JPH03185815A - 薄膜形成装置 - Google Patents
薄膜形成装置Info
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- JPH03185815A JPH03185815A JP32529989A JP32529989A JPH03185815A JP H03185815 A JPH03185815 A JP H03185815A JP 32529989 A JP32529989 A JP 32529989A JP 32529989 A JP32529989 A JP 32529989A JP H03185815 A JPH03185815 A JP H03185815A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/564—Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
この発明は薄膜形成室に蒸発源収納容器を着脱可能に接
続した薄膜形成装置に関する。
続した薄膜形成装置に関する。
（従来の技術〉
従来、第４図に示したような薄膜形成装置が知られてい
る。この装置は真空容器で構成された薄膜形成室１（排
気系は図示していない）の−側に接続ボート２が設けら
れ、該接続ボート２の接続端に設けたゲートバルブ３に
対して、ルツボなどの蒸発源４を収容した蒸発源収納容
器５が着脱可能に接続されている。蒸発源収納容器５は
有底筒状の器体であって、筒壁にベローズニップル６が
介装されて伸縮可能としてあり、蒸発源４を図示したよ
うに薄膜形成室１内へ進入させたり、ゲートバルブ３よ
り外側へ後退できるようになっている。又、蒸発源収納
容器５にはバルブ７、リークバルブ８、真空ポンプ９で
構成した排気系が備えられて、蒸発源収納容器５内の排
気ができるようになっている。図中１０は蒸発源４に対
するシャッター板である。
る。この装置は真空容器で構成された薄膜形成室１（排
気系は図示していない）の−側に接続ボート２が設けら
れ、該接続ボート２の接続端に設けたゲートバルブ３に
対して、ルツボなどの蒸発源４を収容した蒸発源収納容
器５が着脱可能に接続されている。蒸発源収納容器５は
有底筒状の器体であって、筒壁にベローズニップル６が
介装されて伸縮可能としてあり、蒸発源４を図示したよ
うに薄膜形成室１内へ進入させたり、ゲートバルブ３よ
り外側へ後退できるようになっている。又、蒸発源収納
容器５にはバルブ７、リークバルブ８、真空ポンプ９で
構成した排気系が備えられて、蒸発源収納容器５内の排
気ができるようになっている。図中１０は蒸発源４に対
するシャッター板である。
（発明が解決しようとした課題）
前記の薄膜形成装置は、ゲートバルブ３を閉じてから、
蒸発源収納容器５を外すことによって、薄膜形成室１内
を大気に曝すことなく、蒸発物質を蒸発源４に充填でき
るようにしたのであるが、充填した蒸発物質および充填
時に大気に曝された蒸発源４の脱ガスが充分にできない
問題点があった。
蒸発源収納容器５を外すことによって、薄膜形成室１内
を大気に曝すことなく、蒸発物質を蒸発源４に充填でき
るようにしたのであるが、充填した蒸発物質および充填
時に大気に曝された蒸発源４の脱ガスが充分にできない
問題点があった。
蒸発源収納容器５に備えた排気系を介しである程度の脱
ガスは可能であったが、高温、長時間に亘る充分な脱ガ
スはできなかった。例えばガリウムでは１２００℃、ア
ルミニウムでは１４００℃程度の如く、蒸発物質等はか
なりの高温で数時間の脱ガスを行なった後に薄膜形成を
開始することが望まれるが、前記の如くの従来の装置に
おいては、ゲートバルブ３が閉の状態でかなりの温度に
加熱されるので、ガスケット（非金属製）が破損したり
、脱ガス中の蒸発物質が弁体、弁座等に付着してゲート
パルプ３自体の動作に支障が起るなどの危険性があった
。
ガスは可能であったが、高温、長時間に亘る充分な脱ガ
スはできなかった。例えばガリウムでは１２００℃、ア
ルミニウムでは１４００℃程度の如く、蒸発物質等はか
なりの高温で数時間の脱ガスを行なった後に薄膜形成を
開始することが望まれるが、前記の如くの従来の装置に
おいては、ゲートバルブ３が閉の状態でかなりの温度に
加熱されるので、ガスケット（非金属製）が破損したり
、脱ガス中の蒸発物質が弁体、弁座等に付着してゲート
パルプ３自体の動作に支障が起るなどの危険性があった
。
従って、従来の装置においては長時間に亘って一定の条
件下で安定した薄膜形成ができなかったのである。
件下で安定した薄膜形成ができなかったのである。
この発明は以上のような問題点を解消し、蒸発物質およ
