JP5570130B2 - 光偏向装置、それを備えた光学走査装置、画像形成装置及び光偏向装置の組み立て方法 - Google Patents

光偏向装置、それを備えた光学走査装置、画像形成装置及び光偏向装置の組み立て方法 Download PDF

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Description

本発明は、たとえば、LBPやデジタル複写機、デジタルFAX等の画像形成装置において、レーザビームを用いて光書き込みを行う光学走査装置に用いられる光偏向装置、それを備えた光学走査装置、画像形成装置及び光偏向装置の組み立て方法に関する。
従来の揺動するミラーを用いた光偏向装置には、複数のミラーを具備し、それらを揺動軸方向に両側支持したものだけでなく、片側支持をしているものがある(例えば、特許文献1参照。)。
特開2005−326745号公報(第6頁、図1)
しかしながら、上記した従来例では、2つの振動子を片側支持する構成であったため、プレート部材の形状や、それによって定まる重心によっては、以下のような未解決の課題があった。
図11は、プレート部材61を、ホルダ70に対して組み付ける工程を順次示したものである。
従来例では述べられていないものの、プレート部材61の固定部72は、仮に正方形状であると仮定して説明する。
半導体プロセスによって製作されたプレート部材61は、1つ1つの素子にダイシングされた後、マグネット66を実装、着磁等の工程を経た後、搬送トレイ75に載置され、次工程に搬送される(図11(A)あるいは図11(B))。図11(A)は上面図、図11(B)が正面図となっている。
次工程を示すのが、図11(C)である。本工程では、搬送トレイ75に載置され搬送されてきたプレート部材61をバキュームコレット76によって吸着し、搬送トレイ75から持ち上げる。この時、バキュームコレット76のバキューム孔77によって、プレート部材61はバキュームされ、矢印E方向に持上げられる。矢印Dはバキュームエアを示す。バキュームコレット76で吸着しているのは、プレート部材61の固定部72である。
次に、図11(D)に示すように、プレート部材61をホルダ70上の所定の組付け位置にセットする。バキュームコレット76でプレート部材61の固定部72を吸着して搬送し、プレート部材61の固定部72をホルダ70の固定面74にしっかり当接させる。
そして、図11(E)に示すように、バキュームコレット76のバキュームを切って、バキュームコレット76からプレート部材61が剥がれるようにし、バキュームコレット76が矢印F方向に退避する。その後、接着などの方法を用いて、プレート部材61をホルダ70にしっかりと固定する。
しかし、実際には図11(E)で示したように、バキュームコレット76が退避すると、次のような不具合が発生する。
その様子を、図11(F)に示す。プレート部材61の重心Gが固定部72上に必ずしも存在しないために、矢印Hで示す方向にプレート部材61は傾いて、プレート部材61の固定部72がホルダ70の固定面74から浮いてしまい、姿勢が崩れる。
これにより以下のような問題が生じる。
プレート部材61の固定部72とホルダ70の固定面74とが、しっかり当接した状態が正規の状態であるので、傾くということは、プレート部材61の初期姿勢が出ていないことを指す。
これにより、光学走査装置において、ビームが光学レンズの有効範囲から外れたりなど設計範囲外の軌跡を辿ることで、感光体上でビームスポット形状が崩れたり回転したりして結像性能が悪化する恐れがある。
プレート部材61が傾いてしまうと、その後の工程でしっかりとした接着などの固定ができない等の恐れもある。つまり、固定部72が浮いた状態では、隙間に接着剤等が十分に浸透せず、部分的にしか接着ざれずに固定面積が不十分となるために、保持力が低下する恐れもある。プレート部材61の固定において保持力が不十分だと、その後、画像形成装置に衝撃などが加わった場合に、プレート部材1が脱落したり、ずれたりする恐れがある。
