JP5587962B2 - ガス加圧により載置板の反りを抑制する載置板固定方法 - Google Patents

ガス加圧により載置板の反りを抑制する載置板固定方法 Download PDF

Info

Publication number
JP5587962B2
JP5587962B2 JP2012249407A JP2012249407A JP5587962B2 JP 5587962 B2 JP5587962 B2 JP 5587962B2 JP 2012249407 A JP2012249407 A JP 2012249407A JP 2012249407 A JP2012249407 A JP 2012249407A JP 5587962 B2 JP5587962 B2 JP 5587962B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mounting plate
jig
gas
fixing method
hole
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2012249407A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2013128101A (ja
Inventor
誌宏 洪
Original Assignee
印能科技股▲ふん▼有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 印能科技股▲ふん▼有限公司 filed Critical 印能科技股▲ふん▼有限公司
Publication of JP2013128101A publication Critical patent/JP2013128101A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5587962B2 publication Critical patent/JP5587962B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/6838Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping with gripping and holding devices using a vacuum; Bernoulli devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/31Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/49Method of mechanical manufacture
    • Y10T29/49826Assembling or joining
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/53Means to assemble or disassemble
    • Y10T29/5313Means to assemble electrical device
    • Y10T29/53191Means to apply vacuum directly to position or hold work part

