lを空けた箇所で基板10に対面している。図示の例では、封止基板20は、発光部11内において柱状支持部23−1を有している。この柱状支持部23−1は、図示のように封止基板20の中央部に一つ設けてもよいが、間隔Lを空けた箇所に対応して複数分散して設けても良い。
図4(b)に示した例では、封止基板20は、凹部22の内面に乾燥剤50が配備され、乾燥剤50は、発光部11内に設けられた支持部(柱状支持部23−1)を除く箇所に配備されている。図4(b)に示した例では、乾燥剤50は柱状支持部23−1の左右両側に配置されている。図5は、封止基板における乾燥剤の他の配置例を示した平面図である。図5(a)に示した例では、柱状支持部23−1の周囲を囲むように乾燥剤50が配置されている。図5(b)に示した例では、柱状支持部23−1の周囲を囲み更に突出部22Pに沿って回り込むように乾燥剤50が配置されている。
以下に、本発明の実施形態に係る有機ELパネル1の製造方法を説明する。本発明の実施形態に係る有機ELパネル1の製造方法は、基板10側の工程として発光部形成工程、封止基板20側の工程として封止基板加工工程、基板10と封止基板20とを貼り合わせる封止工程を有している。
発光部形成工程は、基板10上に少なくとも一つの有機EL素子11Aを備えた発光部11を形成する工程である。有機EL素子11Aは、図1に示すように、第1電極30と有機層31と第2電極32を積層した構造を有しており、第1電極30と第2電極32の一方を陽極とし、他方を陰極としている。基板10上に直接又は他の層を介して第1電極30の電極パターンを形成し、絶縁膜33で絶縁区画された第1電極30の電極パターン上に発光層を含む有機層31を積層し、更に有機層31上に第2電極32の電極パターンを形成する。
複数の有機EL素子11Aをパッシブマトリクス駆動する場合には、例えば、基板10上にストライプ状の透明電極(陽極となる第1電極30)をパターン形成し、単体の有機EL素子11Aを区画するように絶縁膜33のパターンを形成し、絶縁膜33上に前述した透明電極と交差する方向にストライプ状の隔壁を形成する。そして、絶縁区画された透明電極上に発光層を含む有機層31を成膜し、有機層31上に隔壁によってパターン形成される金属電極(陰極となる第2電極32)を成膜する。
複数の有機EL素子11Aをアクティブマトリクス駆動する場合には、例えば、TFT等の駆動素子が形成された基板10上に平坦化膜を介して透明電極からなる画素電極(陽極となる第1電極30)を形成し、絶縁区画された画素電極上に発光層を含む有機層31を成膜し、更に有機層31上に金属電極(陰極となる第2電極32)を成膜する。
封止基板加工工程は、図6に示すように、封止基板20に発光部11を収容する凹部22と凹部22の外周に沿って接着面23Aを有する支持部23を形成する工程である。凹部22と支持部23は、平板状の封止基板20の表面に対して接着面23Aを残して掘取り加工を施すことで同時に形成することができる。堀取り加工としては、ウエットエッチング、ドライエッチング、サンドブラスト等の処理方法を採用することができる。
ウエットエッチングを採用する場合には、接着面23Aに対応するレジストのパターンを封止基板20上に形成する。図6(a)は、封止基板20の表面に形成されるレジストパターンを示している。レジスト51は、封止基板20の周囲に形成される接着面23Aに対応するレジストパターン51aと突出部22Pを形成するためのレジストパターン51bと柱状支持部23−1を形成するためのレジストパターン51cとを備える。エッチング処理に先立って、フォトリソ工程でエッチング処理を施さない部分をマスクするようにレジスト51のパターンが形成される。
同図(b)は、同図(a)におけるX−X断面図を示している。このようなレジスト51が施された封止基板20は、エッチング液にその露出面を浸漬することで、凹部22の深さが得られるようにエッチング処理が施される。同図(c)はエッチング処理によって凹部22が形成された状態を示している。
封止工程は、基板10と封止基板20とを接着剤層21を介して貼り合わせて発光部11を中空封止する工程である。封止基板20の接着面23A上に接着剤を適量塗布する。基板10と封止基板20とを貼り合わせて、所定圧力で加圧することで、支持部23の接着面23A上に接着剤層21が形成される。接着剤としては、紫外線硬化型又は熱硬化型樹脂等を用いることができる。
以下に、図1を参照しながら本発明の実施形態に係る有機ELパネル1の構成例を更に具体的に説明する。
基板10は、ガラス、プラスチック、表面に絶縁材料の層が形成された金属など、有機EL素子11Aを支持することができる基材によって形成される。第1電極30を形成する透明導電膜層は、ITO(Indium Tin Oxide),IZO(Indium Zinc Oxide),酸化亜鉛系透明導電膜,SnO2系透明導電膜,二酸化チタン系透明導電膜などの透明金属酸化物を用いることができる。
絶縁膜33は、パターニングされた第1電極30の絶縁性を確保するために設けられ、ポリイミド樹脂,アクリル系樹脂,酸化シリコン,窒化シリコンなどの材料が用いられる。絶縁膜33の形成は、第1電極30が形成された基板10上に成膜した後、第1電極30上に有機EL素子11Aの開口を形成するパターニングがなされる。具体的には、第1電極30が形成された基板10にスピンコート法により所定の塗布厚となるように膜を形成し、露光マスクを用いて露光処理,現像処理を施すことにより、有機EL素子11Aの開口パターン形状を有する絶縁膜33の層が形成される。この絶縁膜33は、第1電極30のパターン間を埋めると共にその側端部分を一部覆うように形成され、格子状に形成される。
図示省略した隔壁が、マスク等を用いることなく第2電極32のパターンを形成するため、或いは隣り合う第2電極32を完全に電気的に絶縁するために、第1電極30と交差する方向にストライプ状に形成される。具体的には、絶縁膜33の上に感光性樹脂等の絶縁材料を、有機EL素子11Aを形成する有機層31と第2電極32の膜厚の総和より厚い膜厚にスピンコート法等で塗布形成した後、この感光性樹脂膜上に第1電極30に交差するストライプ状パターンを有するフォトマスクを介して紫外線等を照射し、層の厚さ方向の露光量の違いから生じる現像速度の差を利用して、側部が下向きのテーパ面を有する隔壁を形成する。
有機層31は、発光層を含む発光機能層の積層構造を有し、第1電極30と第2電極32の一方を陽極とし他方を陰極とすると、陽極側から順次、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層などが選択的に形成される。有機層31の成膜は乾式の成膜として真空蒸着法などが用いられ、湿式の成膜としては塗布や各種の印刷法が用いられる。
有機層31の形成例を以下に説明する。例えば先ず、NPB(N,N-di(naphtalence)-N,N-dipheneyl-benzidene)を正孔輸送層として成膜する。この正孔輸送層は、陽極から注入される正孔を発光層に輸送する機能を有する。この正孔輸送層は、1層だけ積層したものでも2層以上積層したものであってもよい。また正孔輸送層は、単一の材料による成膜ではなく、複数の材料により一つの層を形成しても良く、電荷輸送能力の高いホスト材料に電荷供与(受容)性の高いゲスト材料をドーピングしてもよい。
次に、正孔輸送層の上に発光層を成膜する。一例としては、抵抗加熱蒸着法により、赤(R)、緑(G)、青(B)の発光層を、塗分け用マスクを利用してそれぞれの成膜領域に成膜する。赤(R)としてDCM1(4−(ジシアノメチレン)−2−メチル−6−(4’−ジメチルアミノスチリル)−4H−ピラン)等のスチリル色素等の赤色を発光する有機材料を用いる。緑(G)としてアルミキノリノール錯体(Alq3) 等の緑色を発光する有機材料を用いる。青(B)としてジスチリル誘導体、トリアゾール誘導体等の青色を発光する有機材料を用いる。勿論、他の材料でも、ホスト‐ゲスト系の層構成でも良く、発光形態も蛍光発光材料を用いてもりん光発光材料を用いたものであってもよい。
発光層の上に成膜される電子輸送層は、抵抗加熱蒸着法等の各種成膜方法により、例えばアルミキノリノール錯体(Alq3 )等の各種材料を用いて成膜する。電子輸送層は、陰極から注入される電子を発光層に輸送する機能を有する。この電子輸送層は、1層だけ積層したものでも2層以上積層した多層構造を有してもよい。また、電子輸送層は、単一の材料による成膜ではなく、複数の材料により一つの層を形成しても良く、電荷輸送能力の高いホスト材料に電荷供与(受容)性の高いゲスト材料をドーピングして形成してもよい。
