JP5621269B2 - 蒸着用ボートおよびこれを用いた蒸着装置 - Google Patents
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Description
以下、本実施例では、固体電解コンデンサや電解液を用いた電解コンデンサなどに用いる電極箔を製造する蒸着装置と、この装置に用いられる蒸着用ボートについて説明する。
(1)図2に示す真空槽10の内部を0.01〜0.001Paの真空に保つ。
(2)基材6の周辺に、酸素ガスと、酸素ガスに対して流量が2〜6倍のアルゴンガスを、ガス管を介して導入させ、基材6の周辺の圧力を10〜30Paの状態にする。
(3)基材6の温度を150〜300℃の範囲に保つ。
(4)図3(a)に示す蒸着用ボート13の供給用凹溝19に、図2に示す供給部14からアルミニウム線を供給する。
(5)蒸着用ボート13を抵抗加熱により加熱し、供給用凹溝19でアルミニウム線を溶融させて蒸発用凹溝20に流し込む。
(6)蒸発用凹溝20に充填されたアルミニウムを沸騰させ、蒸発させて、アルミニウムの微粒子8を基材6の表面に蒸着させる。基材6は巻き出しローラー11から巻き取りローラー12へと矢印X方向に移送させ、微粒子8を基材6の表面に、順次連続的に蒸着していく。
本実施例では、図9(a)に示すように、蒸着用ボート21の供給用凹溝22と蒸発用凹溝23の幅を同じ幅とし、基体24自体の幅を変えたものである。
6 基材
7 粗膜層
8 微粒子
9 蒸着装置
10 真空槽
11 巻き出しローラー
12 巻き取りローラー
13 蒸着用ボート
14 供給部
15 ボビン
16 供給管
17 凹溝
18 基体
19 供給用凹溝
20 蒸発用凹溝
21 蒸着用ボート
22 供給用凹溝
23 蒸発用凹溝
24 基体
Claims (6)
- 表面に凹溝が形成された基体からなる蒸着用ボートであって、
前記凹溝は、
少なくとも蒸着材料が供給される供給用凹溝と、
この供給用凹溝と連通し、前記蒸着材料を蒸発させる蒸発用凹溝とで構成され、
表面に前記供給用凹溝が形成された領域の前記基体の抵抗値に対する、表面に前記蒸発用凹溝が形成された領域の前記基体の抵抗値の比は、蒸着の際の圧力下での前記蒸着材料の沸点を蒸着の際の圧力下での前記蒸着材料の融点で除した値以上である蒸着用ボート。 - 前記供給用凹溝は前記蒸発用凹溝よりも幅が狭いものとした請求項1に記載の蒸着用ボート。
- 表面に前記供給用凹溝が形成された領域は、表面に前記蒸発用凹溝が形成された領域よりも基体の幅が広いものとした請求項1に記載の蒸着用ボート。
- 表面に前記供給用凹溝が形成された領域の前記基体の垂直断面積の平均値は、
表面に前記蒸発用凹溝が形成された領域の前記基体の垂直断面積の平均値よりも大きいものとした請求項1に記載の蒸着用ボート。 - 前記供給用凹溝は、一方の端部側から前記蒸発用凹溝と連通する他方の端部に向かって段階的に深くなる構造とした請求項1に記載の蒸着用ボート。
- 真空槽内で基材の表面に溶融した蒸着材料を蒸着させる蒸着装置であって、
前記真空槽内には、
前記基材の表面と対向する位置に配置されるとともに、両端がそれぞれ抵抗加熱用電源に接続された蒸着用ボートと、
この蒸着用ボートに蒸着材料を供給する供給部と、
前記真空槽内にガスを導入するガス管と、が少なくとも設けられ、
前記蒸着用ボートは、
表面に凹溝が形成された基体からなり、
前記凹溝は、
少なくとも前記供給部から蒸着材料が供給される供給用凹溝と、
この供給用凹溝と連通し、前記蒸着材料を蒸発させる蒸発用凹溝とで構成され、
表面に前記供給用凹溝が形成された領域の前記基体の抵抗値に対する、表面に前記蒸発用凹溝が形成された領域の前記基体の抵抗値の比は、蒸着の際の圧力下での前記蒸着材料の沸点を蒸着の際の圧力下での前記蒸着材料の融点で除した値以上である、蒸着装置。
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