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Description

本発明は載置板の固定方法に関し、特にガス加圧により載置板の反りを抑制する載置板の固定方法に関する。
パッケージの反りはパッケージ中の各材料の熱膨張係数が異なることによって発生する。反りの問題を解決するために、半導体パッケージ業界は様々な方法を提案している。例えば、中華民国特許番号第I259743号に開示された基板内部に複数の非機能性のトレース(trace)を配設し、非機能性のトレースにより生成された応力の釣合により基板の平面度を維持する。しかし、これによりICのレイアウトが複雑になり、基板内部のICレイアウトが更に困難になる。又、中華民国公告番号第489496号に開示された技術は、熱膨張係数は基板の熱膨張係数よりも大きい粘着剤を基板上に設けて、基板の反りを抑制するが、前記粘着剤は製造工程終了後も半導体パッケージ内に残されるので、基板表面に粘着剤領域を予め残しておく必要があり、パッケージの更なる小型化が難しい。更に、中華民国特許番号第I231578号に開示された技術によれば、複数の構造強化材を基板の下方に設置し、構造強化材カプセルが構造強化材を包み込むことにより、基板の反りを抑制する。しかし、各構造強化材を前記基板のチップ配置領域の周囲に対応させる必要があるので、これら構造強化材を配置する時、その位置に合わせて配置させることが困難である。特に、前記基板のチップ配置領域が多い時、これら構造強化材の位置合わせが頻繁になり、且つパッケージの小型化が難しく、基板を無駄にする。この他、中華民国特許番号第I340446号に開示された技術によれば、一時的に補強材を基板の廃棄部に貼り付けて基板を固定して、熱膨張、冷却収縮時に発生する基板の反りに抵抗し、製造工程の最終段において、この一時的補強材を切り取る。更に、中華民国特許番号第I352395号(前記中華民国特許番号第I340446号の方法と同一である)に開示された方法によれば、一時的に両面テープを貼り合せて基板をテープにより堅硬かつ耐熱の載置板に固定し、製造工程の最終段においてこの一時的に貼り合せた両面テープを載置板から除去する。上記の方法は製造工程において基板の反りの問題を解決できるが、製造工程が煩雑になり、製造コストも増加する。よって、上記従来技術における課題に鑑み、載置板の反りを抑制する方法が必要である。
中華民国特許番号第I259743号 中華民国公告番号第489496号 中華民国特許番号第I231578号 中華民国特許番号第I340446号 中華民国特許番号第I352395号
上記従来技術における課題を解決するため、本発明の実施例により、ガス加圧により載置板の反りを抑制する載置板の固定方法を提供する。前記固定方法は、対向している上下面を有し、反り部分を有する載置板を準備するステップと、複数の穴が設けられた穴開き面を有する排気可能な治具を準備するステップと、前記載置板の前記上下面のうち一面を前記穴開き面に向け、前記穴開き面に配置・固定し、前記穴開き面に向いている前記載置板の前記面を第1面と定義し、前記第1面に対向している別の面を第2面と定義するステップと、1atmより大きく、30atm以下の所定圧力により、チャンバに対してガス加圧を行い、同時に又はその後、前記チャンバ内にある前記排気可能な治具に対して非真空排気を行って、前記反り部分の前記第1面に気体を流動させ圧力を低下させて前記第2面との間に圧力差を生じさせることにより、前記反り部分を前記治具に押し付けるとともに、前記所定圧力による前記第1面と前記第2面との圧力差により、前記載置板が前記治具に押し付けられるステップと、を含む。
本発明の別の実施例によれば、ガス加圧により載置板の反りを抑制する載置板の固定方法を提供する。前記固定方法は、対向している上下面を有する載置板を準備する工程と、複数の穴が設けられた穴開き面を備える排気可能な治具を準備する工程と、前記載置板の上下面のうち一面を前記穴開き面に向け、且つ前記穴開き面に配置し、前記穴開き面に向いている前記載置板の面が第1面と定義され、前記第1面に対向している別の面を第2面と定義する工程と、前記治具に対して真空排気を行って前記載置板を前記治具に固定する工程と、前記載置板を有する治具をガス加圧可能なチャンバに配置する工程と、前記チャンバに対してガス加圧を行って前記載置板の第1面と第2面との間に圧力差を生じさせることにより、前記載置板を前記治具に押し付け、前記チャンバを標準大気圧より大きい所定圧力まで加圧する工程と、を含む。
本発明のその他の実施形態及びメリットは、下記の本発明の原理を例証した図面と合わせて詳細に説明することにより更に明白になる。なお、周知の部材及び原理は本明細書において述べない。
図面は、本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が本発明を理解するための概略図に過ぎないので、サイズに基づき製図しなければならないというものではない。更に、本発明の図面は単に例示に過ぎず、発明を制限するものではない。又、本発明の図面において同一の部材は同一の部材番号により表記した。
本発明の実施例に基づくガス加圧により載置板の反りを抑制する載置板の固定方法のフローチャートである。 本発明の別の実施例に基づくガス加圧により載置板の反りを抑制する載置板の固定方法のフローチャートである。 本発明の原理を説明する概略断面図である。 本発明の実施例に基づく載置板の第1面と治具の穴開き面との間に少なくとも一の耐熱密封層を設置した概略断面図である。
以下において図面を用いて本発明の実施例を説明する。
本発明の実施例によれば、図1はガス加圧により載置板の反りを抑制する載置板の固定方法のフローチャート100である。フローチャート100は、上下面を有する載置板を準備するステップ101から開始される。この上面、下面は対向している。
ステップ103において、排気可能な治具を準備する。この排気可能な治具は、複数の穴が設けられた穴開き面を備える。
ステップ105において、この載置板の上下面のうち一面を穴開き面に向け、且つこの穴開き面に配置・固定する。例えば、穴開き面に向いている載置板の面を第1面と定義し、第1面に対向している別の面を第2面と定義する。具体的には、載置板の上面を第1面と定義した場合、その下面は第2面と定義される。一方、載置板の下面が第1面と定義された場合、その上面は第2面と定義される。載置板の面を穴開き面に固定する方法は、粘着材料により、載置板の面を穴開き面に固定する方法、載置板の活性領域(active region)を回避している圧板により、載置板の面を穴開き面に固定する方法、排気可能な治具に対して真空排気を行うことにより、載置板の面を穴開き面に真空吸着する方法、及び載置板自体の重量により載置板の面を穴開き面に固定する方法、のうち少なくとも一つを含む。
載置板を有する治具は、ガス加圧可能なチャンバ中にある。
ステップ107において、このチャンバに対してガス加圧を行い、この排気可能な治具に対して排気を行い、この載置板の第1面と第2面との間に圧力差を生じさせることにより、この載置板をこの治具に押し付ける。このチャンバを標準大気圧より大きい所定圧力まで加圧する。このステップは、例えば、このチャンバに対してガス加圧を行った後、この排気可能な治具に対して排気を行う方法、この排気可能な治具に対して排気を行った後、このチャンバに対してガス加圧を行う方法、このチャンバに対してガス加圧を行うと共に、この排気可能な治具に対して排気を行う方法のうち一つの方法が行われる。なお、このチャンバに対してガス加圧を行う充気量(給気量)は、この排気可能な治具に対して排気を行った排気量より大きい。
本発明の別の実施例によれば、図2はガス加圧により載置板の反りを抑制する載置板の固定方法のフローチャート200である。フローチャート200は、上下面を有する載置板を準備するステップ201から開始される。この上面、下面は対向している。
ステップ203において、排気可能な治具を準備する。この治具は複数の穴が設けられた穴開き面を備える。
ステップ205において、この載置板の上下面のうち一面をこの穴開き面に向け、且つこの穴開き面に配置する。例えば、穴開き面に向いている載置板の面を第1面と定義し、第1面に対向している別の面を第2面と定義する。上述のように、載置板の上面を第1面と定義した場合、その下面は第2面と定義される。一方、載置板の下面を第1面と定義した場合、その上面は第2面と定義される。
ステップ207において、治具に対して真空排気を行うことにより、載置板を治具に固定する。このステップは更に、載置板の活性領域を回避している圧板により載置板を穴開き面に固定する。
ステップ209において、載置板を有する治具をガス加圧可能なチャンバ中に置く。
ステップ211において、チャンバに対してガス加圧を行って、載置板の第1面と第2面との間に圧力差を生じさせることにより、載置板を治具に押し付ける。なお、チャンバを標準大気圧より大きい所定圧力まで加圧する。
本発明の実施例において、前記載置板は、例えば、プリント回路板、基板、リードフレーム、ウェハ、シリコンインターポーザ(silicon interposer)又はパッケージのうち少なくとも一つである。
本発明の実施例において、前記所定圧力は、例えば、1atm(kg/cm)から約30atm(kg/cm)の範囲内である。例えば、本発明の実施例において、前記所定圧力は、1atm以上、約30atm以下である。そして、上記圧力範囲は、1.5,2,4,6,8,10,12,14,20,25,30atm及びそのうちに含まれるすべての数値、例えば、2.5,3,5.5,8.5,9,11,15.5,23,27.5,29等を含むことができる。
本発明の実施例において、例えば、チャンバ内の圧力が所定圧力に達した後、治具の排気(又は真空排気)を閉じて、生成された高気圧差により載置板を治具に押し付ける。