有機層31上に形成される第2電極32は、こちらが陰極の場合には、陽極より仕事関数の小さい(例えば4eV以下)材料(金属,金属酸化物,金属フッ化物,合金等)を用いることができ、具体的には、アルミニウム(Al),インジウム(In),マグネシウム(Mg)等の金属膜、ドープされたポリアニリンやドープされたポリフェニレンビニレン等の非晶質半導体、Cr23,NiO,Mn25等の酸化物を使用できる。構造としては、金属材料による単層構造、LiO2/Al等の積層構造等が採用できる。
以上、本発明の実施の形態について図面を参照して詳述してきたが、具体的な構成はこれらの実施の形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の設計の変更等があっても本発明に含まれる。上述の各図で示した実施の形態は、その目的及び構成等に特に矛盾や問題がない限り、互いの記載内容を組み合わせることが可能である。また、各図の記載内容はそれぞれ独立した実施形態になり得るものであり、本発明の実施形態は各図を組み合わせた一つの実施形態に限定されるものではない。

Claims (8)

  1. 基板と、該基板上に形成され、陽極と有機層と陰極が積層された有機EL素子を備える発光部と、該発光部を封止するために前記基板に貼り合わせられる封止基板とを備え、
    前記封止基板は、前記発光部を収容する凹部と該凹部の外周に沿って形成され前記基板に対面する接着面を有する支持部とを備え、
    前記発光部は、一つ又は複数の前記有機EL素子からなる発光単位が間隔を空けて複数配置され、
    前記凹部の外周縁は、前記間隔を空けた箇所の範囲内に前記発光部側に部分的に突出する突出部を有することを特徴とする有機ELパネル。
  2. 前記間隔は、前記発光部の外側に形成される額縁領域の幅の略2倍に形成されていることを特徴とする請求項1記載の有機ELパネル。
  3. 前記封止基板の上面に前記発光部の配線が引き出され、当該配線に接続される接続対象物と前記配線との圧着領域が前記封止基板の上面に有り、
    前記突出部は前記圧着領域に相当する領域に設けられていることを特徴とする請求項1又は2に記載の有機ELパネル。
  4. 前記封止基板は、前記接着面を有する支持部を前記発光部内に有し、当該支持部の接着面は前記間隔を空けた箇所で前記基板に対面していることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の有機ELパネル。
  5. 前記封止基板は、前記凹部の内面に乾燥剤が配備され、該乾燥剤は、前記発光部内に設けられた支持部を除く箇所に配備されることを特徴とする請求項4記載の有機ELパネル。
  6. 複数の有機ELパネルを平面的に敷き詰めて接合し、大型のパネルを形成するパネル接合型発光装置であって、
    前記有機ELパネルは、
    基板と、該基板上に形成され、陽極と有機層と陰極が積層された有機EL素子を備える発光部と、該発光部を封止するために前記基板に貼り合わせられる封止基板とを備え、
    前記封止基板は、前記発光部を収容する凹部と該凹部の外周に沿って形成され前記基板に対面する接着面を有する支持部とを備え、
    前記発光部は、一つ又は複数の前記有機EL素子からなる発光単位が間隔を空けて複数配置され、
    前記凹部の外周縁は、前記間隔を空けた箇所の範囲内に、前記発光部側に部分的に突出する突出部を有することを特徴とするパネル接合型発光装置。
  7. 前記間隔は、隣接する2つの前記有機ELパネルにおける接合箇所両側に形成される額縁領域の幅に等しいことを特徴とする請求項6記載のパネル接合型発光装置。
  8. 前記封止基板の外表面上に前記発光部の配線が引き出され、当該配線に接続される接続対象物と前記配線との圧着領域が前記封止基板の上面に有り、
    前記突出部は前記圧着領域に相当する領域に設けられていることを特徴とする請求項6又は7に記載のパネル接合型発光装置。
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