JP5619028B2 - 真空蒸着装置及びそのメンテナンス方法 - Google Patents
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Description
上記蒸発源ユニットは、蒸発源と、容器と、シール機構とを有し、上記蒸着室に配置される。上記蒸発源は、蒸発材料の蒸気を発生させる。上記容器は、上記蒸発源を収容する収容室を形成し、上記収容室から上記蒸着室へ上記蒸発材料の蒸気を供給する開口を有する。上記シール機構は、上記容器に設置され上記開口を気密に閉止することが可能に構成されている。
上記蒸発源ユニットは、蒸発源と、容器と、シール機構とを有し、上記蒸着室に配置される。上記蒸発源は、蒸発材料の蒸気を発生させる。上記容器は、上記蒸発源を収容する収容室を形成し、上記収容室から上記蒸着室へ上記蒸発材料の蒸気を供給する開口を有する。上記シール機構は、上記容器に設置され上記開口を気密に閉止することが可能に構成されている。
これにより、上記開口の開閉動作を蒸発源ユニットにより自立的に行うことが可能となる。
これにより、例えば蒸着室のメンテナンスの間、蒸発源及び蒸発材料を真空中に保持することが可能となる。
これにより、例えば蒸着室のメンテナンスの間、蒸発材料の予備加熱処理を実施することが可能となる。
これにより、例えば蒸着室のメンテナンスの間、蒸発源及び蒸発材料を窒素やアルゴン等の不活性ガス雰囲気中に保持することが可能となる。
例えば蒸着室のメンテナンスの間、蒸発源ユニットを蒸着室の外部へ搬出することで、蒸着室のメンテナンス効率を高めることが可能となる。
図1は、本発明の一実施形態に係る真空蒸着装置を示す概略図である。本実施形態の真空蒸着装置1は、インライン式の真空蒸着装置として構成されている。
次に、蒸着室13の構成について説明する。図2は基板の搬送方向と直交する方向から見たときの蒸着室13の側断面図であり、図3は基板の搬送方向から見たときの蒸着室13の側断面図である。
次に、蒸発源ユニット50の詳細について説明する。
次に、搬出機構70について説明する。搬出機構70は、蒸着室13のメンテナンス時に、蒸着室13から蒸発源ユニット50を外部へ搬出するためのものである。
本実施形態の真空蒸着装置1は以上のように構成される。次に、蒸発源ユニット50の動作を含む蒸着室13における基板の成膜処理について説明する。
蒸着装置のメンテナンスは、例えば以下の工程が実施される。
蒸着室13を大気圧にする工程である。具体的には、真空チャンバ41に取り付けられたベント弁を開放し、蒸着室13へ外気を導入する。
真空チャンバ41から天板40を取り外す工程と、搬出機構70によって蒸発源51を蒸着室13の外部へ搬出する工程である。
開放された真空チャンバ41から防着板45を含む各種機構部品を取り外す工程である。
真空チャンバ41の内壁や各種構造物の表面に付着した蒸着物質を、薬液を用いてクリーニングする工程である。
清掃した防着板あるいは新品の防着板を蒸着室13の内部へ設置する工程である。
蒸発源51へ蒸発材料100を収容する工程である。
真空チャンバ41に対して天板40及び、蒸発源51を含む搬出機構70を据え付ける工程である。これにより、蒸着室13が密閉される。
真空バルブ23を介してコールドトラップ33a及びターボ分子ポンプ33bによって蒸着室13を真空排気する工程である。
主として、蒸発材料100に吸収または吸着された水分を基板の成膜前に除去する工程である。図7は、MgO膜からの放出ガス量を昇温脱離ガス分析法(TDS:Thermal Desorption Spectroscopy)によって測定した一実験結果を示す。実験に用いたサンプルは、シリコンウェーハ上に成膜された厚み約800nmのMgO膜であり、当該サンプルを大気に曝した後にシリコンウェーハ(基板)を加熱して測定した。放出ガスの主なものは、M/e(電荷質量比)=18である水分(H2O)であった。当該放出ガスは、装置のメンテナンス後の立ち上げ時間を増加させ、稼働率を低下させる原因となっている。
基板10を蒸着室13に搬入した成膜処理を実施する工程である。
10…基板
13…蒸着室
41…真空チャンバ
42…搬送エリア
43…蒸発エリア
45…防着板
50…蒸発源ユニット
51…蒸発源
52…容器
521…収容室
522a、522b…開口
53a、53b…シール機構
531…弁体
532…駆動源
535…保護板
536…連結具
54…排気ライン
55…ヒータ
56…ガス導入ライン
60…電子銃
70…搬出機構
100…蒸発材料
Claims (6)
- 真空排気可能な蒸着室と、
蒸発材料の蒸気を発生させる蒸発源と、前記蒸発源を収容する収容室を形成し前記収容室から前記蒸着室へ前記蒸発材料の蒸気を供給する開口を有する容器と、前記容器に設置され前記開口を気密に閉止することが可能なシール機構と、前記収容室内で前記蒸発源を回転させる回転機構と、前記容器に設置され、前記蒸発源に収容された前記蒸発材料を脱ガスするための加熱機構とを有する、前記蒸着室に配置された蒸発源ユニットと
を具備する真空蒸着装置。 - 請求項1に記載の真空蒸着装置であって、
前記シール機構は、
前記開口を開閉する弁体と、
前記開口を開放する第1の位置と前記開口を閉止する第2の位置との間にわたって前記弁体を移動させる駆動源とを有する
真空蒸着装置。 - 請求項2に記載の真空蒸着装置であって、
前記蒸発源ユニットは、前記収容室を真空排気可能な排気ラインをさらに有する
真空蒸着装置。 - 請求項3に記載の真空蒸着装置であって、
前記蒸発源ユニットは、前記収容室を所定のガス雰囲気とするためのガス導入ラインをさらに有する
真空蒸着装置。 - 請求項1に記載の真空蒸着装置であって、
前記蒸発源ユニットを前記蒸着室の外部へ搬出可能な搬出機構をさらに具備する
真空蒸着装置。 - 蒸着室に配置された、蒸発材料を含む蒸発源を密閉容器に収容し、
前記密閉容器の内部を真空に排気し、
前記密閉容器の内部を加熱するとともに前記蒸発源を回転させながら前記蒸発材料を脱ガスし、
前記蒸発材料の脱ガス処理の間、前記蒸着室をクリーニングする
真空蒸着装置のメンテナンス方法。
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