JP5594320B2 - 電気光学装置の製造方法 - Google Patents
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上記の本発明に係る電気光学装置の製造方法は、第1の基板形成領域、第2の基板形成領域、及び前記第1の基板領域と前記第2の基板領域との間に前記第1の基板領域に接するように配置される第3の基板領域を含む第1基板にシール材を形成するシール材形成工程と、前記第1基板と、第2基板と、を前記シール材を介して貼り合わせる基板貼り合せ工程と、を含み、前記シール材形成工程は、前記第1の基板形成領域、前記第2の基板形成領域、及び前記第3の基板形成領域に含まれる前記シール材が形成される領域である第1の領域に前記シール材を形成する工程と、前記第2の基板形成領域の外側に向かうように前記シール材の折り返し部分である第2の領域に前記シール材を形成する工程と、前記第2の領域と前記シール材の折り返し部分である第3の領域との間の前記シール材の折り返し部分である第5の領域に前記シール材を形成する工程と、前記第2の基板形成領域の内側に向かうように前記第3の領域に前記シール材を形成する工程と、前記第1の基板形成領域、前記第2の基板形成領域、及び前記第3の基板形成領域に含まれる前記シール材が形成される領域である第4の領域に前記シール材を形成する工程と、をこの順に行い、前記第2の領域及び前記第3の領域の各々は、前記第2の基板形成領域及び前記第2の基板形成領域の他方の側の外側の領域に含まれるように配置され、前記第5の領域は、前記第2の基板形成領域の外側の領域に含まれるように配置され、前記第1の領域と前記第2の領域、前記第2の領域と前記第5の領域、前記第5の領域と前記第3の領域、前記第3の領域と前記第4の領域は、各々連続し、前記第2の領域と前記第3の領域とは間隔を有し、前記第1の領域の前記シール材の形成を開始する位置と、前記第4の領域の前記シール材の形成を終了する位置は、前記第1の基板形成領域の一方の側の外側に配置され、前記第1の基板形成領域、前記第2の基板形成領域、及び前記第3の基板形成領域に含まれる前記シール材が形成される領域である第1の領域に前記シール材を形成する工程は、前記第1の基板形成領域の一方から他方へ向かう第1の方向に前記シール材を形成する工程と、前記第1の基板形成領域において前記第1の方向に交差する第2の方向に前記シール材を形成する工程と、前記第3の基板形成領域において前記第2の方向とは逆の方向である第4の方向に前記シール材を形成する工程と、前記第3の基板形成領域において前記第1の方向に前記シール材を形成する工程と、をこの順に行い、前記第1の基板形成領域、前記第2の基板形成領域、及び前記第3の基板形成領域に含まれる前記シール材が形成される領域である第4の領域に前記シール材を形成する工程は、前記第3の基板形成領域において前記第1の方向の逆の方向である第3の方向に前記シール材を形成する工程と、前記第3の基板形成領域において前記第4の方向に前記シール材を形成する工程と、前記第1の基板形成領域において前記第2の方向に前記シール材を形成する工程と、前記第1の基板形成領域において前記第3の方向に前記シール材を形成する工程と、をこの順に行うことを特徴とする。
上記の本発明に係る電気光学装置の製造方法は、第1の基板形成領域及び第2の基板形成領域を含む第1基板にシール材を形成するシール材形成工程と、前記第1基板と、第2基板と、を前記シール材を介して貼り合わせる基板貼り合せ工程と、を含み、前記シール材形成工程は、前記第1の基板形成領域及び前記第2の基板形成領域に含まれる前記シール材が形成される領域である第1の領域に前記シール材を形成する工程と、前記第2の基板形成領域の外側に向かうように前記シール材の折り返し部分である第2の領域に前記シール材を形成する工程と、前記第2の領域と前記シール材の折り返し部分である第3の領域との間の前記シール材の折り返し部分である第5の領域に前記シール