また、プレート部材61が傾いてしまうだけでなく、最悪の場合、接着するまでの間にプレート部材61がホルダ70から脱落してしまい、工程上損品となる恐れもある。工程において、プレート部材61が脱落して損品となると、製造コストを押し上げる恐れがある。
これら不具合を回避するために、プレート部材61がホルダ70と当接する固定面74のみで支持できるように、プレート部材61の形状を工夫することも可能であるが、それは設計上大きな制約となる。プレート部材61が組み込まれる光偏向装置や光学走査装置の大きさ・形状等の制限によっては、設計解がない場合も発生しうる。
プレート部材61は半導体プロセスで製作されるため、コストを安く作るためには、一枚のウェハあたりから取れる数、所謂取り個数ができる限り多い方が望ましい。ウェハサイズを大きくすると、ウェハ単価や場合によっては工数が増えるし、取扱も難しくなるので、プレート部材61の一個あたりのサイズを小さくして、取り個数を増やし、コストを低減することが一般的である。
これによりプレート部材61のサイズは可能な限り小さいことが望ましく、固定部72もできる限り小さいことが望ましい。つまり、固定部72はバキュームコレット76で吸着する面積以上に大きくするのは避けるべきであり、これによりバキュームコレット76退避後にプレート部材61の姿勢を保持するために用いるべき面積の確保が難しくなるのである。
すると、単結晶シリコン等からなるプレート部材61もサイズが小さくなると非常に軽くなるので、プレート部材61をホルダ70に置くだけでは、工程において振動や空調の風などが当たることによってそもそも位置ズレは生じやすい。
一方、図11(E)でバキュームコレット76が退避せず、プレート部材61をバキューム保持しながら、プレート部材61をホルダ70に固定する方法もある。しかし、プレート部材61のサイズが小さくなると固定部72が小さくなり、固定部72の一方の面は、ホルダ70の固定面74に当接させるだけで面積を使いきってしまい、反対側の面もバキュームコレット76で吸着するだけで面積を目一杯使いきってしまう。
プレート部材61のサイズを最小にし、これによりプレート部材61のコストを可能な限り下げる、そのためにはプレート部材61の固定部72を大きくするわけにはいかない。つまり、これまで説明してきたような構成では、バキューム保持しながらプレート部材61をホルダ70に固定するのは非常に困難である。
本出願に係る発明の目的は、上述の問題を解消し、プレート部材の形状やサイズ寸法によらずに、工程上安定した組立を可能にし、衝撃などが加わっても高品位な画像品質を提供可能な光偏向装置、それを備えた光学走査装置、画像形成装置及び光偏向装置の組み立て方法を提供することにある。
上記目的を達成するために、本発明の光偏向装置は、
表面にビームを反射する反射面が形成されており共振振動により揺動する可動子と、ねじりバネを介して前記可動子を支持する固定部と、を備えたプレート部材と、前記プレート部材を保持するホルダと、を有する光偏向装置において、
前記ホルダの前記固定部と対向する部分には、前記固定部と接する第1面と、前記固定部を基準に前記第1面と同じ側にあり、前記第1面よりも前記固定部から離れた第2面と、が設けられ、前記ホルダの前記第2面内に、前記固定部と前記ホルダの並ぶ方向に延びる前記ホルダを貫通する貫通穴の開口が設けられていることを特徴とする。
以上説明したように、本発明によれば、ホルダに、固定作業に使用する貫通穴を設けたので、貫通穴を利用して真空吸着、あるいは接着固定することができ、プレート部材を最小限の大きさとすることができる。したがって、一枚のウェハからの取り個数を最大限に確保し、コストを最小限に抑えながら、プレート部材をホルダに高精度に十分な保持力で仮固定できる。これにより、プレート部材の初期姿勢を高精度化し、工程での脱落などの不良を低減して、安定した組立工程が実現できる。ひいては、工数コストを低減し、安価な光学走査装置が提供できる。
