JP5588174B2 - フッ素化オレフィンの製造方法 - Google Patents
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本出願は、2005年11月3日に出願された米国特許仮出願第60/733355号(これは参照を通じて本明細書に組み込まれる)に関連し、その優先権の利益を請求するものである。
本出願はまた、2006年1月7日に出願された米国特許仮出願第60/763086号(これは参照を通じて本明細書に組み込まれる)にも関連し、その優先権の利益も請求するものである。
やはり参照を通じて本明細書に組み込まれるのは、本件と同時に出願され、代理人案件整理番号H0012514−4510およびH0013128−4511により識別される米国特許出願である。
(背景技術)
1つの種類としてのフッ素化オレフィンには、化学中間体およびモノマーとしての用途を含めて、多くの様々な用途がある。
X1CFzR3−z
(X1は、C1、C2、C3、C4、またはC5の不飽和の置換もしくは非置換アルキル基であり、Rは独立に、Cl、F、Br、IまたはHであり、zは1から3である)を有する化合物が含まれる。このような化合物の中で非常に好ましいのは、3から5個のフッ素置換基を有するプロペンおよびブテンであり、これらの中で、テトラフルオロプロペン(HFO−1234)が特に好ましい。
(a)好ましくは多段階反応において、式(I):
(CXnY3−n)(CR1 aR2 b)ZCX=CHmX2−m(I)
の化合物を、式(II):
(CXnY3−n)(CR1 aR2 b)ZCHXCHm+1X2−m(II)
[各Xは独立に、Cl、F、IまたはBrであり;
各Yは独立に、H、Cl、F、IまたはBrであり;
各R1は独立に、H、Cl、F、I、Br、あるいは、非置換またはハロゲン置換メチルまたはエチル基であり;
各R2は独立に、H、Cl、F、I、Br、あるいは、非置換またはハロゲン置換メチルまたはエチル基であり;
nは1、2または3であり;
aおよびbはそれぞれ1または2であり(但し、a+b=2である);
mは0、1または2であり;また
Zは0、1、2または3である]
のフッ素化アルカンの少なくとも1種を生成するのに有効な条件下で水素化するステップ;および
(b)式(I)の化合物よりもフッ素置換度の小さいフルオロオレフィンを生成し、好ましくは式(III):
(CXnY3−n)(CR1 aR2 b)zCX=CHmX2−m(III)
[各nは式(I)と同じ値であり、mは0または1である]
の化合物を生成するのに有効な条件下で式(II)の化合物に対して脱ハロゲン化水素を行うステップ;
を含む。
CXnY3−nCX=CHmX2−m(IA)
を含み、次の式(IIA)の3つの炭素を有するアルカン:
(CXnY3−n)CHXCHm+1X2−m(IIA)
[X、Y、n、およびmは全て、上で示された通りである]
を生成し、次いで、この化合物は脱ハロゲン化水素が行われたことを受けて、式(IIIA)の化合物:
(CXnY3−n)CX=CHmX2−m(IIIA)
[nは式(IA)と同じ値であり、mは0または1である]
を生成する。
本発明の一実施形態が、図1に関連付けてこれから説明され、図1において、N+1のハロゲン置換度、好ましくはフッ素置換度を有する少なくとも1種のフッ素化オレフィンを含む供給物の流れ1が第1転化ステップ50に従う。転化ステップ50には、好ましくは、還元剤を含む供給物の流れ2もまた関与する。転化ステップ50は、好ましくは、1つまたは複数の反応容器(これらの少なくとも1つには、還元または水素化の触媒が好ましくは含まれている)を提供すること、および、所望の転化を達成するのに有効な条件下で流れ1および2を(1つまたは複数の)容器に導入することを含む。
還元ステップは、バッチ運転で実施され得ると想定されているが、還元反応は実質的に連続的な運転として実施されることが好ましい。さらに、ある特定の実施形態において、還元反応は液相反応を含むことが可能であるが、好ましい実施形態において、還元反応は、少なくとも2つの気相反応段階を含み、より一層好ましくは、少なくとも2つの気相反応段階からなると想定されている。