び蒸発源の充分な脱ガスができる薄膜形成装置を提供す
ることを目的としている。
び蒸発源の充分な脱ガスができる薄膜形成装置を提供す
ることを目的としている。
（課題を解決する為の手段）
この発明の薄膜形成装置は、薄膜形成室の一側に蒸発源
収納容器を着脱可能に接続してなる薄膜形成装置におい
て、前記薄膜形成室および蒸発源収納容器の接続端に夫
々ゲートバルブが設けてあることを特徴としている。
収納容器を着脱可能に接続してなる薄膜形成装置におい
て、前記薄膜形成室および蒸発源収納容器の接続端に夫
々ゲートバルブが設けてあることを特徴としている。
前記薄膜形成室の接続端のゲートバルブと蒸発源収納容
器の接続端のゲートバルブは直接接続するようにしても
良いものであるが、各接続端の間に排気装置付ニップル
を介設して、接続端間の排気および蒸発源収納容器内の
排気（ゲートバルブを閉じた後に放出されるガス等に対
して）が行なえるようにするのが望ましい。
器の接続端のゲートバルブは直接接続するようにしても
良いものであるが、各接続端の間に排気装置付ニップル
を介設して、接続端間の排気および蒸発源収納容器内の
排気（ゲートバルブを閉じた後に放出されるガス等に対
して）が行なえるようにするのが望ましい。
（作 用）
この発明の薄膜形成装置によれば、蒸発源収納容器側に
設けたゲートバルブによって、該蒸発源収納容器を封止
することが可能である。この結果、蒸発源収納容器を脱
ガス装置に接続して充分な脱ガスを行なった後に、薄膜
形成室に接続することができる。
設けたゲートバルブによって、該蒸発源収納容器を封止
することが可能である。この結果、蒸発源収納容器を脱
ガス装置に接続して充分な脱ガスを行なった後に、薄膜
形成室に接続することができる。
（実施Ｎ）
以下、この発明の実施例を図面を参照して説明する。
第１図が実施例の薄膜形成装置であって、薄膜形成室１
１の一側に設けた接続ボート１２の接続端に遮断用のゲ
ートバルブ１３が設けられている。
１の一側に設けた接続ボート１２の接続端に遮断用のゲ
ートバルブ１３が設けられている。
又、蒸発源１４を内部に収容した有底筒状の蒸発源収納
容器１５の接続端に保管用のゲートバルブ２１が設けら
れている。１６はベローズニップル、２０はシャッター
板である。そして、前記ゲートバルブ１３．２１がニッ
プル２２を介して接続され、ニップル２２の側壁にはバ
ルブ１７、リークバルブ１８、真空ポンプ１９で構成さ
れた排気装置が接続されている。
容器１５の接続端に保管用のゲートバルブ２１が設けら
れている。１６はベローズニップル、２０はシャッター
板である。そして、前記ゲートバルブ１３．２１がニッ
プル２２を介して接続され、ニップル２２の側壁にはバ
ルブ１７、リークバルブ１８、真空ポンプ１９で構成さ
れた排気装置が接続されている。
上記の実施例において、薄膜形成室１１内で薄膜形成作
業を行なう場合は、ゲートバルブ１３．２１を開とし、
ベローズニップル１６を収縮させて、蒸発源１４を薄膜
形成室１１内へ進入させることにより、従来の装置と同
様に行なうことができる。
業を行なう場合は、ゲートバルブ１３．２１を開とし、
ベローズニップル１６を収縮させて、蒸発源１４を薄膜
形成室１１内へ進入させることにより、従来の装置と同
様に行なうことができる。
一方、蒸発源１４に蒸発物質を補充する場合には、蒸発
源１４を図示したように蒸発源収納容器１５内に後退さ
せ、薄膜形成室１１側の接続端に設けた遮断用のゲート
バルブ１３を閉とした後、第２図に示したように、蒸発
源収納容器１５側の接続端に設けた保管用のゲートバル
ブ２１とニップル２２の接続を外す。この場合、リーク
はリークバルブ１８から導入し、ゲートバルブ２１は開
とした。
源１４を図示したように蒸発源収納容器１５内に後退さ
せ、薄膜形成室１１側の接続端に設けた遮断用のゲート
バルブ１３を閉とした後、第２図に示したように、蒸発
源収納容器１５側の接続端に設けた保管用のゲートバル
ブ２１とニップル２２の接続を外す。この場合、リーク
はリークバルブ１８から導入し、ゲートバルブ２１は開
とした。
次に、取り外した蒸発源収納容器１５内の蒸発源１４に
所要の蒸発物質を充填した後、この蒸発源収納容器１５
を第３図に示したように脱ガス装置２３に接続して加熱
、脱ガスを行なう。
所要の蒸発物質を充填した後、この蒸発源収納容器１５
を第３図に示したように脱ガス装置２３に接続して加熱
、脱ガスを行なう。
前記脱ガス装置２３は、ゲートバルブ２１に対する接続
ボート２４を備えた真空容器２５に排気装置２６を接続
して構成されたもので、蒸発物質の充填の際に蒸発源１
４に付着したガスや、充填された蒸発物質の吸蔵ガスは
