JP5613904B2 - プラズマ処理装置用電極板 - Google Patents
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Description
まず、この電極板が用いられるプラズマ処理装置として、プラズマエッチング装置100について説明する。このプラズマエッチング装置100は、図2に示すように、真空チャンバー10内の上部に電極板(上部電極)20が設けられ、下部に上下動可能な架台(下部電極)30が電極板20と間隔をおいて平行に設けられている。
11 エッチングガス供給管
12 拡散部材
13 排出口
14 高周波電源
20 電極板(上部電極)
21 ガス通過孔
21a 下流側部
21b 上流側部
21c 終端部
21d 交点
22 冷却面
23 プラズマ放射面
30 架台
31 絶縁体
32 静電チャック
33 支持リング
34 冷却板
34a 貫通孔
35 シールドリング
100 プラズマエッチング装置
A プラズマ発生領域
s デポジット膜
W ウエハ
x 突出寸法
Claims (5)
- 厚さ方向に貫通する複数のガス通過孔を有し、冷却板に接する冷却面側からプラズマ放射面側へ向けて前記ガス通過孔を通じてエッチングガスを流通させながら前記プラズマ放射面からプラズマを発生するプラズマ処理装置用電極板であって、
前記ガス通過孔は、前記プラズマ放射面側から前記冷却面側に向けて前記厚さ方向途中まで形成された下流側部と、前記冷却面側から前記プラズマ放射面側に向けて前記厚さ方向途中まで形成された上流側部と、が連通してなるとともに、前記下流側部および前記上流側部の少なくともいずれか一方が前記厚さ方向に対して斜めに形成されることにより屈曲しており、
前記上流側部が前記下流側部との接続部から突出して形成された終端部を備えることを特徴とするプラズマ処理装置用電極板。 - 前記終端部は略半球状の底部を有することを特徴とする請求項1に記載のプラズマ処理装置用電極板。
- 前記終端部は、内面の表面粗さがRa≧0.8μmであることを特徴とする請求項1または2に記載のプラズマ処理装置用電極板。
- 前記電極板の厚さが10mm、前記ガス通過孔の孔径が0.5mmである場合、前記終端部の前記下流側部からの突出寸法が0.5mm以上3mm以下であることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載のプラズマ処理装置用電極板。
- 前記上流側部が前記厚さ方向に対して斜めに形成される場合、前記上流側部の角度は、前記厚さ方向に対して10°以上45°以下であることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載のプラズマ処理装置用電極板。
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