JP5604208B2 - 欠陥検出装置及びコンピュータプログラム - Google Patents
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Description
(1)欠陥検査システムの全体構成
図1は、欠陥検査システムの概略構成を示す図である。図1に例示するように、欠陥検査システムは、半導体素子の設計データを格納した設計データ格納部101と、欠陥検査装置102と、検査画像を撮影する走査型電子顕微鏡103と、を備えている。欠陥検査装置102では、設計データ101を利用して、シミュレーション設計データ1021を作成し、走査型電子顕微鏡103から取得した、検査画像1022が格納される。
(2)設計データに基づくマスク画像作成処理
図6に例示するプロセッサを用いて、マスク画像を作成する工程を、図2を用いて説明する。
(3)マスク処理が施されたシミュレーション画像を用いた欠陥検出処理
図3は、マスク処理が施されたシミュレーション画像を用いた欠陥検出処理の一例を示す図である。
(4)レシピ作成工程
図7は、検査位置の指定に基づいて自動的にSEMのレシピを作成する工程を説明する図である。まず、検査位置となる位置情報を入力する(ステップ701)。この入力情報に基づいて、シミュレータに記憶されたシミュレーション画像を読み出す(ステップ702)。なお、シミュレーションによって、ホットスポット抽出を行い、当該ホットスポット情報に基づいて、検査位置を決定するような場合には、ステップ701の処理は不要となる。ステップ702にて読み出されたシミュレーション画像に基づいて、上記膨張処理、及びマスク処理を実行し、マスク画像を作成する(ステップ703)。作成されたマスク画像は、検査位置情報と共にレシピに登録する(ステップ704)。
102 欠陥検査装置
103 走査型電子顕微鏡
201 半導体素子の設計データ
202 シミュレーション処理後設計データ
203 膨張処理後設計データ
204 Mask画像1
205 Mask画像2
301 検査画像
302 マスキング処理1後画像
303 マスキング処理2後画像
304 閾値
305 ヒストグラム
1021 シミュレーション設計データ
1022 検査画像
Claims (10)
- 半導体回路のレイアウトデータに対し、シミュレーションを施したシミュレーション画
像データのパターン線分を膨張する膨張処理部と、当該膨張処理が施されたシミュレーシ
ョン画像データのパターン内側領域又は外側領域の一方にマスクを施すマスク処理実行
部と、当該マスクが施されたシミュレーション画像データと、荷電粒子線装置によって得
られた画像を重畳させ、当該マスクが施された領域以外の領域について、輝度信号を検出
する輝度信号抽出部と、当該輝度変化が所定値を超えた部分の有無の判定、或いは当該所
定値を超えた部分の位置情報を抽出する欠陥抽出部を備えたことを特徴とする欠陥検査装
置。 - 請求項1において、
前記欠陥抽出部は、前記内側領域と外側領域について、それぞれ異なる前記所定値を用
いて、前記輝度変化が所定値を超えた部分の有無の判定、或いは当該所定値を超えた部分
の位置情報を抽出することを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項1において、
前記マスク処理部は、前記内側領域にマスクを施した第1のマスク画像と、前記外側領
域にマスクを施した第2のマスク画像を作成することを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項1において、
膨張処理が施された画像のパターンの内側又は外側の領域を検査対象外であることを認識可能な画素情報に置換することを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項1において、
膨張処理は、パターンの角部を他の部分と比較して膨張量を大きく設定することを特徴とする欠陥検査装置。 - 演算装置に、画像データに含まれる欠陥の有無の判定、或いは欠陥の位置情報を抽出さ
せるコンピュータプログラムにおいて、
当該プログラムは、前記演算装置に、半導体回路のレイアウトデータに対し、シミュレ
ーションを施したシミュレーション画像データのパターン線分を膨張させ、当該膨張処理
が施されたシミュレーション画像データのパターン内側領域又は外側領域の一方にマス
クを施させ、当該マスクが施されたシミュレーション画像データと、荷電粒子線装置によ
って得られた画像を重畳させ、当該マスクが施された領域以外の領域について、輝度信号
を検出させ、当該輝度変化が所定値を超えた部分の有無の判定、或いは当該所定値を超え
た部分の位置情報を抽出させることを特徴とするコンピュータプログラム。 - 請求項6において、
前記プログラムは、前記演算装置に、前記内側領域と外側領域について、それぞれ異な
る前記所定値を用いて、前記輝度変化が所定値を超えた部分の有無の判定、或いは当該所
定値を超えた部分の位置情報を抽出させることを特徴とするコンピュータプログラム。 - 請求項6において、
前記プログラムは、前記演算装置に、前記内側領域にマスクを施した第1のマスク画像
と、前記外側領域にマスクを施した第2のマスク画像を作成させることを特徴とするコン
ピュータプログラム。 - 請求項6において、
前記プログラムは、前記演算装置に、膨張処理が施された画像のパターンの内側又は外側の領域を検査対象外であることを認識可能な画素情報に置換させることを特徴とするコンピュータプログラム。 - 請求項6において、
前記プログラムは、前記演算装置に、膨張処理として、パターンの角部を他の部分と比較して膨張量を大きく設定させることを特徴とするコンピュータプログラム。
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