実施例1に係る光偏向装置を具備した画像形成装置の構成を示す断面図である。 実施例1に係る光偏向装置を具備した光学走査装置の構成を示す斜視図である。 図2の光偏向装置の一部の構成を示す斜視図である。 図2の光偏向装置の動作原理を説明する図である。 図2の光変向装置の構成を示すもので、同図(A)は組み立て状態の斜視図、同図(B)は分解斜視図である。 図5に示す光偏向装置においてプレート部材をホルダに組み付ける工程を説明する図である。 図5の光偏向装置の変形例を示す部分断面図であり、組立工程の一部を説明する図である。 図5の光偏向装置の変形例を示す部分断面図であり、組立工程の一部を説明する図である。 実施例2に係る光変向装置において、プレート部材をホルダに組み付ける工程を説明する図である。 図2の光偏向装置のホルダの固定面の変形例を示す図である。 従来の光偏向装置の課題を説明するための組み立て工程図である。
以下に本発明を図示の実施例に基づいて詳細に説明する。
図1は、本発明を適用可能な実施例1に係る光偏向装置が適用される光学走査装置を具備した画像形成装置の一例を示す断面図である。
すなわち、この画像形成装置は、画像情報に基づいて変調されたレーザビームLが光学走査装置31から出射され、このレーザビームLにより感光体上である感光ドラム32のドラム表面が走査されて静電潜像が形成される。この静電潜像は、一次帯電器33によって一様に帯電している感光ドラム32面上に形成されており、現像器34によって可視像化される。感光ドラム32面上に形成された画像は、転写帯電ローラ35によって転写材36に転写された後、定着器37によって熱定着され、排紙ローラ38等によって装置外に出力される。
図2は、上記画像形成装置に具備された光学走査装置の構成を示す斜視図である。
レーザユニット(光源装置と呼び替えてもよい)41から取り出されたコリメート光は、光偏向装置42によって偏向走査される。その後、順に結像光学系を構成するFθレンズ43、折り返しミラー44によって最終的には感光ドラム32表面に到達する(一点鎖線)。コリメート光は、感光ドラム32幅内で最適に絞り込んだビームとして走査されるようにFθレンズ43により成形される。それと共に、走査ビームの一部はBDミラー45により反射されてBDセンサ46により光検知し、BDセンサ46からの出力信号を基準に走査回毎の書き込み信号を同期させる。
つまり、ビームの書き込み位置ズレを防止する作用もなされている。また光偏向装置42の反射面の倒れ誤差による感光ドラム32上の副走査方向(光軸及びビームの走査方向と直角をなす方向、転写材36の送り方向)のビーム位置ズレを防止するために、シリンドリカルレンズ47が用いられる。すなわち、結像光学系を構成するシリンドリカルレンズ47によって、レーザユニット41から取り出されたビームが、反射面上では副走査方向に圧縮して結像した線像とする。それと共に、反射面と感光ドラム32面上は、副走査方向では共役関係とする構成が取られている。これらのレーザユニット41、光偏向装置42及び結像光学系が不図示の光学箱に一体に収容されている。
図3は、本発明に最も好適な光偏向装置42の構成の一部を示す斜視図である。
プレート部材(素子)61は、Si単結晶のウェハをエッチング加工して製作されている。プレート部材61には、2つの可動子62、63が備えられている。これら可動子62、63はねじりバネ64、65によってそれぞれ支持されている。
一方の可動子(駆動子)63には、棒状の永久磁石(マグネット)66が接着固定されており、他方の可動子(反射子)62の表面はアルミ等が蒸着されている。このアルミ等が蒸着された表面は、レーザビームを反射するのに好適な反射膜となっている。レーザビームは矢印La(二点鎖線)で示すように偏向される。これら2つの可動子62、63やねじりバネ64、65等からなるプレート部材61は、複数の固有振動モードを有しており、本実施例では、走査周期に応じた基本周波数と基本周波数の2倍の周波数の振動モードを有する。これら振動モードでは、2つの可動子62、63が揺動軸Oまわりにねじり振動する。
アクチュエータ部67は、鉄心(コア)68に巻線(コイル)69を周回させたものである。光偏向装置42の駆動時は、巻線69に通電することで駆動子63に実装された永久磁石66との間でローレンツ力が生じ、駆動子63を回動させるトルクが働く。そして、電流をプレート部材61の振動モードに合わせて変調させることにより、プレート部材61の可動部が共振振動する。
前述の光偏向装置42は、プレート部材61の複数の固有振動数(基本と2倍)を重ね合わせて駆動される。この点を、図4を用いて説明する。図4は本発明の光学走査装置に具備された光偏向装置42の動作を説明するグラフである。
レーザビームの偏向走査に用いられる反射子62の振幅角度をθ、時間をtとすると、下記の式で表される挙動を示す。
θ(t)=A1sin(ωt)+A2sin(2ωt+φ)+A3
A1:基本周波数(基本波)における振幅
A2:基本周波数の2倍(倍波)における振幅
ω:基本周波数
φ:基本波と倍波の位相差
A3:静的な角度誤差、例えば反射子62が振動していない時の姿勢の角度誤差
図4ではφ=0、A3=0として図示している。
2つの可動子62、63が同じ方向へ同位相で振動する基本波成分と、2つの可動子62、63が互い違いに逆位相で且つ基本波の2倍の周波数で振動する倍波成分、この2つを重ね合わせた反射子62の実際の挙動である合成波の3つを示している。
ここで、各パラメータを適切に設定することにより、1周期内のある範囲において、
θ(t)≒kt+α
k,α:いずれも定数
と近似可能な部分が合成波形に現れる。
dθ(t)/dt=k
この範囲では、上式の関係が成り立つので、反射子62は略等角速度で振動することとなり、図3におけるビームLaはある時間範囲では、略等角速度で偏向走査される。
図5は本発明に最も好適な光偏向装置の構成を示す斜視図である。
図5(a)に示すように、前述のプレート部材61及びアクチュエータ部67は、ホルダ70によって一体に保持されている。また、図5(b)に示すように、ホルダ70に対
しアクチュエータ部67、プレート部材61が矢印B、Cで示すように順次組みつけられている。
ホルダ70のプレート部材61が固定される固定面74には貫通した貫通穴73が設けられている。
次に、プレート部材61をホルダ70に組み付ける組立工程について、図6を用いて具体的に説明する。
半導体プロセスによって製作されたプレート部材61は、1つ1つの素子にダイシングされ、マグネット66を実装、着磁等の工程を経た後、搬送トレイ75に載置され、次工程に搬送される(図6(A)あるいは図6(B))。図6(A)は上面図、図6(B)が正面図となっている。
次工程を示すのが、図6(C)である。
本工程では、搬送トレイ75に載置され搬送されてきたプレート部材61を第1の真空吸着装置としてのバキュームコレット76によって吸着し、搬送トレイ75から持ち上げる。この時、バキュームコレット76のバキューム孔77によって、プレート部材61はバキュームされ、矢印E方向に持ち上げられる。矢印Dはバキュームエアを示す。バキュームコレット76で吸着しているのは、プレート部材61の固定部72である。
次に、図6(D)に示すようにプレート部材61を、ホルダ70上の所定位置である組付け位置まで搬送してセットする。次に、第2の真空吸着装置としてのバキューム工具78で、ホルダ側からプレート部材61の固定部72を吸着して搬送し、プレート部材61の固定部72をホルダ70の固定面74にしっかり当接させる。
そして、図6(E)に示すように、バキュームコレット76のバキュームを切って吸着を解除し、バキュームコレット76からプレート部材61が剥がれるようにし、バキュームコレット76が矢印F方向に離間、すなわち退避する。その後、接着などの方法を用いて、プレート部材61をホルダ70にしっかりと固定する。
ホルダ70の固定面74は、ホルダ70がプレート部材61と接する面であり、固定作業に使用する貫通穴73が設けられている。この貫通穴73は、この実施例では、固定作業において真空吸着して仮固定するための吸引穴として利用される。
貫通穴73の固定面74と反対側の面には、別のバキューム工具78が当接している(図6(D)参照)。プレート部材61が、バキュームコレット76によって、ホルダ70の固定面74にしっかりと当接するよう支持された状態で、バキューム工具78が矢印I方向にバキュームを行い、プレート部材61をしっかりと支持する(図6(E)参照)。このように、ホルダ70の貫通穴73をプレート部材61が塞いでいることにより、プレート部材61はバキュームによってしっかりとホルダ70に吸着され保持されるのである(図6(F)参照)。この状態でバキュームコレット76の矢印I方向のバキュームを切って解除するので、バキュームコレット76が退避した後も、プレート部材61はしっかりとホルダ70の固定面74に当接した状態で姿勢を保持できる。すなわち、貫通穴73を通じてバキューム工具78でホルダ70側からプレート部材61を真空吸着してプレート部材61をホルダ70に対して仮固定し、その後、バキュームコレット76の吸着を解除してバキュームコレット76をプレート部材61から離間させる。
但し、ホルダ70の固定面74とプレート部材61の固定部72が、隙間無く完全密着する必要は必ずしもない。多少隙間があっても吸着保持は可能である。
ホルダ70の固定面74はできるかぎり面積を小さくした方が精度は出やすいので、例えば、図10に示すように、座面(ここでいう固定面74)は複数にし、面積の小さい複
数点でプレート部材61を支持する構成としてもよい。
つまり、貫通穴73が設けられている面は、複数の面積の小さな座面(固定面74)に設けられているのではなく、そこから一段下がった面に貫通穴73が設けられている、という構成となっている。換言すれば、貫通穴が設けられる面は、プレート部材61が接する面ではなく、その近傍でプレート部材61と対向する面である。すなわち、固定面74の近傍でプレート部材61と対向するホルダの面である。
そしてバキューム工具78がバキュームすることで、プレート部材61の姿勢を保持しながら、プレート部材61をホルダ70に対して接着などの方法を用いて固定する。すなわち、バキューム工具78でプレート部材61を吸着した状態でホルダ70にプレート部材61を固定する。
以上説明したように、本発明によれば、ホルダ70の固定面74に貫通穴73を有することによって、プレート部材61をホルダ70に対し高精度に位置決めした状態で仮固定ができる。また、この構成においてはプレート部材61の固定部72を不必要に大面積にする必要がなく、また、設計上の制約もほとんどない。
これによって、ウェハから十分な取り個数を確保しつつ、最小サイズのプレート部材61サイズを実現しながら、高精度に十分な保持力を有した固定ができる。
また、しっかりとバキュームされた状態で、その後、本固定するので、例えば、バネなどで本固定する際に、バネの当接部がプレート部材61を位置ズレさせる恐れも低減される。このような点でも初期位置・姿勢に対し有利である。
組み付け後の初期姿勢が高精度なものとなるので、これにより高精度なビーム走査が可能となり、高品位な結像性能を実現し、印刷画質を向上させることができる。
接着などを用いて本固定する際も、しっかりとバキュームされることで初期的に傾いてしまうようなことがない。したがって、例えば、ホルダ70の固定面74とプレート部材61の固定部72との隙間が空いて、接着面積が減少不足して固定保持力が低下するような状態となるのを防ぎ、十分な耐衝撃性を得ることができる。
また、組み立て工程において、プレート部材61が脱落して損品になったりすることを防ぐことができ、製造コストを押し上げることなく安定した組立を実現できる。
図6(A)乃至(F)では、プレート部材61の姿勢が水平方向になっており、ホルダ70の固定面74も水平方向に図示している。しかし、バキュームによってプレート部材61を支持すれば、水平支持でなくとも姿勢を保持することが可能である。