脱ハロゲン化水素反応ステップは、本明細書に含まれる全般的教示を考慮して、例えば、ある特定の好ましくない実施形態において脱ハロゲン化水素ステップは液相反応を含み得ると想定されているように、多様なプロセスパラメータおよびプロセス条件を用いて実施され得ると想定されている。しかし、この反応ステップが、好ましくは触媒(担持されているか、または担持されていない(supported or in bulk))、好ましくは金属触媒、より一層好ましくは、1種または複数の遷移金属系触媒(ある特定の好ましい実施形態では、遷移金属ハロゲン化物触媒を含めて)、例えば、FeCl3、オキシフッ化クロム、Ni(Niメッシュを含めて)、NiCl2、CrF3、およびこれらの混合物)の存在下の気相反応を含むことが、本発明の多くの実施形態において好ましい。他の触媒には、炭素に担持された触媒、アンチモン系触媒(例えば、SbCl5)、アルミニウム系触媒(例えば、AlF3、Al2O3、およびフッ素化されたAl2O3)が含まれる。他の多くの触媒、例えば、パラジウム系触媒、白金系触媒、ロジウム系触媒およびルテニウム系触媒が、特定の実施形態の要件に応じて使用され得ると予想される。言うまでもなく、これらの触媒の2種以上、またはここに名称を挙げられていない他の触媒が組み合わせて用いられてもよい。
前記のように、フッ素化オレフィン(好ましくはフッ素化プロペン)を生成することに加えて、脱フッ化水素反応はまた、HFも生成する。好ましい一実施形態において、HFは、脱フッ化水素生成物の流れから、硫酸による向流抽出によって除去される。この実施形態では、HFを含む生成物の流れは、カラム(好ましくは、充填されたカラム)に1つの方向で供給される。同時に、硫酸の流れが、好ましくは向流として、同じ充填カラムに供給される。適切なカラム充填は当業者により容易に決定され得る。適切なカラム充填材料には、HFまたは硫酸の存在下に反応しない非金属ポリマー材料、金属および合金、例えば、PTFE、PFA、ハステロイ(hastelloy)、モネル(monel)、および貴金属が含まれる。好ましくは、硫酸の流れは、約50%から約100%の硫酸を、より好ましくは約80%の硫酸を含む。一実施形態において、硫酸流は、生成物の流れの供給速度の約2倍の供給速度で、充填カラムの最上部に連続的に供給され、生成物の流れは、好ましい実施形態において、充填カラムの底部から供給され、硫酸を含む実質的に下に流れる流れに対して実質的に向流として通常上向きに移動する。ある特定の実施形態において、硫酸およびHFを含む流れは、カラムの底部から取り出され、好ましくは、流れの少なくとも一部、最も好ましくは、流れの実質的に全ては、抽出塔にリサイクルされる。このリサイクルするステップは、好ましくは、カラムの底部でのHF濃度が約10重量%のHFを超えるまで、繰り返される。
外側ジャケットが31℃の循環冷却浴に連結された、ジャケット付きの小さな1段階反応器に、0.2gの1%Pd/C(4〜6メッシュ)(類似の大きさのニクロムメッシュと混ぜて)を入れて、触媒床の全容積を1ccとする。水素およびヘキサフルオロプロペンのガスを導入する前に、最初、床の温度は21℃である。しかし、水素(0.37mol/h)およびヘキサフルオロプロペン(0.26mol/h)を導入すると、床の温度は約1分で70℃近くに上昇する。
比較例C−1におけるものと同じ、ジャケット付きの小さな1段階反応器に、少量の1%Pd/Cを入れる。水素およびヘキサフルオロプロペンを予め混合し、次いで、反応器に導入する。触媒床の温度は69℃で安定化する。出て行くガスを分析して、転化率、およびCF3CHFCF2Hに対する選択性を求める。平均転化率は93.2%であり、一方、平均の選択性は95.7%である。
循環流体の温度を21℃に下げる以外は、比較例C−2を、同じ1段階反応器を用いて繰り返す。床の温度は61.5℃で安定化する。これらの条件下で転化率は88.6%に低下し、一方、選択性は97.0%に増加する。
次の実施例において用いる反応器は、3.81cm(1.5インチ)でスケジュール40の316SSパイプの部分から構成される多段階反応器である。
セクション1(3.81cm(1.5インチ)×30.5cm(1フィート):10gの触媒(1wt%Pd/4〜8メッシュカーボン)、残りの部分は0.64cm(1/4インチ)SS突起充填剤(protruded packing)で満たし、触媒は全体に等しく分布、
