JP5621135B2 - ゴキブリの駆除方法 - Google Patents
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Description
1.ハイドロプレンと、ペルメトリン、メトキサジアゾン、プロポクスル、シフェノトリン及びフェノトリンからなる群より選ばれた1種以上の殺虫剤とを併用したトータルリリース型製剤によりハイドロプレンと前記殺虫剤とを所定空間に2回又は3回処理するゴキブリの駆除方法であって、第1回目の処理時から起算して20〜50日の間に第2回目の処理又は第2回目及び第3回目の処理をするゴキブリの駆除方法。
2.前記処理を3回する場合、第1回目と第2回目と第3回目の処理を等間隔で行う前項1記載のゴキブリの駆除方法。
3.ゴキブリがチャバネゴキブリである前項1または2に記載のゴキブリの駆除方法。
4.処理空間におけるハイドロプレンの気中処理量が、日本間6〜8畳の空間に300mg〜500mgである前項1〜3のいずれか1項に記載のゴキブリの駆除方法。
本発明は、ハイドロプレンと殺虫剤とを併用してトータルリリース型製剤とし、このトータルリリース型製剤を用いてゴキブリの存在する所定空間内で、ハイドロプレンと殺虫剤を複数回処理し、初回の処理(以下、初回処理ともいう)以後、初回の処理時から20〜50日の間に次回以降の処理を少なくとも1回以上行うことを特徴としている。
本発明における初回処理は、ゴキブリの存在する所定空間内に、ハイドロプレンとハイドロプレン以外の殺虫剤とを併用してなるトータルリリース型製剤を設置し、前記空間内に前記ハイドロプレンおよび前記殺虫剤を処理する工程である。
本発明における次回以降の処理とは、初回処理後に行う2回目以降の処理を指す。本発明の方法では、前記初回処理後、初回処理時から起算して20〜50日の間に、前記空間内に前記トータルリリース型製剤を設置して前記空間内に前記ハイドロプレンおよび前記殺虫剤を導入する次回以降の処理を少なくとも1回以上行う。
図1に記載の加熱蒸散システムの製剤を作製した。すなわち、加熱蒸散装置1は、直径52mmの有底円筒状の外容器2を備え、その底部から側部にかけて酸化カルシウムからなる加水発熱剤Aが65g収容されている。外容器2は、底部に複数の通水部分(通水孔)を有し、通水孔は不織布シート3によって塞がれている。また、外容器2の内部には、内容器4が設けられ、その中に所定の濃度のハイドロプレンおよびハイドロプレン以外の殺虫剤を含む薬剤Bが収納されている。薬剤Bの組成は、ハイドロプレンおよびハイドロプレン以外の殺虫剤、α化デンプン2質量%、安定化剤0.1質量%を添加し、アゾジカルボンアミドを適量加えて全体を100質量%とした。内容器4は、円筒状で底部が略中空半球状(直径38mm)を有し、その側壁が外容器2の周壁と同心状に配置されている。
ハイドロプレンの残存率について調べた。上記で作製した加熱蒸散装置1において、有効成分としてハイドロプレン4質量%とメトキサジアゾン16質量%を含む薬剤Bを設置し、縦360cm、横360cm、高さ250cmの矩形のチャンバー内の中央で、薬剤Bを加熱蒸散させた。また同様に、ペルメトリンを10質量%の濃度で含む薬剤Bを設置し、縦360cm、横360cm、高さ250cmの矩形のチャンバー内の中央で、薬剤Bを加熱蒸散させた。
上記で作製した加熱蒸散装置1において、4質量%のハイドロプレンおよび16質量%のメトキサジアゾンを有効成分として含む薬剤Bを設置し、チャバネゴキブリの存在する試験フィールド内で、10分間で全量を加熱蒸散させ、初回処理を行なった。
初回処理後、56日の間隔を空けて2回目の処理を行い、さらに15日間の間隔を空けて3回目の処理を行なったこと以外は、実施例1と同様に行った。結果を図5に示す。