本発明の実施例において、載置板の第1面と治具の穴開き面との間に少なくとも一の耐熱密封層を設置する。そのうち、この耐熱密封層は穴開き面の穴を覆わない。この耐熱密封層は例えば、40℃以上から300℃以下の処理温度に耐えられる。
以下において、図3を参照して本発明の原理を説明する。図3は本発明の原理を説明する概略断面図である。図3に示すように、反り部分1aを有する載置板1は排気可能な治具3上に置かれる。載置板1は、対向している上面1bと下面1cを有する。排気可能な治具3は、複数の穴5を含む穴開き面3aと、排気装置9に接続されるガス通路7と、を有する。本発明の実施例において、排気装置9は、例えば、一般の排気ポンプ、真空ポンプ、又は排気通路のスイッチである。
流体の連続方程式:A1v1=A2v2=定数(そのうち、A1とA2は面積であり、v1とv2が流体速度である)によれば、単位時間内の気体流動質量が同一である。よって、気体が穴5に近いほど、その流動速度が速くなる。この他、ベルヌーイの式(Bernoulli’s equation):ρv2/2+ρgh+p=定数(そのうち、ρは気体密度、vは気体速度、pが気体圧力、gが重力加速度、hが高度である)によれば、位置エネルギー(ρgh)は微小なので考慮しなくてもよい。穴5から遠ざかるほど、気体の速度は遅くなる。よって、図3の各位置の気体圧力の大きさの順序は、(d)<(c)<(b)<(a)となる。従って、気圧差による下向きの押圧力により被処理物(即ち、載置板)を治具3にしっかりと押圧するので、載置板が高温下での熱膨張の不均一現象による反りに対抗できる。即ち、例えば、図3を例に挙げると、載置板1の下面1c(この実施例において第1面と定義され、即ち穴開き面3Aに向いている面)と上面1b(この実施例において第2面と定義される)との間に非常に大きな圧力差が生じ、更に非常に大きな下向きの押圧力が生じることにより載置板1を治具3に押し付ける。これにより載置板1の高温による反り部分1aを治具方向にしっかりと押圧し、載置板1の反り部分1aを治具3に平坦に貼り付ける。本発明の別の実施例において、載置板1の上面1bは穴開き面3aに向いており、穴開き面3aに固定される。上面1bを第1面と定義し、上面1bに対向している下面1cを第2面と定義する。
本発明の実施例において、穴5の位置は、載置板1の周辺位置に対応している。
この他、図4に示すように、図3と同様に、載置板1の下面1cが第1面と定義され、載置板1の上面1bが第2面と定義される。例えば、図4を例に挙げると、本発明の実施例において、上述の載置板1の第1面(この実施例において下面1c)と治具3の穴開き面3aとの間に少なくとも一の耐熱密封層11を設置する。耐熱密封層11は穴開き面3aの穴5を覆わない。これにより載置板1と治具3との間の気密性が向上する。耐熱密封層11は、例えば40℃以上から300℃以下の処理温度に耐えられる。
本発明は実施例及び図面により詳細に説明したが、本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が本発明の本質及び範囲から離脱しなければ、各種の改良、変化及び等価置換を行える。しかし、これら改良、変化及び等価置換は本発明の特許請求の範囲内に入る。
1 載置板
1a 反り部分
1b 上面
1c 下面
3 排気可能な治具
3a 穴開き面
5 穴
7 ガス通路
9 排気装置
11 耐熱密封層
100 フローチャート
101 対向している上下面を有する載置板を準備する。
103 複数の穴が設けられる穴開き面を有する排気可能な治具を準備する。
105 前記載置板の前記上下面のうち一面を前記穴開き面に向け、前記穴開き面に配置・固定する。そのうち前記穴開き面に向いている前記載置板の前記面を第1面と定義し、前記第1面に対向している別の面を第2面と定義する。
107 チャンバに対してガス加圧を行い、前記チャンバにある前記排気可能な治具に対して排気を行って前記載置板の前記第1面と前記第2面との間に圧力差を生じさせることにより、前記載置板を前記治具に押し付ける。前記チャンバを標準大気圧より大きい所定圧力まで加圧する。
200 フローチャート
201 対向している上下面を有する載置板を準備する。
203 複数の穴が設けられる穴開き面を備える排気可能な治具を準備する。
205 前記載置板の前記上下面のうち一面を前記穴開き面に向け、前記穴開き面に配置する。そのうち前記穴開き面に向いている前記載置板の前記面を第1面と定義し、前記第1面に対向している別の面を第2面と定義する。
207 前記治具に対して真空排気を行って前記治具に載置板を固定する。
209 前記載置板を有する治具をガス加圧可能なチャンバ中に置く。
211 前記チャンバに対してガス加圧を行い、前記載置板の前記第1面と前記第2面との間に圧力差を生じさせることにより、前記載置板を前記治具に押し付ける。前記チャンバを標準大気圧より大きい所定圧力まで加圧する。