セクション2(3.81cm(1.5インチ)×61.0cm(2フィート):25gの触媒、セクション1と同様に分布、
セクション3(3.81cm(1.5インチ)×92cm(3フィート):73.4gの触媒、1200ccの充填剤を用い、セクション1と同様に分布、
セクション4(3.81cm(1.5インチ)×122cm(4フィート):158gの触媒、1400ccの充填剤に分布、
全触媒=267g。
ヘキサフルオロプロペンを多段階反応器に導入し、58時間に渡って連続的に還元し、この間、平均フィード量は6.58kg(14.5ポンド)/h(あるいは、約16.4L/分)である。水素の平均フィード量は25L/分である。一連の反応器に沿って様々な位置で試料を取って、転化率パーセントおよび選択性を追跡する。第2反応段階の後、転化率は約40%であり;第4反応段階の後、転化率は99.5%で、CF3CHFCF2Hに対する選択性は99%である。反応段階を出た直後のガスの温度は、第1段階で66℃、第2段階で104℃、第3段階で173℃、第4段階で100℃である。全ての反応段階における最高温度は約230℃である。第1の浴は55℃に保たれ、第2の浴は111℃に保たれている。
実施例1と同じ反応器を用い、6.62kg(14.6ポンド)/hの供給物質量を用い、全体で64時間で、1,2,3,3,3−ペンタフルオロプロペン−1を水素化する。水素の平均フィード量は25リットル/分である。一連の反応器に沿って様々な位置で試料を取って、転化率パーセントおよび選択性を追跡する。第2反応器の後、転化率は約54%である。第4反応器の後、転化率は100%であり、CF3CHFCH2Fに対する選択性は98%である。反応器を出た直後のガスの温度は、第1反応器で99℃、第2反応器で95℃、第3反応器で173℃、第4反応器で104℃である。全ての反応器における最高温度は240℃である。第1の浴は59℃に保たれ、第2の浴は116℃に保たれている。
次の脱フッ化水素反応を、円筒形モネル反応器で実施する。加熱は反応器を電気炉に挿入することによって行う。プロセス温度は、反応器内部および触媒床内に置かれた、多点熱電対を用いて記録する。ハイドロフルオロカーボンは、垂直に設置した反応器の底部に供給し、触媒床に達する前に気化する。GC分析を用いて反応の進展をモニタするために、流出ガスはガス試料採取バルブを通る。
HFC−236eaを、12g/hの流量で、1atm、250から350℃の温度範囲で、20ccのフッ素化Cr2O3に通す。1,1,1,2,3−ペンタフルオロプロペンの2つの異性体、具体的には、1225yeZおよび1225yeEが、反応の間に生成する。下の表2(実施例3)に示すように、反応温度が250から350℃に上がると、HFC−236eaの転化率は、65.2%から96.0%へと増加し、一方、1225yeZに対する選択性は、97.0%から94.6%へと僅かに減少する。250℃で、これらの1225の異性体は唯一の生成物であると思われる。これらの結果は、HFC−236eaの1225yeZへの転化に対してフッ素化Cr2O3触媒が非常に活性であり選択的であることを示す。
この実施例で用いた触媒には、AlF3、FeF3、および10%MgF2−90%AlF3が含まれる。HFC−236eaは、1atm、350℃、12g/hの流量で、20ccの各触媒を通過する。下の表3(実施例4)に示すように、AlF3および10%MgF2−90%AlF3のどちらも、HFC−236eaの脱フッ化水素に対して高活性(>95%のHFC−236eaの転化率)であり、他方、FeF3はずっと低い活性(<60%のHFC−236eaの転化率)を示す。AlF3および10%MgF2−90%AlF3の触媒での1225yeZに対する選択性は、350℃で約92%である。
この実施例で用いた触媒には、3種の活性炭(AC:activated carbon)担持金属触媒、具体的には、0.5wt%Fe/AC、0.5wt%Ni/AC、および5.0wt%Co/ACが含まれる。HFC−236eaは、1atm、350℃、12g/hの流量で、20ccの各触媒を通過する。表4(実施例5)に示すように、活性炭担持非貴金属触媒の中で、鉄が最高の活性を示している。350℃の反応温度および1atmで、0.5wt%Fe/AC触媒は、約90%の1225yeZ選択性、および約80%のHFC−236ea転化率を与える。