材を形成する工程と、前記第2の基板形成領域の内側に向かうように前記第3の領域に前記シール材を形成する工程と、前記第1の基板形成領域及び前記第2の基板形成領域に含まれる前記シール材が形成される領域である第4の領域に前記シール材を形成する工程と、をこの順に行い、前記第2の領域及び前記第3の領域の各々は、前記第2の基板形成領域及び前記第2の基板形成領域の外側の領域に含まれるように配置され、前記第5の領域は、前記第2の基板形成領域の外側の領域に含まれるように配置され、前記第1の領域と前記第2の領域、前記第2の領域と前記第5の領域、前記第5の領域と前記第3の領域、前記第3の領域と前記第4の領域は、各々連続し、前記第2の領域と前記第3の領域とは間隔を有し、前記第1の領域の前記シール材の形成を開始する位置と、前記第4の領域の前記シール材の形成を終了する位置は、前記第1の基板形成領域の一方の側の外側に配置され、前記第2の領域、前記第3の領域、及び前記第5の領域は、前記第2の基板形成領域の他方の側の外側に配置され、前記第1の基板形成領域及び前記第2の基板形成領域に含まれる前記シール材が形成される領域である第1の領域に前記シール材を形成する工程は、前記第1の基板形成領域の一方から他方へ向かう第1の方向に前記シール材を形成する工程と、前記第1の方向に交差する第2の方向に前記シール材を形成する工程と、前記第2の方向とは逆の方向である第4の方向に前記シール材を形成する工程と、を含み、前記第1の基板形成領域及び前記第2の基板形成領域に含まれる前記シール材が形成される領域である第4の領域に前記シール材を形成する工程は、前記第1の方向の逆の方向である第3の方向に前記シール材を形成する工程と、前記第2の方向に前記シール材を形成する工程と、前記第4の方向に前記シール材を形成する工程と、を含むことを特徴とする。
上記の本発明に係る電気光学装置の製造方法は、基板形成領域を含む第1基板にシール材を形成するシール材形成工程と、前記第1基板と、第2基板と、を前記シール材を介して貼り合わせる基板貼り合せ工程と、を含み、前記シール材形成工程は、前記基板形成領域に含まれる第1の領域に前記シール材を形成する工程と、前記基板形成領域の外側に向かうように第2の領域に前記シール材を形成する工程と、前記基板形成領域の内側に向かうように第3の領域に前記シール材を形成する工程と、前記基板形成領域に含まれる第4の領域に前記シール材を形成する工程と、をこの順に行い、前記第2の領域及び前記第3の領域の各々は、前記基板形成領域及び前記基板形成領域の外側の領域に含まれるように配置されることを特徴とする。
また、上記の本発明に係る第1の電気光学装置の製造方法は、複数の基板形成領域を有する第1大型基板に対して、少なくとも該各基板形成領域にシール材を描画するシール材描画工程と、前記第1大型基板に対し前記シール材を介して第2大型基板を貼り合わせる大型基板貼り合わせ工程とを備え、前記シール材描画工程では、予め設定されている描画パターンに従い、互いに隣接して配設されている複数の前記基板形成領域に対し、往路において前記基板形成領域の一部に前記シール材を連続描画し、該往路の終端に連続する折り返し点を経て復路へ移動し、該復路において該基板形成領域の残部に対してシール材を連続描画することを特徴とする。
図1〜図7に本発明の第1実施形態を示す。図1は電気光学装置である液晶装置をその上に形成された各構成要素と共に対向基板側から見た平面図、図2はTFT基板と対向基板とを貼り合わせて液晶を封入する組立工程終了後の液晶装置であって、図1のH-H'断面図である。
図8に本発明の第2実施形態による描画パターンの要部拡大図を示す。本実施形態では、描画パターンPTの描画に際し、領域毎に相対移動速度を可変させるようにしたものである。ディスペンサ30のノズルからはシール材が定量吐出されているが、特にコーナ部では、直線部と同様の相対移動速度で描画を行うとシール材の断面積が減少して、シール切れが生じやすくなる。
