JP5606028B2 - フォトマスクブランクおよびフォトマスクの製造方法 - Google Patents

フォトマスクブランクおよびフォトマスクの製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP5606028B2
JP5606028B2 JP2009210534A JP2009210534A JP5606028B2 JP 5606028 B2 JP5606028 B2 JP 5606028B2 JP 2009210534 A JP2009210534 A JP 2009210534A JP 2009210534 A JP2009210534 A JP 2009210534A JP 5606028 B2 JP5606028 B2 JP 5606028B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
light shielding
photomask
antireflection layer
surface antireflection
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2009210534A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2011059502A5 (enExample
JP2011059502A (ja
Inventor
雅広 橋本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hoya Corp
Original Assignee
Hoya Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hoya Corp filed Critical Hoya Corp
Priority to JP2009210534A priority Critical patent/JP5606028B2/ja
Publication of JP2011059502A publication Critical patent/JP2011059502A/ja
Publication of JP2011059502A5 publication Critical patent/JP2011059502A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5606028B2 publication Critical patent/JP5606028B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
JP2009210534A 2009-09-11 2009-09-11 フォトマスクブランクおよびフォトマスクの製造方法 Expired - Fee Related JP5606028B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009210534A JP5606028B2 (ja) 2009-09-11 2009-09-11 フォトマスクブランクおよびフォトマスクの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009210534A JP5606028B2 (ja) 2009-09-11 2009-09-11 フォトマスクブランクおよびフォトマスクの製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2011059502A JP2011059502A (ja) 2011-03-24
JP2011059502A5 JP2011059502A5 (enExample) 2012-09-20
JP5606028B2 true JP5606028B2 (ja) 2014-10-15

Family

ID=43947178

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009210534A Expired - Fee Related JP5606028B2 (ja) 2009-09-11 2009-09-11 フォトマスクブランクおよびフォトマスクの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5606028B2 (enExample)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5820555B2 (ja) * 2011-03-31 2015-11-24 Hoya株式会社 マスクブランク及び位相シフトマスクの製造方法
JP6058318B2 (ja) * 2011-09-14 2017-01-11 Hoya株式会社 マスクブランク、転写用マスク、転写用マスクの製造方法、および半導体デバイスの製造方法
KR20140117429A (ko) * 2012-01-23 2014-10-07 아사히 가라스 가부시키가이샤 나노임프린트 몰드용 블랭크, 나노임프린트 몰드 및 그들의 제조 방법
JP6185721B2 (ja) * 2013-01-29 2017-08-23 Hoya株式会社 マスクブランク、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、および半導体デバイスの製造方法
KR102046729B1 (ko) * 2013-09-24 2019-11-19 호야 가부시키가이샤 마스크 블랭크, 전사용 마스크, 및 반도체 디바이스의 제조방법
JP2016057578A (ja) * 2014-09-12 2016-04-21 信越化学工業株式会社 フォトマスクブランク
US10551733B2 (en) * 2015-03-24 2020-02-04 Hoya Corporation Mask blanks, phase shift mask, and method for manufacturing semiconductor device
JP6398927B2 (ja) * 2015-09-18 2018-10-03 信越化学工業株式会社 フォトマスクブランク、その製造方法及びフォトマスク
JP6400763B2 (ja) * 2017-03-16 2018-10-03 Hoya株式会社 マスクブランク、転写用マスクおよび半導体デバイスの製造方法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57161857A (en) * 1981-03-31 1982-10-05 Dainippon Printing Co Ltd Photomask blank plate
JPS57161856A (en) * 1981-03-31 1982-10-05 Dainippon Printing Co Ltd Photomask
JPH0650387B2 (ja) * 1986-03-31 1994-06-29 アルバツク成膜株式会社 フオトマスクおよびその製造方法
JPH0650388B2 (ja) * 1986-04-04 1994-06-29 アルバツク成膜株式会社 フオトマスクおよびその製造方法
JPH0463349A (ja) * 1990-07-03 1992-02-28 Toppan Printing Co Ltd フォトマスクブランクおよびフォトマスク
JP4443873B2 (ja) * 2003-08-15 2010-03-31 Ｈｏｙａ株式会社 位相シフトマスクの製造方法
JP4883278B2 (ja) * 2006-03-10 2012-02-22 信越化学工業株式会社 フォトマスクブランク及びフォトマスクの製造方法
JP4509050B2 (ja) * 2006-03-10 2010-07-21 信越化学工業株式会社 フォトマスクブランク及びフォトマスク
JP4737426B2 (ja) * 2006-04-21 2011-08-03 信越化学工業株式会社 フォトマスクブランク
WO2008139904A1 (ja) * 2007-04-27 2008-11-20 Hoya Corporation フォトマスクブランク及びフォトマスク

Also Published As

Publication number Publication date
JP2011059502A (ja) 2011-03-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5606028B2 (ja) フォトマスクブランクおよびフォトマスクの製造方法
JP4989800B2 (ja) マスクブランク及び転写用マスクの製造方法
JP6729508B2 (ja) フォトマスクブランク及びフォトマスク
TWI673564B (zh) 光罩基底、轉印用光罩之製造方法及半導體裝置之製造方法
JP5558359B2 (ja) フォトマスクブランク、フォトマスク及びその製造方法、並びに半導体デバイスの製造方法
US8048594B2 (en) Photomask blank, photomask, and methods of manufacturing the same
JP5714266B2 (ja) マスクブランク、転写用マスクおよびこれらの製造方法
US8043771B2 (en) Phase shift mask blank and method of manufacturing phase shift mask
US20200150524A1 (en) Mask blank, transfer mask, method for manufacturing transfer mask, and method for manufacturing semiconductor device
JP6398927B2 (ja) フォトマスクブランク、その製造方法及びフォトマスク
JP2009244752A (ja) フォトマスクブランク、フォトマスク及びその製造方法
CN111344633B (zh) 掩模坯料、相移掩模及制造方法、半导体器件的制造方法
WO2010113787A1 (ja) マスクブランク及び転写用マスクの製造方法
WO2021192734A1 (ja) マスクブランク及び転写用マスクの製造方法
CN110603489B (zh) 掩模坯料、转印用掩模及半导体器件的制造方法
JP4831368B2 (ja) グレートーンマスクブランク及びグレートーンマスク
JP2017227824A (ja) マスクブランク、転写用マスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法
JP6608613B2 (ja) 位相シフトマスクブランク、位相シフトマスクの製造方法及び半導体装置の製造方法
TW202303261A (zh) 光罩基底、相位偏移光罩及半導體裝置之製造方法
CN118401890A (zh) 光掩模坯、光掩模以及光掩模的制造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120807

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20120807

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20130930

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20131008

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20131121

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20131203

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140204

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140326

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140812

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140826

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5606028

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees