JP5572953B2 - 不揮発性半導体メモリセル及び不揮発性半導体メモリ装置 - Google Patents
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Description
コスト面では、ひとつの手段として、1層ポリシリコンを用いたEEPROMが提案されている。(特許文献1)。この1層ポリシリコンEEPROMを用いれば、従来の2層ポリシリコンプロセスより製造工程を削減できる。
前記複数のフローティングゲート型トランジスタと直列に接続され、前記セレクトゲートに接続される選択トランジスタとを有し、並列に接続された前記複数のフローティングゲート型トランジスタと、前記選択トランジスタとが前記半導体基板上で直線状に配列されたものであって、前記複数のフローティングゲート型トランジスタの各ドレインが直線状のメタル配線で接続され、前記複数のフローティングゲート型トランジスタの各々を選択するための制御信号により、前記書き込み時において、データの書き込みを行う前記フローティングゲート型トランジスタの前記コントロールゲートを書き込み電圧とし、一方、消去時において、データの消去を行う前記フローティングゲート型トランジスタの前記コントロールゲートを消去電圧とし、並列に接続された前記フローティングゲート型トランジスタのいずれのデータの書き込みあるいは消去もそれぞれ独立に行うことを特徴とする。
このメモリセルの特徴は、ビット線となる、メモリセルのドレインDとなるメタル配線12を図面上の縦方向に配置し、セレクトゲートSGとなるポリシリコン配線8と、コントロールゲートCG配線となるメタル配線19とを図面上の横方向に配置し、さらに、面積の大きくなるキャパシタC1をコンパクトに配置して面積を最小限にしたことである。ここで、キャパシタC1は、n型ウェル2、キャパシタ14、p型拡散層15、コンタクト16、n型拡散層17及びコンタクト18から構成されている。
VFG=αVCG となる。通常、α≒0.6に設定する。
本発明の第1の実施の形態としての不揮発性半導体メモリセルについて、図7〜図10を参照して説明する。図7(a)に、不揮発性半導体メモリセルの平面図を、図7(b)には等価回路を、図8(c)、図8(d)、図9(e)、図9(f)には断面図を示す。図8(c)には図7(a)のA−A’に沿った断面図、図8(d)にはB−B’に沿った断面図、図9(e)にはC−C’に沿った断面図、図9(f)にはD−D’に沿った断面図を示す。なお、以下の各図において図1に示すものと同一の(あるいは対応する)構成には同一の符号を用いている。また、各図において、図1の構成と同一の(あるいは対応する)構成を複数設ける場合には、図1で用いた符号(数字)に英字1文字(a、bなど)を追加した符号(例えばn型ウェル2に対してn型ウェル2a、2bなどとする)を用いることとする。
図11には、別の構成としたメモリセルを示す。図7と同一の構成には同一の符号を用いて説明を省略する。図7を参照して説明した実施形態1のメモリセルと異なり、コントロールゲートCG1及びCG2を形成するn型ウェル2a、n型ウェル2bを共通にしてn型ウェル2とするとともに、n型拡散層17a、17bとコンタクト18a、18bが省略されている。すなわち、本実施の形態では、コントロールゲートCG1及びCG2と複数のフローティングゲート型トランジスタT2,T3の各フローティングゲートFG1、FG2との間に形成された複数のキャパシタC1、C2が、同一のn型ウェル2を用いて形成されている。さらに、本実施形態のn型ウェル2は、n型拡散層領域24及びコンタクト25を介してn型ウェル2に独立して電圧を与える図示していないメタル配線に接続されている。これによってn型ウェル2の電位を独立させて、面積縮小を図りながら、コントロールゲートCG1及びCG2を独立に制御可能としている。実施形態2では、n型拡散層17a、17bとコンタクト18a、18bを省略してセル面積を小さくできるとともに、n型ウェル2をトランジスタT2とT3で共通とすることでWellを分離する境界が必要なくなりさらにセル面積が小さく出来る。
図13には、図11に示すメモリセルをアレイに組んだ構成図を示す。ここでは、n型ウェル2は上下のメモリセルで共通に接続され、n型拡散層領域24、コンタクト25を介してCGWellの電圧を与えるメタル配線26に接続されている。