図5の光学走査装置の斜視図に示すように、プレート部材61は光学走査装置上では立てて配置されるわけであるから、例えば、プレート部材61を立てた状態で組み立てる工程にしたとしても、上記効果をそのまま享受できる。
姿勢を変えるだけでも1つの工程であり、工程の後になればなるほど部品点数は増え、姿勢を変える工程は複雑、且つ、大型化する。もし姿勢を変える工程で落下などが起きてしまうと、後の工程になるほど多くの部品が実装された状態で損品となるのでコスト的に不利である。そこで、プレート部材61単品の状態で搬送トレイ75から取り出して、姿勢を変え(水平から垂直に)その姿勢を保ちながら順次工程を流すことで、工数やかかるコストをできるかぎり低く抑えることができるようにもなる。
以上のように、様々な効果が期待できる。
尚、本実施例では、ホルダ70の固定面74の貫通穴73を1つとして図示しているが、図7に示すように、貫通穴73が複数設けられる構成としてもよい。この場合、少なくとも一つが真空吸着して仮固定するための吸引穴であり、プレート部材61によって塞が
れていればよい。
図7では、貫通穴73は2つとしているが、3つ以上でもよい。また3つ以上貫通穴73を有する場合に、必ずしも1列に並べる必要はなく、自由に配置してよいのは勿論である。
また、この貫通穴73を、図8に示すような構成としてもよい。
図8でも、貫通穴73は複数(本図では2つ)としているが、73aはバキュームして仮固定するのに用いる吸引穴であって、吸引穴以外の穴73bは締結部材としてのねじ82でもってプレート部材61を固定するための固定穴である。
ホルダ70は安価な樹脂などの材質であって、ねじ82はセルフタップビスとなっており、貫通穴73bはねじ径よりやや径の小さい貫通穴となっている。これにより貫通穴73aを通してバキュームにより仮固定した後、バキュームコレット76が退避して、その後、ねじ82がねじ穴73bに挿入され、プレート部材61をねじ82により本固定する。
次に、本発明を適用可能な実施例2を説明する。
図9は、本実施例2に係る光偏向装置を示す図であり、プレート部材61をホルダ70に組み付ける工程について説明する工程図である。
半導体プロセスによって製作されたプレート部材61は、1つ1つの素子にダイシングされた後、マグネット66を実装、着磁等の工程を経た後、搬送トレイ75に載置され、次工程に搬送される(図9(A)あるいは図9(B))。図9(A)は上面図、図9(B)が正面図となっている。
次工程を示すのが、図9(C)である。本工程では、搬送トレイ75に載置され搬送されてきたプレート部材61を第1の真空吸着装置であるバキュームコレット76によって吸着し搬送トレイ75から持ち上げる。この時、バキュームコレット76のバキューム孔77によって、プレート部材61はバキュームされ、矢印E方向に持ち上げられる。矢印Dは、バキュームエアを示す。バキュームコレット76で吸着しているのは、プレート部材61の固定部72である。
次に、図9(D)に示すように、プレート部材61をホルダ70に対し所定の組付け位置に搬送する。この間にプレート部材61は90°姿勢を変えて搬送させている。
バキュームコレット76でプレート部材61の固定部72を吸着して搬送し、プレート部材61の固定部72を、ホルダ70の固定面74にしっかり当接させる。ホルダ70の固定面74には、貫通する貫通穴73が設けられている。
その後、貫通穴73の固定面74に対する反対側の面側からは、ディスペンサ79が移動してきて、先端のニードル部がホルダ70の貫通穴73に挿入される。ディスペンサ79のシリンジには、紫外線硬化型の接着剤が充填されており、貫通穴73に対しエア圧によって接着剤81を注入する。吐出後、ディスペンサ79は退避する。すなわち、バキュームコレット76でプレート部材61を吸着保持した状態で、貫通穴73に接着剤81を注入する。
そして、図9(E)に示すように、ディスペンサ79が退避した後に、紫外線照射器と連結された光ファイバ、所謂UVファイバ80が移動してきて、貫通穴73と同軸に位置決めされる。このファイバ80先端から紫外線(UV)が照射され、照射光量に応じた時