必要な温度と時間のもとに、確実に除去される。
ボート２４を備えた真空容器２５に排気装置２６を接続
して構成されたもので、蒸発物質の充填の際に蒸発源１
４に付着したガスや、充填された蒸発物質の吸蔵ガスは
必要な温度と時間のもとに、確実に除去される。
上記のようにして加熱、脱ガスが完了した後に、ゲート
バルブ２１を閉として封止した蒸発源収納容器１５を脱
ガス装置２３より外し、前記ゲートバルブ２１をニップ
ル２２へ接続して第１図に示した状態に戻す。然る後、
ニップル２２内の大気を真空ポンプ１９で排気し、次い
で、ゲートバルブ１３．２１を開にして再び薄膜形成を
行なうことができる。蒸発物質の補充の間、薄膜形成室
１１はゲートバルブ１３を閉として封止状態におかれる
ので、一定の膜質を維持することができる。
バルブ２１を閉として封止した蒸発源収納容器１５を脱
ガス装置２３より外し、前記ゲートバルブ２１をニップ
ル２２へ接続して第１図に示した状態に戻す。然る後、
ニップル２２内の大気を真空ポンプ１９で排気し、次い
で、ゲートバルブ１３．２１を開にして再び薄膜形成を
行なうことができる。蒸発物質の補充の間、薄膜形成室
１１はゲートバルブ１３を閉として封止状態におかれる
ので、一定の膜質を維持することができる。
又、蒸発物質も充分な加熱、脱ガスを行なえるので、同
一条件で継続的に薄膜形成を行なうことができる。
一条件で継続的に薄膜形成を行なうことができる。
又、蒸発源収納容器１５はゲートバルブ２１で封止が可
能であることから、蒸発物質として有毒性材料（例えば
ベリリウムなど）を使用する場合に、該有毒性材料を大
気に曝すことなく取扱うことができ、安全性を確保する
こともできる。前記有毒性材料の蒸発源１４への充填、
加熱、脱ガス、更には廃棄は特別に許可された業者に依
頼することで毒性に対処することができる。
能であることから、蒸発物質として有毒性材料（例えば
ベリリウムなど）を使用する場合に、該有毒性材料を大
気に曝すことなく取扱うことができ、安全性を確保する
こともできる。前記有毒性材料の蒸発源１４への充填、
加熱、脱ガス、更には廃棄は特別に許可された業者に依
頼することで毒性に対処することができる。
（発明の効果）
以上に説明したようにこの発明によれば、蒸発物質の充
分な加熱、脱ガスを行なえるので、薄膜形成作業を一定
の条件で継続的に行なえる効果がある。
分な加熱、脱ガスを行なえるので、薄膜形成作業を一定
の条件で継続的に行なえる効果がある。
又、薄膜形成室の接続端と蒸発源収納容器の接続端との
間に排気装置付ニップルを介設すると、上記効果に加え
て、蒸発源収納容器側の着脱作業が能率良くできると共
に、両接続端間のガス（大気）を事前に排気できる効果
がある。
間に排気装置付ニップルを介設すると、上記効果に加え
て、蒸発源収納容器側の着脱作業が能率良くできると共
に、両接続端間のガス（大気）を事前に排気できる効果
がある。
第１図はこの発明の実施例の系統図、第２図は同じ〈実
施例の蒸発源収納容器を外した状態の図、第３図は同じ
〈実施例の蒸発物質の脱ガス時の図、第４図は従来装置
の系統図である。 １１・・・薄膜形成室 １３．２１・・・ゲートバルブ １４・・・蒸発源 １５・・・蒸発源収納容器２２・
・・ニップル ２３・・・脱ガス装置手表品荊１３−ｔ
ＦせＦ（自発） １．事件の表示 平成１年特許願第３２５２９９号 ２、発明の呂称 薄膜形成装置ｎ ３、補正をする省 ・１１件との関係 特許出願人 呂称日電アネルバ株式会社 ４、代理人〒１６０電話０３ ＜３５３） ３４０７５
、桶ｉ「の対象 図面中、第３図および第４図 ６．７＋ｌＬＥの内容 第３図および第４図を別紙のように訂正する。 ７、添付書類の「１録 （１）訂正図面（第３図および第４図） １通第３
周
施例の蒸発源収納容器を外した状態の図、第３図は同じ
〈実施例の蒸発物質の脱ガス時の図、第４図は従来装置
の系統図である。 １１・・・薄膜形成室 １３．２１・・・ゲートバルブ １４・・・蒸発源 １５・・・蒸発源収納容器２２・
・・ニップル ２３・・・脱ガス装置手表品荊１３−ｔ
ＦせＦ（自発） １．事件の表示 平成１年特許願第３２５２９９号 ２、発明の呂称 薄膜形成装置ｎ ３、補正をする省 ・１１件との関係 特許出願人 呂称日電アネルバ株式会社 ４、代理人〒１６０電話０３ ＜３５３） ３４０７５
、桶ｉ「の対象 図面中、第３図および第４図 ６．７＋ｌＬＥの内容 第３図および第４図を別紙のように訂正する。 ７、添付書類の「１録 （１）訂正図面（第３図および第４図） １通第３
周
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 薄膜形成室の一側に蒸発源収納容器を着脱可能に接