図14に微細化に好適な実施形態を示す。図14(a)が本実施の形態のメモリセルの平面図、図14(b)が図14(a)の構造の変形例を示す平面図、図14(c)が図14(a)のB−B’に沿った断面図、図14(d)が図14(a)のD−D’に沿った断面図である。この実施形態は、コントロールゲート用のn−well2を省略して、さらに、微細化したメモリセルの例である。符号(15c)、(15d)はn型拡散層、(16c)、(16d)はn型拡散層15c、15dとコントロールゲートのメタル配線19a、19bとを接続するコンタクトである。図14の(a)は通常のレイアウト、(b)はさらに面積縮小のために、キャパシタの部分14a、14bの形状を折り曲げて、スペースを利用したレイアウト図である。また、符号(23a)、(23b)はDタイプ(Depletion−Type)のインプラ(Implantation)であり、チャネルが常にオンの状態に設定してある。なお、本実施の形態の等価回路は、図11(b)に示すものと同じである。すなわち、本実施の形態では、コントロールゲートCG1、CG2と複数のフローティングゲート型トランジスタT2、T3の各フローティングゲートFG1、FG2との間に形成された複数のキャパシタC1、C2が、p型半導体基板1になされたデプリーションタイプのインプラを用いて形成されたものとなっている。
図15に図14(b)のメモリセルのアレイ配置をした実施形態を示す。コントロールゲートのn−well2を省略した効果で、面積がさらに縮小化される。なお、図15に示すメモリセルは、行方向(横方向)にM11〜M14の4個が配置され、列方向(縦方向)にM11〜M41のように4個配置され、4×4=16個のセルが配置されている。共通部分を対照的に配置することによって、図14(b)のメモリセルがさらに効果的に配置され、面積縮小化が可能となっている。
図16には、本発明の各実施形態のメモリセルを用いた不揮発性半導体メモリ装置の回路構成を示す。図16における不揮発性半導体メモリセルM11〜Mmnとしては、例えば図7、図11、図14等を参照して説明した不揮発性半導体メモリセルを用いることができる。また、その場合の各メモリセルの配置は、図13、図15を参照して説明したアレイ配置を用いることができる。
Claims (9)
- 半導体基板上に形成される複数のMOSトランジスタからなり、不揮発性メモリセルを選択するためのセレクトゲートと、記憶内容を制御するためのコントロールゲートとを有する不揮発性半導体メモリセルであって、
互いに並列接続されるとともに、各々に接続された他と独立のコントロールゲートでそれぞれ書き込み、読み出し及びベリファイが独立に制御される複数のフローティングゲート型トランジスタと、
前記複数のフローティングゲート型トランジスタと直列に接続され、前記セレクトゲートに接続される選択トランジスタとを有し、
並列に接続された前記複数のフローティングゲート型トランジスタと、前記選択トランジスタとが前記半導体基板上で直線状に配列されたものであって、前記複数のフローティングゲート型トランジスタの各ドレインが直線状のメタル配線で接続され、前記複数のフローティングゲート型トランジスタの各々を選択するための制御信号により、前記書き込み時において、データの書き込みを行う前記フローティングゲート型トランジスタの前記コントロールゲートを書き込み電圧とし、一方、消去時において、データの消去を行う前記フローティングゲート型トランジスタの前記コントロールゲートを消去電圧とし、並列に接続された前記フローティングゲート型トランジスタのいずれのデータの書き込みあるいは消去もそれぞれ独立に行う
ことを特徴とする不揮発性半導体メモリセル。 - 前記コントロールゲートと複数の前記フローティングゲート型トランジスタの各フローティングゲートとの間に形成された複数のキャパシタが、前記各ドレインを接続する直線状のメタル配線と直交する方向に延びる複数の独立したn型ウェルを用いてそれぞれ形成されたものである
ことを特徴とする請求項1に記載の不揮発性半導体メモリセル。 - 前記コントロールゲートと複数の前記フローティングゲート型トランジスタの各フローティングゲートとの間に形成された複数のキャパシタが、同一のn型ウェルを用いて形成されたものである
ことを特徴とする請求項1に記載の不揮発性半導体メモリセル。 - 前記コントロールゲートと複数の前記フローティングゲート型トランジスタの各フローティングゲートとの間に形成された複数のキャパシタが、前記半導体基板になされたデプリーションタイプのインプラを用いて形成されたものである
ことを特徴とする請求項1に記載の不揮発性半導体メモリセル。 - データの書き込みを確認する際に、前記複数のコントロールゲートのいずれかに書き込み状態の閾値電圧以上の電圧が印加されるとともに、他のコントロールゲートに前記複数のフローティングゲート型トランジスタのソース電位と同じ電位が印加され、