この実施例で用いた触媒には、2種のフッ素化金属酸化物触媒、具体的には、フッ素化Al2O3およびCr2O3が含まれる。HFC−245ebは、1atm、300℃、12g/hの流量で、20ccの各触媒を通過する。2,3,3,3−テトラフルオロプロペン(HFC−1234yf)が反応生成物として生じる。表5(実施例6)に示すように、どちらのフッ素化金属酸化物触媒も、95%を超えるHFC−245eb転化率および96%を超える1234fy選択性を与える。これらの結果は、245ebの1234yfへの転化に対してフッ素化Al2O3およびCr2O3触媒が非常に活性であり選択的であることを示す。
この実施例で用いた触媒には、3種の金属フッ化物触媒、具体的には、MgF2、AlF3、およびCeF4が含まれる。HFC−245ebは、1atm、350℃、12g/hの流量で、20ccの各触媒を通過する。表6(実施例7)に示すように、調べた金属フッ化物の中で、AlF3が最高の活性と高い選択性を示す。この触媒は、約97%のHFC−245eb転化率および約97%の1234yf選択性を与える。
この実施例で用いた触媒には、活性炭および活性炭担持Pd触媒が含まれる。HFC−245ebは、1atm、12g/hの流量で、20ccの各触媒を通過する。表7(実施例8)に示すように、活性炭(AC)は、1234yfへの245ebの転化に対して525℃でさえ非常に低い活性を示し、他方、活性炭担持Pd(0.5wt%)触媒は、450℃で、約92%の245eb転化率および約98%の1234yf選択性を与える。これらの結果は、ゼロ価(zero−valent)の金属触媒が、1234yfへの245ebの脱フッ化水素にとって活性であり得ることを示す。
実施例3の生成物の流れ(350℃)(これは、4.0wt%のHFC−236ea、78.9wt%の1225yeZ、3.3wt%の1225yeE、12.6wt%のHF、および1.2%の未知物質を含む)を、充填カラムの底部へ、約1.32kg(2.9ポンド)/hの供給物量で、約4時間供給する。
1−ブロモ−2,3,3,3−テトラフルオロプロペンを、実施例1の多段階反応器に導入し、連続的に還元する。一連の反応器に沿って様々な位置で試料を取って、転化率パーセントおよび選択性を追跡する。第2反応段階の後で、転化率は40%であり;第4反応段階の後で、転化率は99.5%であり、CF3CHFCH2Brへの選択性は99%である。
[本発明の態様]
1.3から6個の炭素原子およびハロゲン置換度Nを有するフッ素化オレフィンの製造方法であって、
(a)少なくとも2つの反応段階において、N+1のハロゲン置換度、および製造しようとするフッ素化オレフィンと実質的に同数の炭素原子を有するフッ素化オレフィン出発物質を、N+1のハロゲン置換度を有するフッ素化アルカンに転化させる工程;および
(b)N+1のハロゲン置換度を有する前記フッ素化アルカンを、Nのハロゲン置換度を有するフッ素化オレフィンに転化させる工程;
を含む方法。
2.前記転化工程(b)が、HFと、Nのフッ素置換度を有するフッ素化オレフィンとを含む反応生成物の流れを生じる、1に記載の方法。
3.前記転化工程(b)による前記反応生成物の流れの少なくとも一部が、前記生成物の流れからHFを抽出するために、硫酸に接触させられる、2に記載の方法。
4.前記硫酸との接触工程が、反応生成物の流れからのHFの少なくとも一部を含む流出硫酸流を生じ、該流出硫酸流の少なくとも一部を、前記抽出塔を通してリサイクルする工程をさらに含む、3に記載の方法。
5.N+1の置換度を有する前記フッ素化オレフィンが、3から6個のフッ素置換基を有するフルオロプロペンを含む、1に記載の方法。
6.N+1の置換度を有する前記フッ素化オレフィンが、ヘキサフルオロプロペンを含む、5に記載の方法。
7.N+1の置換度を有する前記フッ素化オレフィンが、ペンタフルオロプロペンを含む、5に記載の方法。
8.前記フッ素化アルカンがクロロトリフルオロプロパン(HCFC−244)を含む、5に記載の方法。
9.前記フッ素化アルカンがペンタフルオロプロパン(HFC−245)を含む、5に記載の方法。
10.前記フッ素化アルカンがヘキサフルオロプロパン(HFC−236)を含む、5に記載の方法。
11.N+1のフッ素置換度を有する前記フッ素化オレフィンが、F2C=CFCF3を含む、1に記載の方法。
12.N+1のフッ素置換度を有する前記フッ素化オレフィンが、CFH=CFCF3を含む、1に記載の方法。
13.前記転化工程(a)が、少なくとも第1および第2段階の、触媒による水素化反応を含む、1に記載の方法。
14.前記転化工程(a)が、前記第1および第2反応段階の各々において、炭素担持パラジウムを使用することを含む、13に記載の方法。
15.前記転化工程(b)が脱ハロゲン化水素を含む、1に記載の方法。
16.前記脱ハロゲン化水素が触媒による脱フッ化水素を含む、15に記載の方法。
17.前記脱フッ化水素が触媒による反応を含み、前記触媒が、1種または複数の、フッ素化金属酸化物、金属フッ化物、炭素担持遷移金属およびこれらの組合せからなる群から選択される、16に記載の方法。
18.(a)フッ素化オレフィンおよび水素の反応物質を含む供給物の流れを、第1の量の触媒と接触させて、該反応物質を第1の転化率でハイドロフルオロカーボンに転化させ、未反応フッ素化オレフィンおよび水素を含む第1出口流を生成させる工程;
(b)前記第1出口流を、第2の量の触媒と接触させて、前記未反応フッ素化オレフィンを第2の転化率でハイドロフルオロカーボンに転化させる工程であり、ここで、該第2の量の触媒は、前記第1の量の触媒より十分に多く、該第2の転化率は、前記第1の転化率より十分に大きい、該工程;
(c)前記接触工程(b)からの前記ハイドロフルオロカーボンの少なくとも一部に対して、脱ハロゲン化水素を行い、生成物であるフッ素化オレフィンおよびHFを含む生成物の流れを生成させる工程;および
(d)任意選択で、前記生成物の流れからHFを分離する工程;
を含む、フッ素化オレフィンの製造方法。
19.前記反応生成物の流れの少なくとも一部が、前記生成物の流れからHFを抽出するために、硫酸に接触させられる、18に記載の方法。
20.前記硫酸との接触工程が、前記反応生成物の流れからのHFの少なくとも一部を含む流出硫酸流を生じ、該流出硫酸流の少なくとも一部を、抽出塔を通してリサイクルする工程をさらに含む、19に記載の方法。
21.前記フッ素化オレフィンが、3から6個のフッ素置換基を有するフルオロプロペンを含む、19に記載の方法。
22.前記フッ素化オレフィンがヘキサフルオロプロペンを含む、19に記載の方法。
23.前記フッ素化オレフィンがペンタフルオロプロペンを含む、19に記載の方法。
24.前記ハイドロフルオロカーボンがクロロトリフルオロプロパン(HCFC−244)を含む、19に記載の方法。
25.前記ハイドロフルオロカーボンがペンタフルオロプロパン(HFC−245)を含む、19に記載の方法。
26.前記ハイドロフルオロカーボンがヘキサフルオロプロパン(HFC−236)を含む、19に記載の方法。
27.前記フッ素化オレフィンが、F2C=CFCF3を含む、19に記載の方法。
28.前記フッ素化オレフィンが、CFH=CFCF3を含む、19に記載の方法。
29.前記転化工程(a)および(b)が、それぞれ、炭素担持パラジウムの使用を含む、19に記載の方法。
30.前記脱ハロゲン化水素を行う工程が脱フッ化水素を含む、19に記載の方法。
31.前記脱フッ化水素が触媒による脱フッ化水素を含む、30に記載の方法。
32.前記脱フッ化水素が触媒による反応を含み、前記触媒が、1種または複数の、フッ素化金属酸化物、金属フッ化物、炭素担持遷移金属およびこれらの組合せからなる群から選択される、30に記載の方法。
33.(a)好ましくは多段階反応において、式(I):
(CXnY3−n)(CR1 aR2 b)ZCX=CHmX2−m(I)
の化合物を、式(II):
(CXnY3−n)(CR1 aR2 b)ZCHXCH2X(II)
[各Xは独立に、Cl、F、IまたはBrであり;
各Yは独立に、H、Cl、F、IまたはBrであり;
各R1は独立に、H、Cl、F、I、Br、あるいは、非置換またはハロゲン置換メチルまたはエチル基であり;
各R2は独立に、H、Cl、F、I、Br、あるいは、非置換またはハロゲン置換メチルまたはエチル基であり;
nは1、2または3であり;
aおよびbはそれぞれ1または2であり(但し、a+b=2である);
mは0、1または2であり;そして、