図9、図10に本発明の第3実施形態を示す。図9に示すように、ディスペンサ30を第1大型基板120に沿って移動させるに際しては、レーザ等を用いた非接触式変位計31で第1大型基板120とディスペンサ30のノズル端との距離を計測し、この距離を一定に保持するように制御しながら相対移動させている。
Claims (2)
- 第1の基板形成領域、第2の基板形成領域、及び前記第1の基板形成領域と前記第2の基板形成領域との間に前記第1の基板形成領域に接するように配置される第3の基板形成領域を含む第1基板にシール材を形成するシール材形成工程と、
前記シール材が形成された第1基板に電気光学物質を形成する工程と、
前記第1基板と、第2基板と、を前記シール材及び前記電気光学物質を介して貼り合わせる基板貼り合せ工程と、
を含み、
前記シール材形成工程は、
前記第1の基板形成領域、前記第2の基板形成領域、及び前記第3の基板形成領域に含まれる前記シール材が形成される領域である第1の領域に前記シール材を形成する工程と、
前記第2の基板形成領域の外側に向かうように前記シール材の折り返し部分である第2の領域に前記シール材を形成する工程と、
前記第2の領域と前記シール材の折り返し部分である第3の領域との間の前記シール材の折り返し部分である第5の領域に前記シール材を形成する工程と、
前記第2の基板形成領域の内側に向かうように前記第3の領域に前記シール材を形成する工程と、
前記第1の基板形成領域、前記第2の基板形成領域、及び前記第3の基板形成領域に含まれる前記シール材が形成される領域である第4の領域に前記シール材を形成する工程と、
をこの順に行い、
前記第2の領域及び前記第3の領域の各々は、前記第2の基板形成領域及び前記第2の基板形成領域の他方の側の外側の領域に含まれるように配置され、
前記第5の領域は、前記第2の基板形成領域の外側の領域に含まれるように配置され、
前記第1の領域と前記第2の領域、前記第2の領域と前記第5の領域、前記第5の領域と前記第3の領域、前記第3の領域と前記第4の領域は、各々連続し、前記第2の領域と前記第3の領域とは間隔を有し、
前記第1の領域の前記シール材の形成を開始する位置と、前記第4の領域の前記シール材の形成を終了する位置は、前記第1の基板形成領域の一方の側の外側に配置され、
前記第1の基板形成領域、前記第2の基板形成領域、及び前記第3の基板形成領域に含まれる前記シール材が形成される領域である第1の領域に前記シール材を形成する工程は、前記第1の基板形成領域の一方から他方へ向かう第1の方向に前記シール材を形成する工程と、前記第1の基板形成領域において前記第1の方向に交差する第2の方向に前記シール材を形成する工程と、前記第3の基板形成領域において前記第2の方向とは逆の方向である第4の方向に前記シール材を形成する工程と、前記第3の基板形成領域において前記第1の方向に前記シール材を形成する工程と、をこの順に行い、
前記第1の基板形成領域、前記第2の基板形成領域、及び前記第3の基板形成領域に含まれる前記シール材が形成される領域である第4の領域に前記シール材を形成する工程は、前記第3の基板形成領域において前記第1の方向の逆の方向である第3の方向に前記シール材を形成する工程と、前記第3の基板形成領域において前記第4の方向に前記シール材を形成する工程と、前記第1の基板形成領域において前記第2の方向に前記シール材を形成する工程と、前記第1の基板形成領域において前記第3の方向に前記シール材を形成する工程と、をこの順に行うことを特徴とする電気光学装置の製造方法。 - 前記第5の領域は、前記第2の基板形成領域の他方の側の辺に沿った第6の領域と、前記第6の領域に交差するように配置され、前記第6の領域に連続する第7の領域と、
を含むことを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置の製造方法。
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