データの消去を確認する際に、前記複数のコントロールゲートのいずれかに消去状態の閾値電圧以上の電圧が印加されるとともに、他のコントロールゲートに消去状態の閾値電圧より低い電圧が印加され、前記複数のフローティングゲート型トランジスタのソースに消去状態の閾値電圧以上の電圧が印加される
ことを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の不揮発性半導体メモリセル。 - 半導体基板上に形成される複数のMOSトランジスタからなり、不揮発性メモリセルを選択するためのセレクトゲートと、記憶内容を制御するためのコントロールゲートとを有する不揮発性半導体メモリセルを、複数個格子状に配列して有する不揮発性半導体メモリ装置であって、
前記各不揮発性半導体メモリセルが、
互いに並列接続されるとともに、各々に接続された他と独立のコントロールゲートでそれぞれ書き込み、読み出し及びベリファイが独立に制御される複数のフローティングゲート型トランジスタと、
前記複数のフローティングゲート型トランジスタと直列に接続され、前記セレクトゲートに接続される選択トランジスタとを有し、
並列に接続された前記複数のフローティングゲート型トランジスタと、前記選択トランジスタとが前記半導体基板上で直線状に配列されたものであって、前記複数のフローティングゲート型トランジスタの各ドレインが直線状のメタル配線で接続されたものであり、かつ、前記コントロールゲートに接続されるメタル配線のコンタクトが複数の不揮発性半導体メモリセルで共用されており、前記複数のフローティングゲート型トランジスタの各々を選択するための制御信号により、前記書き込み時において、データの書き込みを行う前記フローティングゲート型トランジスタの前記コントロールゲートを書き込み電圧とし、一方、消去時において、データの消去を行う前記フローティングゲート型トランジスタの前記コントロールゲートを消去電圧とし、並列に接続された前記フローティングゲート型トランジスタのいずれのデータの書き込みあるいは消去もそれぞれ独立に行う
ことを特徴とする不揮発性半導体メモリ装置。 - 半導体基板上に形成される複数のMOSトランジスタからなり、不揮発性メモリセルを選択するためのセレクトゲートと、記憶内容を制御するためのコントロールゲート及びデータ線とを有する不揮発性半導体メモリセルを、複数個格子状に配列して有する不揮発性半導体メモリ装置であって、
前記各不揮発性半導体メモリセルが、
互いに並列接続されるとともに、前記データ線と各々に接続された他と独立のコントロールゲートでそれぞれ書き込み、読み出し及びベリファイが独立に制御される複数のフローティングゲート型トランジスタと、
前記複数のフローティングゲート型トランジスタと直列に接続され、前記セレクトゲートに接続される選択トランジスタとを有し、
前記複数のフローティングゲート型トランジスタと前記選択トランジスタとが前記半導体基板上で直線状に配列されたものであって、前記複数のフローティングゲート型トランジスタの各ドレインが直線状のメタル配線で接続されたものであり、
前記不揮発性半導体メモリセルを指定するアドレス信号をデコードした信号と、前記不揮発性半導体メモリセルの書き込み信号とに基づいて生成した制御信号を、所定の前記コントロールゲートに出力する出力手段を有するデコーダと、前記書き込み信号あるいは前記不揮発性半導体メモリセルの消去信号により、前記データ線の電圧を制御する書き込み消去制御回路とを備え、前記複数のフローティングゲート型トランジスタの各々を選択するための前記制御信号により、前記書き込み時において、データの書き込みを行う前記フローティングゲート型トランジスタの前記コントロールゲート及び前記データ線を書き込み電圧とし、一方、消去時において、データの消去を行う前記フローティングゲート型トランジスタの前記コントロールゲート及び前記データ線を消去電圧とし、並列に接続された前記フローティングゲート型トランジスタのいずれのデータの書き込みあるいは消去もそれぞれ独立に行う
ことを特徴とする不揮発性半導体メモリ装置。 - 前記デコーダが、前記書き込み信号に応じて、データ読み出し時に前記出力手段の出力電圧を0Vとするものである
ことを特徴とする請求項7に記載の不揮発性半導体メモリ装置。 - 前記同一のn型ウェルの電位を前記複数のコントロールゲートの電位より高く制御する ことを特徴とする請求項3に記載の不揮発性半導体メモリセル。
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