JP5573222B2 - 窒化物半導体レーザ素子 - Google Patents
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図1に、本実施の形態の半導体レーザ素子の半導体積層方向における断面図を示す。本実施の形態の半導体レーザ素子は、n型半導体層1、活性層2及びp型半導体層3を有する半導体積層部と、p型半導体層3上に設けられ第1開口部4aを有する第1絶縁部4と、第1絶縁部4上と第1開口部4aにおけるp型半導体層3上とに連続して設けられ第1開口部4aにおいてp型半導体層3と電気的に接続されたコンタクト電極5と、を備える。
(半導体積層部)
半導体積層部は、少なくともn型半導体層1及びp型半導体層3を有していれば良く、その構造は特に限定されない。n型半導体層1及びp型半導体層3には、コンタクト層、クラッド層、光閉じ込め層等、公知のものを含めることができる。半導体積層部を構成する各層の材料は限定されないが、例えば一般式がInxAlyGa1−x−yN(0≦x≦1、0≦y≦1、0≦x+y≦1)で示される窒化物半導体を用いることができる。
第1絶縁部4、第2絶縁部6の材料は限定されないが、例えば、SiO2、Ga2O3、Al2O3、ZrO2等の酸化物、SiN、AlN及びAlGaN等の窒化物等を用いることができる。特に第2絶縁部6については、コンタクト電極をオーミックアニールした場合等のコンタクト電極への影響を考慮して選択することが好ましい。また、両者の膜厚は限定されないが、好ましくは5〜500nm、より好ましくは10〜300nmとすることができる。
n電極8の材料は特に限定されないが、例えば、Pd、Pt、Ni、Au、Ti、W、Cu、Ag、Zn、Sn、In、Al、Ir、Rh、V、ITO等の少なくとも1つを含む単層又は複数層で形成することができる。
コンタクト電極5の材料は特に限定されないが、好ましくはZnO、In2O3、SnO2、ATO、ITO、MgO、Ni/Au、より好ましくはITOを用いることができる。その膜厚は特に限定されないが、5〜100nm程度とすることができる。なお、本実施の形態では活性層2からの光がコンタクト電極5を透過してp側反射器8で反射されることを要するため、コンタクト電極5はその光に対して実質的に透明である。
接続電極7の材料は特に限定されないが、電気伝導率及び熱伝導率の大きい材料が好ましい。例えば、ニッケル(Ni)、金(Au)、銀(Ag)、銅(Cu)、白金(Pt)、アルミニウム(Al)、パラジウム(Pd)、ロジウム(Rh)、チタン(Ti)、モリブデン(Mo)、クロム(Cr)、タングステン(W)、これらの酸化物又は窒化物、ITO、ZnO、In2O3等の透明導電性酸化物からなる群から選択された少なくとも一種を含む金属、合金の単層膜又は積層膜により形成することができる。具体的には、Ti−Rh−Au、Cr−Pt−Au、Ni−Au、Ni−Au−Pt、Pd−Pt、Ni−Pt等が挙げられる。
n側反射器10及びp側反射器8は、誘電体材料の多層膜から形成される。誘電体材料は特に限定されないが、例えば、Si、Mg、Al、Hf、Nb、Zr、Sc、Ta、Ga、Zn、Y、B、Ti等の酸化物、窒化物など公知のものを用いることができる。これらの誘電体のうち、屈折率が異なる2種以上の材料層を交互に積層することにより誘電体多層膜を得ることができる。具体的には、SiO2/Nb2O5、SiO2/ZrO2、SiO2/AlN、Al2O3/Nb2O5等の多層膜が例示できる。
支持基板11の材料は特に限定されないが、好ましくはSi、GaN、AlN、より好ましくはSiを用いることができる。支持基板10は単層である必要はなく、多層であっても良い。さらに、本実施の形態では導電性の支持基板を用いているが、支持基板10は必ずしも導電性を備えている必要はなく、絶縁性であってもよい。支持基板10を絶縁性とする場合は、例えば支持基板に導電性のスルーホールを設け、スルーホールを介してコンタクト電極と通電させることもできる。
図3に、本実施の形態の半導体レーザ素子の断面図を示す。本実施の形態における半導体レーザ素子は、第2絶縁部6が異なる以外は、実施の形態1と実質的に同一である(正確には、第2絶縁部6の形状が異なることに伴い、p側反射器8及び支持基板11の形状が若干異なる(図3参照)。)。
2、52・・・活性層
3、53・・・p型半導体層
4、54・・・第1絶縁部
4a・・・第1開口部
5、55・・・コンタクト電極
6・・・第2絶縁部
6a・・・第2開口部
7、57・・・接続電極
8、58・・・p側反射器
9、59・・・n電極
10、60・・・n側反射器
11、61・・・支持基板
Claims (4)
- n型半導体層とp型半導体層とを有する半導体積層部と、
前記p型半導体層上に設けられ、第1開口部を有する第1絶縁部と、
前記第1絶縁部上と前記第1開口部における前記p型半導体層上とに連続して設けられ、前記第1開口部において前記p型半導体層と電気的に接続された透光性のコンタクト電極と、
前記コンタクト電極上に設けられたp側反射器と、
前記n型半導体層に設けられたn側反射器と、を備える半導体レーザ素子において、
前記コンタクト電極は、前記第1開口部よりも小さな第2開口部を前記第1開口部の内側に有する第2絶縁部を有し、前記第1開口部の内側且つ前記第2開口部の外側において、前記第2絶縁部により前記半導体層から近い側と遠い側とに分離されていることを特徴とする半導体レーザ素子。 - 前記第2絶縁部は、前記第1絶縁部と離間して設けられていることを特徴とする請求項1に記載の半導体レーザ素子。
- 前記第2絶縁部は、前記第1絶縁部と接して設けられていることを特徴とする請求項1に記載の半導体レーザ素子。
- 前記コンタクト電極において、前記第2絶縁部により分離された前記半導体層から近い側と遠い側との合計の膜厚は、前記第2開口部の内側における膜厚よりも大きいことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の半導体レーザ素子。
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