Claims (7)

  1. 対向している上下面を有し、反り部分を有する載置板を準備するステップと、
    複数の穴が設けられた穴開き面を有する排気可能な治具を準備するステップと、
    前記載置板の前記上下面のうち一面を前記穴開き面に向け、前記穴開き面に配置・固定し、前記穴開き面に向いている前記載置板の前記面を第1面と定義し、前記第1面に対向している別の面を第2面と定義するステップと、
    1atmより大きく、30atm以下の所定圧力により、チャンバに対してガス加圧を行い、同時に又はその後、前記チャンバ内にある前記排気可能な治具に対して非真空排気を行って、前記反り部分の前記第1面に気体を流動させ圧力を低下させて前記第2面との間に圧力差を生じさせることにより、前記反り部分を前記治具に押し付けるとともに、前記所定圧力による前記第1面と前記第2面との圧力差により、前記載置板が前記治具に押し付けられるステップと、
    を備えるガス加圧により載置板の反りを抑制する載置板の固定方法。
  2. 前記載置板が、プリント回路板、基板、リードフレーム、ウェハ、シリコンインターポーザ又はパッケージのうちの少なくとも一つである、ことを特徴とする請求項1記載のガス加圧により載置板の反りを抑制する載置板の固定方法。
  3. 前記載置板の前記上下面のうち一面を前記穴開き面に向け、前記穴開き面に配置・固定するステップにおいて、前記固定方法は、粘着材料により前記載置板の面を前記穴開き面に固定する方法、及び前記載置板自体の重量により、前記載置板の面を前記穴開き面に固定する方法のうち少なくとも一つを含む、ことを特徴とする請求項1記載のガス加圧により載置板の反りを抑制する載置板の固定方法。
  4. 前記チャンバに対してガス加圧を行い、前記排気可能な治具に対して非真空排気を行うステップにおいて、前記チャンバに対してガス加圧を行う充気量は、前記排気可能な治具に対して非真空排気を行う排気量より大きい、ことを特徴とする請求項1記載のガス加圧により載置板の反りを抑制する載置板の固定方法。
  5. 前記載置板の前記第1面と前記治具の前記穴開き面との間に少なくとも一の耐熱密封層を設置し、前記耐熱密封層は前記穴を覆わない、ことを特徴とする請求項1記載のガス加圧により載置板の反りを抑制する載置板の固定方法。
  6. 前記耐熱密封層は、40℃以上300℃以下の処理温度に耐えられる、ことを特徴とする請求項5記載のガス加圧により載置板の反りを抑制する載置板の固定方法。
  7. 前記穴の位置は、前記載置板の周縁位置に対応している、ことを特徴とする請求項1記載のガス加圧により載置板の反りを抑制する載置板の固定方法。
JP2012249407A 2011-12-16 2012-11-13 ガス加圧により載置板の反りを抑制する載置板固定方法 Active JP5587962B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW100146868 2011-12-16
TW100146868A TWI437672B (zh) 2011-12-16 2011-12-16 利用氣體充壓以抑制載板翹曲的載板固定方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2013128101A JP2013128101A (ja) 2013-06-27
JP5587962B2 true JP5587962B2 (ja) 2014-09-10

Family

ID=48608659

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012249407A Active JP5587962B2 (ja) 2011-12-16 2012-11-13 ガス加圧により載置板の反りを抑制する載置板固定方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US8893378B2 (ja)
JP (1) JP5587962B2 (ja)
KR (1) KR101486366B1 (ja)
TW (1) TWI437672B (ja)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9397051B2 (en) 2013-12-03 2016-07-19 Invensas Corporation Warpage reduction in structures with electrical circuitry
CN105931997B (zh) 2015-02-27 2019-02-05 胡迪群 暂时性复合式载板
CN107452643B (zh) * 2016-05-31 2020-11-13 弘塑科技股份有限公司 基板压平设备与使用所述基板压平设备的半导体制造方法
KR102563929B1 (ko) * 2018-03-09 2023-08-04 삼성전자주식회사 반도체 다이들의 개별화 방법 및 반도체 패키지의 제조 방법
CN109742191B (zh) * 2019-01-14 2020-10-02 浙江晶科能源有限公司 一种太阳能电池的制作方法及太阳能电池烧结装置
JP7254930B2 (ja) 2019-03-12 2023-04-10 アブソリックス インコーポレイテッド パッケージング基板及びこれを含む半導体装置
KR102537005B1 (ko) 2019-03-12 2023-05-26 앱솔릭스 인코포레이티드 유리를 포함하는 기판의 적재 카세트 및 이를 적용한 기판의 적재방법
KR102396184B1 (ko) 2019-03-12 2022-05-10 앱솔릭스 인코포레이티드 패키징 기판 및 이를 포함하는 반도체 장치
EP3910667A4 (en) 2019-03-29 2022-10-26 Absolics Inc. PACKAGING GLASS SUBSTRATE FOR SEMICONDUCTORS, PACKAGING SUBSTRATE FOR SEMICONDUCTORS AND SEMICONDUCTOR DEVICES
KR102413117B1 (ko) 2019-08-23 2022-06-24 앱솔릭스 인코포레이티드 패키징 기판 및 이를 포함하는 반도체 장치
KR20210101671A (ko) 2020-02-10 2021-08-19 삼성전자주식회사 인쇄 회로 기판에 인터포저를 사용하는 전자 장치
TWI808793B (zh) * 2022-06-15 2023-07-11 印能科技股份有限公司 利用氣體充壓以抑制載板翹曲之排氣治具裝置及方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4724222A (en) 1986-04-28 1988-02-09 American Telephone And Telegraph Company, At&T Bell Laboratories Wafer chuck comprising a curved reference surface
JP3586817B2 (ja) 1995-12-26 2004-11-10 株式会社オーク製作所 画像形成用露光装置とワーク位置決め方法
JPH09326385A (ja) 1996-06-04 1997-12-16 Tokyo Electron Ltd 基板冷却方法
JP4283926B2 (ja) 1999-02-22 2009-06-24 株式会社アルバック ウエハカセットのウエハ保持システム
JP2003045946A (ja) * 2001-07-31 2003-02-14 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示素子基板の吸着方法及び液晶表示素子基板の吸着装置
US7726715B2 (en) 2003-01-29 2010-06-01 Mitsuboshi Diamond Industrial Co., Ltd. Vacuum suction head
US20050035514A1 (en) 2003-08-11 2005-02-17 Supercritical Systems, Inc. Vacuum chuck apparatus and method for holding a wafer during high pressure processing
US8580078B2 (en) * 2007-01-26 2013-11-12 Lam Research Corporation Bevel etcher with vacuum chuck
JP5074125B2 (ja) 2007-08-09 2012-11-14 リンテック株式会社 固定治具並びにワークの処理方法
US7816232B2 (en) 2007-11-27 2010-10-19 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method for manufacturing semiconductor substrate and semiconductor substrate manufacturing apparatus
JP2011071472A (ja) 2009-08-31 2011-04-07 Hitachi Setsubi Eng Co Ltd 真空貼付け方法及び装置
US8823170B2 (en) * 2012-12-06 2014-09-02 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Apparatus and method for three dimensional integrated circuits