加熱蒸散装置1の薬剤Bの有効成分としてハイドロプレンを使用せず、ペルメトリンおよびメトキサジアゾンをそれぞれ10質量%および8質量%の濃度で使用したこと以外は実施例1と同様に行った。
加熱蒸散装置1の薬剤Bの有効成分として、4質量%のハイドロプレン、8質量%のメトキサジアゾンおよび10質量%のペルメトリンを用いたこと以外は実施例1と同様に行った。
初回処理後、初回処理時から41日の間隔を空けて2回目の処理を行い、3回目の処理を行わなかったこと以外は、実施例1と同様に行った。
加熱蒸散装置1の薬剤Bの有効成分として、2質量%のプロポクスル、5質量%のd・d−T−シフェノトリン、4質量%のハイドロプレンを用い、初回処理後、初回処理時から46日の間隔を空けて2回目の処理を行ったこと以外は、実施例3と同様に行った。
加熱蒸散装置1の薬剤Bの有効成分としてハイドロプレンを使用せず、メトキサジアゾンを20質量%の濃度で使用し、初回処理後、初回処理時から49日の間隔を空けて2回目の処理を行ったこと以外は、実施例3と同様に行った。
加熱蒸散装置1のフィールド内での空間あたりの設置数を2倍量として、処理回数を1回とし、2回目以降の処理を行わなかったこと以外は、実施例1と同様に行った。
有効成分であるハイドロプレン4質量%およびメトキサジアゾン16質量%に、α化デンプン2質量%、酸化亜鉛0.1質量%を添加し、アゾジカルボンアミドを適量加えて全体を100質量%としたものを造粒して顆粒製剤を得た。顆粒製剤を薬剤として図1の容器内に充填し、本発明の加熱蒸散システムの製剤とした。
有効成分として、ハイドロプレン4質量%、メトキサジアゾン8質量%およびペルメトリン10質量%を添加した以外は、製剤例1と同様にし、本発明の加熱蒸散システムの製剤とした。
有効成分として、ハイドロプレン4質量%、d・d−T シフェノトリン5質量%およびプロポクスル2質量%を添加した以外は、製剤例1と同様にし、本発明の加熱蒸散システムの製剤とした。
ハイドロプレン1w/v%、メトキサジアゾン3.3w/v%をジエチレングリコールモノメチルエーテル6.7w/v%にエタノールを加えて全量を100mLとし、原液とした。ジメチルエーテル96容量%と液化石油ガス4容量%とを混合して噴射剤とした。原液30容量%および噴射剤70容量%を図2の容器内に加圧充填して、本発明の全量噴射エアゾールシステムの製剤とした。
有効成分として、ハイドロプレン1w/v%、メトキサジアゾン2w/v%およびペルメトリン2.5w/v%を添加し、ジエチレングリコールモノメチルエーテルの添加量を4.5w/v%とした以外は、製剤例4と同様にし、本発明の全量噴射エアゾールシステムの製剤とした。
2 外容器
3 不織布シート
4 内容器
7 樹脂フィルム
A 加水発熱剤
B 薬剤
11 エアゾール容器
13 ステム
20 全量噴射エアゾール装置
21 操作手段
22 キャップ部
30 操作部
31 ノズル
Claims (4)
- ハイドロプレンと、ペルメトリン、メトキサジアゾン、プロポクスル、シフェノトリン及びフェノトリンからなる群より選ばれた1種以上の殺虫剤とを併用したトータルリリース型製剤によりハイドロプレンと前記殺虫剤とを所定空間に2回又は3回処理するゴキブリの駆除方法であって、第1回目の処理時から起算して20〜50日の間に第2回目の処理又は第2回目及び第3回目の処理をするゴキブリの駆除方法。
- 前記処理を3回する場合、第1回目と第2回目と第3回目の処理を等間隔で行う請求項1記載のゴキブリの駆除方法。
- ゴキブリがチャバネゴキブリである請求項1または2に記載のゴキブリの駆除方法。
- 処理空間におけるハイドロプレンの気中処理量が、日本間6〜8畳の空間に300mg〜500mgである請求項1〜3のいずれか1項に記載のゴキブリの駆除方法。
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