間だけ経過すると、接着剤81が硬化する。この接着剤81によってプレート部材61の固定部72はホルダ70の固定面74に固定される。
その後、図9(F)に示すように、バキュームコレット76のバキュームを切って、バキュームコレット76からプレート部材61が剥がれるようにし、バキュームコレット76が矢印K方向に退避する。すなわち、接着剤81が硬化した後、バキュームコレット76の吸着を解除する。ここでプレート部材61は接着剤81によってホルダ70に固定されているのでバキュームコレット76退避後も高精度に姿勢を保持できる。もし必要があれば、その後、接着やバネなどの追加手段を用いて、プレート部材61をホルダ70にさらにしっかりと固定する。
本実施例2によれば、プレート部材61はホルダ70に対し接着剤81を用いて固定しているので保持力が強く、衝撃などによって位置ズレが生じることがない。耐衝撃性にすぐれた工程とすることができるので、損品発生の少ない安定した工程が実現できる、という効果が得られる。
また、本実施例2では、接着剤は紫外線硬化型の樹脂としたが、例えば熱硬化型など異なる種類の接着剤を用いても同様な効果が得られることは言うまでも無い。
42・・・・光偏向装置
61・・・・プレート部材62・・・・可動子(反射子)
63・・・・可動子(駆動子)
64・・・・ねじりバネ(内バネ)
65・・・・ねじりバネ(外バネ)
66・・・・永久磁石(マグネット)
67・・・・アクチュエータ部
70・・・・ホルダ
73・・・・貫通穴
74・・・・固定面
76・・・・バキュームコレット(第1の真空吸着装置)
77・・・・バキューム孔
78・・・・バキューム工具(第2の真空吸着装置)

Claims (17)

  1. 表面にビームを反射する反射面が形成されており共振振動により揺動する可動子と、ねじりバネを介して前記可動子を支持する固定部と、を備えたプレート部材と、前記プレート部材を保持するホルダと、を有する光偏向装置において、
    前記ホルダの前記固定部と対向する部分には、前記固定部と接する第1面と、前記固定部を基準に前記第1面と同じ側にあり、前記第1面よりも前記固定部から離れた第2面と、が設けられ、前記ホルダの前記第2面内に、前記固定部と前記ホルダの並ぶ方向に延びる前記ホルダを貫通する貫通穴の開口が設けられていることを特徴とする光偏向装置。
  2. 前記ホルダの前記固定部と対向する部分には複数の前記第1面が設けられていることを特徴とする請求項1に記載の光偏向装置。
  3. 前記複数の第1面は前記貫通穴の開口を囲むように配置されていることを特徴とする請求項2に記載の光偏向装置。
  4. 前記固定部は前記ねじりバネを介して前記可動子を片側支持していることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の光偏向装置。
  5. 前記プレート部材の重心は前記固定部とは異なる位置にあることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の光偏向装置。
  6. 前記ホルダは、前記可動子を揺動させるアクチュエータ部を保持することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載の光偏向装置。
  7. 前記プレート部材は、前記ねじりバネを介して前記固定部に支持され磁石が固定された別の可動子を備えることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか一項に記載の光偏向装置。
  8. 画像情報に基づいて変調されたレーザビームを出射する光源装置と、該光源装置から出射されるレーザビームを偏向して感光体上に走査する請求項1乃至7のいずれか一項に記
    載の光偏向装置と、該光偏向装置により走査されたレーザビームを感光体上に結像する結像光学系と、これらを一体に収容する光学箱とを有することを特徴とする光学走査装置。
  9. 請求項8に記載の光学走査装置を具備した画像形成装置。
  10. 少なくとも1つは表面がビームを反射する反射面となっており共振振動により揺動する複数の可動子を備えたプレート部材と、前記可動子を駆動するアクチュエータ部と、これらを一体に保持するホルダとを備えた光偏向装置において、
    前記プレート部材と接する前記ホルダの固定面、或いは前記固定面の近傍で前記プレート部材と対向する前記ホルダの面には、固定作業に使用する貫通穴が設けられており、第1の真空吸着装置で前記プレート部材を吸着保持して前記ホルダの所定位置まで搬送し、前記第1の真空吸着装置で前記プレート部材を吸着保持した状態で、前記貫通穴を通じて第2の真空吸着装置で前記ホルダ側から前記プレート部材を真空吸着して前記プレート部材を前記ホルダに対して仮固定し、その後、前記第1の真空吸着装置の吸着を解除して前記第1の真空吸着装置を前記プレート部材から離間させ、前記第2の真空吸着装置で前記プレート部材を吸着した状態で前記ホルダに前記プレート部材を固定することを特徴とする光偏向装置の組み立て方法。
  11. 少なくとも1つは表面がビームを反射する反射面となっており共振振動により揺動する複数の可動子を備えたプレート部材と、前記可動子を駆動するアクチュエータ部と、これらを一体に保持するホルダとを備えた光偏向装置において、
    前記プレート部材と接する前記ホルダの固定面、或いは前記固定面の近傍で前記プレート部材と対向する前記ホルダの面には、固定作業に使用する貫通穴が設けられており、第1の真空吸着装置で前記プレート部材を吸着保持して前記ホルダの所定位置まで搬送し、前記第1の真空吸着装置で前記プレート部材を吸着保持した状態で、前記貫通穴に接着剤を注入し、接着剤が硬化した後、前記第1の真空吸着装置の吸着を解除することを特徴とする光偏向装置の組み立て方法。
  12. 表面にビームを反射する反射面が形成されており共振振動により揺動する可動子と、ねじりバネを介して前記可動子を支持する固定部と、を備えたプレート部材と、前記プレート部材を保持するホルダと、を有する光偏向装置の組み立て方法において、
    前記ホルダの前記固定部と対向する部分には、前記固定部と接する第1面と、前記固定部を基準に前記第1面と同じ側にあり、前記第1面よりも前記固定部から離れた第2面と、が設けられ、前記ホルダの前記第2面内に、前記固定部と前記ホルダの並ぶ方向に延びる前記ホルダを貫通する貫通穴の開口が設けられており、
    第1の真空吸着装置で前記プレート部材を吸着保持して前記ホルダの所定位置まで搬送し、前記第1の真空吸着装置で前記プレート部材を吸着保持した状態で、第2の真空吸着装置で前記ホルダ側から前記貫通穴を介して前記プレート部材を吸着し、前記プレート部材を前記ホルダに仮固定する工程と、その後、前記第1の真空吸着装置の吸着を解除して前記第1の真空吸着装置を前記プレート部材から離間し、前記仮固定したまま前記プレート部材を吸着した状態で前記ホルダに前記プレート部材を固定する工程と、を有することを特徴とする光偏向装置の組み立て方法。
  13. 前記ホルダの前記固定部と対向する部分には複数の前記第1面が設けられていることを特徴とする請求項12に記載の光偏向装置の組み立て方法。
  14. 前記複数の第1面は前記貫通穴の開口を囲むように配置されていることを特徴とする請求項13に記載の光偏向装置の組み立て方法。
  15. 前記固定部は前記ねじりバネを介して前記可動子を片側支持していることを特徴とする
    請求項12乃至14のいずれか一項に記載の光偏向装置の組み立て方法。
  16. 前記プレート部材の重心は前記固定部とは異なる位置にあることを特徴とする請求項12乃至15のいずれか一項に記載の光偏向装置の組み立て方法。
  17. 前記プレート部材は、前記ねじりバネを介して前記固定部に支持され磁石が固定された別の可動子を備えることを特徴とする請求項12乃至16のいずれか一項に記載の光偏向装置の組み立て方法。
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