Zは0、1、2または3である]
のフッ素化アルカンの少なくとも1種を生成するのに有効な条件下で水素化する工程;および
(b)式(I)の化合物よりもフッ素置換度の小さいフルオロオレフィンを生成するのに有効な条件下で式(II)の化合物に対して脱ハロゲン化水素を行い、式(III):
(CXnY3−n)(CR1 aR2 b)zCX=CHmX2−m(III)
[各nは式(I)と同じ値であり、mは0または1である]
の化合物を生成させる工程;
を含む、フッ素化オレフィンの製造方法。
Claims (3)
- 3から6個の炭素原子およびハロゲン置換度Nを有するフッ素化オレフィンの製造方法であって、
(a)少なくとも2つの反応段階において、N+1のハロゲン置換度、および製造しようとするフッ素化オレフィンと同数の炭素原子を有するフッ素化オレフィン出発物質を、N+1のハロゲン置換度を有するフッ素化アルカンに転化させる工程;および
(b)N+1のハロゲン置換度を有する前記フッ素化アルカンを、Nのハロゲン置換度を有するフッ素化オレフィンに転化させる工程;
を含む方法であり、
前記少なくとも2つの反応段階のうち第1段階が10%から60%のフッ素化オレフィン出発物質の転化を生じさせ、そして、前記少なくとも2つの反応段階のうち第2段階が前記第1段階における転化より大きい転化率で前記フッ素化オレフィン出発物質の転化を生じさせ、前記第1段階および第2段階における転化率が、前記第1段階および第2段階に存在する触媒の量により制御される方法。 - フッ素化オレフィン生成物の製造方法であって、
(a)フッ素化オレフィンおよび水素を含む供給物の流れを、第1の量の触媒と接触させて、該フッ素化オレフィンを第1の転化率でハイドロフルオロカーボンに転化させ、未反応フッ素化オレフィンおよび水素を含む第1出口流を生成させる工程;
(b)前記第1出口流を、第2の量の触媒と接触させて、前記未反応フッ素化オレフィンを第2の転化率でハイドロフルオロカーボンに転化させる工程であり、ここで、該第2の量の触媒は、前記第1の量の触媒より多く、該第2の転化率は、前記第1の転化率より大きい、該工程;
(c)前記接触工程(b)からの前記ハイドロフルオロカーボンの少なくとも一部を脱フッ化水素し、生成物であるフッ素化オレフィンおよびHFを含む生成物の流れを生成させる工程;および
(d)任意選択で、前記生成物の流れから前記HFを分離する工程;
を含む方法。 - フッ素化オレフィンの製造であって、
(a)多段階反応において、式(I):
(CXnY3−n)(CR1 aR2 b)ZCX=CHmX2−m (I)
の化合物を、式(II):
(CXnY3−n)(CR1 aR2 b)ZCHXCHm+1X2−m (II)
[各Xは独立に、Cl、F、IまたはBrであり;
各Yは独立に、H、Cl、F、IまたはBrであり;
各R1は独立に、H、Cl、F、I、Br、あるいは、非置換またはハロゲン置換メチルまたはエチル基であり;
各R2は独立に、H、Cl、F、I、Br、あるいは、非置換またはハロゲン置換メチルまたはエチル基であり;
nは1、2または3であり;
aおよびbはそれぞれ1または2であり(但し、a+b=2である);
mは0または1であり;そして、
Zは0、1、2または3である]
のフッ素化アルカンの少なくとも1種を生成するのに有効な条件下で水素化する工程;および
(b)式(I)の化合物よりもフッ素置換度の小さいフルオロオレフィンを生成するのに有効な条件下で、式(II)の化合物に対して脱ハロゲン化水素を行い、式(III):
(CXnY3−n)(CR1 aR2 b)zCX=CHmX2−m (III)
[各nは式(I)と同じ値であり、式(I)においてmが0または1であるとき式(III)においてmはそれぞれ1または2である]
の化合物を生成させる工程;
を含む方法であり、
前記多段階反応のうち第1段階が10%から60%の式(I)の化合物の転化を生じさせ、そして、前記多段階反応のうち第2段階が前記第1段階における転化より大きい転化率で前記式(I)の化合物の転化を生じさせ、前記第1段階および第2段階における転化率が、前記第1段階および第2段階に存在する触媒の量により制御される方法。
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