続してなる薄膜形成装置において、前記薄膜形成室およ
び蒸発源収納容器の接続端に夫々ゲートバルブが設けて
あることを特徴とした薄膜形成装置 ２ 薄膜形成室の接続端と蒸発源収納容器の接続端との
間に、排気装置付ニップルが介設してあることを特徴と
した請求項１記載の薄膜形成装置
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32529989A JPH03185815A (ja) | 1989-12-15 | 1989-12-15 | 薄膜形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32529989A JPH03185815A (ja) | 1989-12-15 | 1989-12-15 | 薄膜形成装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03185815A true JPH03185815A (ja) | 1991-08-13 |
Family
ID=18175268
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32529989A Pending JPH03185815A (ja) | 1989-12-15 | 1989-12-15 | 薄膜形成装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03185815A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003027218A (ja) * | 2001-06-11 | 2003-01-29 | Applied Films Gmbh & Co Kg | 大面積基板のコーティング装置 |
| EP1357200A1 (en) * | 2002-04-25 | 2003-10-29 | Eastman Kodak Company | Thermal PVD apparatus with detachable vapor source(s) |
| WO2011077662A1 (ja) * | 2009-12-21 | 2011-06-30 | 株式会社アルバック | 真空蒸着装置及びそのメンテナンス方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6479075A (en) * | 1987-09-18 | 1989-03-24 | Showa Denko Kk | Bonding material for sintered aluminum nitride |
-
1989
- 1989-12-15 JP JP32529989A patent/JPH03185815A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6479075A (en) * | 1987-09-18 | 1989-03-24 | Showa Denko Kk | Bonding material for sintered aluminum nitride |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003027218A (ja) * | 2001-06-11 | 2003-01-29 | Applied Films Gmbh & Co Kg | 大面積基板のコーティング装置 |
| US8012260B2 (en) | 2001-06-11 | 2011-09-06 | Applied Materials Gmbh & Co. Kg | Apparatus and method for coating an areal substrate |
| EP1357200A1 (en) * | 2002-04-25 | 2003-10-29 | Eastman Kodak Company | Thermal PVD apparatus with detachable vapor source(s) |
| WO2011077662A1 (ja) * | 2009-12-21 | 2011-06-30 | 株式会社アルバック | 真空蒸着装置及びそのメンテナンス方法 |
| JP5619028B2 (ja) * | 2009-12-21 | 2014-11-05 | 株式会社アルバック | 真空蒸着装置及びそのメンテナンス方法 |
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