Also Published As

Publication number Publication date
KR20130069349A (ko) 2013-06-26
US20130152363A1 (en) 2013-06-20
JP2013128101A (ja) 2013-06-27
TW201327736A (zh) 2013-07-01
KR101486366B1 (ko) 2015-01-26
US8893378B2 (en) 2014-11-25
TWI437672B (zh) 2014-05-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5587962B2 (ja) ガス加圧により載置板の反りを抑制する載置板固定方法
KR102038192B1 (ko) 차압법으로 재료의 뒤틀림을 억제하는 방법
JP2016106404A (ja) 一時的にボンディングされたウエハをデボンディングするための改善された装置と方法
JP6188123B2 (ja) 貼合装置および貼合処理方法
JP6340693B2 (ja) 基板の保持装置及び密着露光装置並びに近接露光装置
JP2008153337A (ja) 貼り合せ基板の分離方法、貼り合せ基板の分離装置及びプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体
TWI730129B (zh) 半導體裝置之製造方法
JP2017525163A (ja) マイクロ電気機械部品を特に熱接合するための装置
US7183125B2 (en) Method for manufacturing surface acoustic wave device
US20130183831A1 (en) Reducing Substrate Warpage in Semiconductor Processing
JP5100579B2 (ja) 基板用の吸着装置及び基板の取り扱い方法
JP6376871B2 (ja) 密着露光装置
JP4152295B2 (ja) テープ貼付装置
JP4755222B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JP2006202783A (ja) 半導体装置の製造方法
JP6178683B2 (ja) 吸着ステージ、貼合装置、および貼合方法
JP5494546B2 (ja) 半導体装置の製造方法
WO2018180734A1 (ja) 基板固定治具およびこれを用いた半導体装置の製造方法
TWI499098B (zh) 用於模塑電子器件的襯底載體
JP6622254B2 (ja) 貼合装置および貼合処理方法
JP2015115347A (ja) 封止シート貼付け方法
JP2005340390A (ja) 半導体装置の製造装置及び製造方法
JP2014188917A (ja) ラミネート装置
TWI808793B (zh) 利用氣體充壓以抑制載板翹曲之排氣治具裝置及方法
JP2010103137A (ja) 粘着テープの貼付装置及び粘着テープの貼付方法

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20131008

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20131016

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20140115

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20140120

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140212

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140326

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140610

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140702

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140724

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5587962

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250