JP4700772B2 - 画像照合方法および画像照合プログラム - Google Patents
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Description
図1において、SEM1は、走査型電子顕微鏡であって、電子線ビームを発生する電子銃、発生された電子線ビームを集束する集束レンズ、集束された電子線ビームをマスク2の上で細く絞る対物レンズ、微細かつ高速に電子線ビームをマスク2の上に細く絞る(フォーカス調整、フォーカス合わせ)するためのダイナミックコイル、マスク2の上で細く絞られた電子線ビームを平面走査(X方向およびY方向に走査)するための2段の偏向系、更に、細く絞った電子線ビームでマスク2の上を平面走査したときに放出された2次電子、光、反射された反射電子を検出する検出器などから構成され、マスク2の表面の画像(2次電子画像、反射電子画像)などを生成する公知のものである。
バイアス設定手段14は、基準画像のパターンを太らせるあるいは細らせるバイアス値を設定(最大値、最小値、分割数(あるいは可変量)を設定)するものである(図2、図4参照)。
オフセット値21は、基準画像19に設定する最適なオフセット値を格納したものである(図2から図4参照)。
入力装置24は、各種入力装置であって、ここでは、マスク、キーボードなどの入力装置である。
図2は、本発明の動作説明フローチャートを示す。
・最大値:
・最小値:
・分割数(可変量):
を設定する。ここで、最大値、最小値は、基準画像のパターンを可変、ここでは太らせる最大値、最小値であって、例えば200nm、20nmである。分割数は、例えば50である(可変量は、例えば((最大値ー最小値)÷分割数)=(200−20)÷50=3.6nmである)。
S7は、比較画像の選択か判別する。YESの場合には、S8に進む。NOの場合には、終了する。
S13は、CAD画像(基準画像)のバイアス変換(分割数分の繰り返し)する。これは、CAD画像のパターンのバイアス値について、S10で最大値に設定したので、同様にして、最大値から1つ、2つ、・・・小さいバイアス値を順次、分割数分だけ繰り返して設定し、S14で最小値に到達していないときはS11に戻り繰り返し、S14で最小値に到達していたときはSS15に進む。
図3の(a)は、基準画像(CAD画像)の例を示す。基準画像として、CADデータから生成した2値のCAD画像の例を模式的に示す。黒い部分がパターンである。
図4の(a)は、バイアス値と、白または黒の部分の面積(あるいは画素数)との関係曲線を示す。図中で横軸はバイアス設定値(最大値、最小値、分割数(可変量))で決まるバイアス値を表し、縦軸は基準画像、比較画像のみの部分の面積(あるいは画素数)をそれぞれ表す。両者が交差する点(ほぼ等しくなる点)が、ここでは、基準画像のパターンに設定する最適なバイアス値Vnmと判定する。
2:マスク
3:ステージ
4:干渉計
11:PC(パソコン)
12:画像選択手段
13:2値化手段
14:バイアス設定手段
15:パターンマッチング手段
16:判定手段
17:測長・検査手段
18:CADデータDB
19:基準画像
20:比較画像
21:オフセット値
22:結果DB
23:表示装置
24:入力装置
Claims (5)
- 基準画像のパターンと測長対象の比較画像のパターンとを照合する画像照合方法において、
前記基準画像のパターンを太らせるあるいは細らせるオフセット値を順次設定するステップと、
前記オフセット値を順次設定して太らせたあるいは細らせた基準画像のパターンと、測長対象の比較画像のパターンとをパターンマッチングし、両者が重なる部分を除いた前者のみの部分の面積あるいは画素数と、後者のみの部分の面積あるいは画素数とをそれぞれ算出するステップと、
前記算出した前者のみの部分の面積あるいは画素数と、後者のみの部分の面積あるいは画素数とがほぼ等しくなる、前記オフセット値を判定するステップと、
前記判定したオフセット値を設定した前記基準画像のパターンと、前記比較画像のパターンとを照合するステップと
を有する画像照合方法。 - 前記基準画像として、CADデータから生成したCAD画像、あるいは当該CAD画像をもとに基板に露光・現像して生成し撮影した実画像、あるいは当該CAD画像または当該実画像をシュミレートして太らせたあるいは細らせたシュミレート画像としたことを特徴とする請求項1記載の画像照合方法。
- 前記基準画像のパターンを太らせるあるいは細らせるオフセット値として、最大オフセット値、最小オフセット値、分割数(あるいは可変オフセット値)をもとに順次設定することを特徴とする請求項1あるいは請求項2記載の画像照合方法。
- 前記順次設定するオフセット値の範囲を最初は広い所定範囲とし、前記算出した前者のみの部分の面積あるいは画素数と、後者のみの部分の面積あるいは画素数とがほぼ等しくなる部分の近傍に狭めることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれかに記載の画像照合方法。
- コンピュータを用いて基準画像のパターンと測長対象の比較画像のパターンとを照合する画像照合プログラムにおいて、
コンピュータに、
前記基準画像のパターンを太らせるあるいは細らせるオフセット値を順次設定するステップと、
前記オフセット値を順次設定して太らせたあるいは細らせた基準画像のパターンと、測長対象の比較画像のパターンとをパターンマッチングし、両者が重なる部分を除いた前者のみの部分の面積あるいは画素数と、後者のみの部分の面積あるいは画素数とをそれぞれ算出するステップと、
前記算出した前者のみの部分の面積あるいは画素数と、後者のみの部分の面積あるいは画素数とがほぼ等しくなる、前記オフセット値を判定するステップと、
前記判定したオフセット値を設定した前記基準画像のパターンと、前記比較画像のパターンとを照合するステップと
して機能させる画像照合プログラム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2006167289A JP4700772B2 (ja) | 2006-06-16 | 2006-06-16 | 画像照合方法および画像照合プログラム |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2006167289A JP4700772B2 (ja) | 2006-06-16 | 2006-06-16 | 画像照合方法および画像照合プログラム |
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Publication Number | Publication Date |
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JP2007334727A JP2007334727A (ja) | 2007-12-27 |
JP4700772B2 true JP4700772B2 (ja) | 2011-06-15 |
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ID=38934138
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2006167289A Active JP4700772B2 (ja) | 2006-06-16 | 2006-06-16 | 画像照合方法および画像照合プログラム |
Country Status (1)
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JP (1) | JP4700772B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP5604208B2 (ja) * | 2010-07-28 | 2014-10-08 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 欠陥検出装置及びコンピュータプログラム |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6210785A (ja) * | 1985-07-08 | 1987-01-19 | Yokogawa Electric Corp | パタ−ン認識装置 |
JPH03170930A (ja) * | 1990-11-16 | 1991-07-24 | Hitachi Ltd | パターン検査装置 |
JPH0546768A (ja) * | 1991-08-19 | 1993-02-26 | Shokuhin Kikai Kiban Gijutsu Kaihatsu Kk | 食品の形状,姿勢認識方法 |
-
2006
- 2006-06-16 JP JP2006167289A patent/JP4700772B2/ja active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JPH03170930A (ja) * | 1990-11-16 | 1991-07-24 | Hitachi Ltd | パターン検査装置 |
JPH0546768A (ja) * | 1991-08-19 | 1993-02-26 | Shokuhin Kikai Kiban Gijutsu Kaihatsu Kk | 食品の形状,姿勢認識方法 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007334727A (ja) | 2007-12-27 |
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