JP5554377B2 - 光学シートの製造方法 - Google Patents
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Description
(1)樹脂A:MFRが2.0g/10min以上、又は重量平均分子量Mwが300,000以下の非晶性の熱可塑性樹脂
(2)樹脂B:MFRが2.0g/10min未満、又は重量平均分子量Mwが300,000より大きい非晶性の熱可塑性樹脂
なお、上記MFRは、JISK7210に準拠し温度200℃、荷重49Nで測定された測定値である。
<光学シートの原材料>
光学シートの材料として以下の(1)〜(3)を用意した。
(1)ポリスチレンα(非晶性の熱可塑性樹脂)
MFR:1.1g/10min
重量平均分子量Mw:340,000〜370,000
ガラス転移温度Tg:105℃
(2)ポリスチレンβ(非晶性の熱可塑性樹脂)
MFR:3.6g/10min
重量平均分子量Mw:240,000〜280,000
ガラス転移温度Tg:105℃
(3)ポリスチレンγ(非晶性の熱可塑性樹脂)
MFR:1.8g/10min
重量平均分子量Mw:350,000〜380,000
ガラス転移温度Tg:105℃
図1(a)に示した光学シート製造装置30において第2押出機32のないタイプの光学シート製造装置130を用いて、光学シート11Aを製造した。まず、ポリスチレンαをスクリュー径150mmの第1押出機31にて溶融混練した。次に、そして、溶融混練したポリスチレンαをダイ33に供給し、ダイ温度250〜260℃で単層構造の樹脂シート10Aを連続的に押出した。このとき、樹脂シート10Aの幅(図1(a)における奥行方向)を1400mmとした。予圧ロール35、第1押圧ロール36、第2押圧ロール37の周面温度は、それぞれ75℃、80℃、85℃とした。各ロール35,36,37の周面35a,36a,37aには鏡面加工が施されている。また、樹脂シート10Aの搬送速度が5.320m/minとなるように、各ロール35,36,37の回転速度を調整した。このようにして、厚さが2mmの光学シート11Aを製造した。
実験例Bでは、予圧ロール35、第1押圧ロール36、第2押圧ロール37の周面温度を、それぞれ87℃、90℃、93℃とした点以外は、実験例Aと同様の方法で光学シート11を製造した。この光学シート11Bについて、実験例Aと同様の方法で、表面粗さRa(ISO4287:1997で定義される算術平均粗さ)を測定した。この測定の結果は、図7に示す図表のとおりである。
実験例Cでは、ポリスチレンβを光学シート11Cの原料として用いた点と、予圧ロール35、第1押圧ロール36、第2押圧ロール37の周面温度を、それぞれ83℃、88℃、90℃とした点以外は、実験例Aと同様の方法で光学シート11Cを製造した。この光学シート11Cについて、実験例Aと同様の方法で、表面粗さRa(ISO4287:1997で定義される算術平均粗さ)を測定した。この測定の結果は、図7に示す図表のとおりである。
図1(a)に示した光学シート製造装置30を用いて、光学シート11Dを製造した。まず、ポリスチレンαをスクリュー径150mmの第1押出機31で溶融混練し、ダイ33に供給した。次に、ポリスチレンβをスクリュー径60mmの第2押出機32で溶融混練して、ダイ33に供給した。次に、第1押出機31から供給されるポリスチレンαが中間層12となり、上記第2押出機32から供給されるポリスチレンβが表層13a,13bとなるように、ダイ33によりダイ温度250℃〜260℃で共押出成形を行った。このとき、樹脂シート10Dの幅(図1(a)における奥行方向)を1400mmとした。また、表層13a,13bの厚さはそれぞれ50μm、中間層12の厚さは1900μmであり、中間層12に対する表層13a,13bの厚みの比は、1/19である。
実験例Eでは、ポリスチレンγを光学シート11Eの原料として用いた点と、搬送速度を5.300m/minとした点と、予圧ロール35、第1押圧ロール36、第2押圧ロール37の周面温度を、それぞれ87℃、88℃、90℃とした点以外は、実験例Aと同様の方法で光学シート11Eを製造した。この光学シート11Eについて、実験例Aと同様の方法で、表面粗さRa(ISO4287:1997で定義される算術平均粗さ)を測定した。この測定の結果は、図7に示す図表のとおりである。
実験例Fでは、図1(a)に示した光学シート製造装置30を用いて、光学シート11Fを製造した。まず、ポリスチレンγをスクリュー径150mmの第1押出機31で溶融混練し、ダイ33に供給した。次に、ポリスチレンβをスクリュー径60mmの第2押出機32で溶融混練して、ダイ33に供給した。次に、第1押出機31から供給されるポリスチレンγが中間層12となり、上記第2押出機32から供給されるポリスチレンβが表層13a,13bとなるように、ダイ33によりダイ温度250℃〜260℃で共押出成形を行った。このとき、樹脂シート10Fの幅(図1(a)における奥行方向)を1400mmとした。また、表層13a,13bの厚さはそれぞれ50μm、中間層12の厚さは1900μmであり、中間層12に対する表層13a,13bの厚みの比は、1/19である。
実験例A〜Fによれば、実験例C、D及びFのように押圧工程において鏡面加工された第2押圧ロール37と接触する層を構成する非晶性の熱可塑性樹脂のMFRを2.0g/10min以上とするか、又は重量平均分子量Mwを300,000以下とすれば、当該第2押圧ロール37と接触する層の上面側表面71a,171aの表面粗さRaを15nm以下にできることが確認された。
本実験例2では、光学シート21A〜21E及び21Iにおいて、蛍光灯の反射像の輪郭にぼけを観察することができなかった。すなわち、光学シート21A〜21E及び21Iには、梨肌欠陥は生じていないと判定される。そして、このときの表面粗さRaは、15.0nm以下であることが確認された。これにより、光学シートの表面の表面粗さRaを15.0nm以下とすれば、梨肌欠陥のない表面となることが確認された。
Claims (5)
- ポリスチレン系樹脂からなり、少なくとも一方の面のISO4287:1997で定義される算術平均粗さRaが、15nm以下である光学シートを製造する方法であり、
加熱溶融状態のポリスチレン系樹脂をダイから連続的に押し出して、厚み方向に複数の層を有する多層構造である樹脂シートを製造する押出工程と、
2つの押圧ロールで前記樹脂シートを挟み込んで押圧することにより光学シートに成形する押圧工程と、を備え、
少なくとも一方の前記押圧ロールの周面には鏡面加工が施されており、
前記樹脂シートは、前記押圧工程において前記鏡面加工された押圧ロールと接触する第1層と、前記第1層以外の第2層とを有しており、
前記第1層を構成するポリスチレン系樹脂の重量平均分子量が300000以下であり、
前記第2層を構成するポリスチレン系樹脂の重量平均分子量が300000より大きい、
ことを特徴とする前記光学シートの製造方法。 - ポリスチレン系樹脂からなり、少なくとも一方の面のISO4287:1997で定義される算術平均粗さRaが、15nm以下である光学シートを製造する方法であり、
加熱溶融状態のポリスチレン系樹脂をダイから連続的に押し出して、厚み方向に複数の層を有する多層構造である樹脂シートを製造する押出工程と、
2つの押圧ロールで前記樹脂シートを挟み込んで押圧することにより光学シートに成形する押圧工程と、を備え、
少なくとも一方の前記押圧ロールの周面には鏡面加工が施されており、
前記樹脂シートは、前記押圧工程において前記鏡面加工された押圧ロールと接触する第1層と、前記第1層以外の第2層とを有しており、
前記第1層を構成するポリスチレン系樹脂のMFR(JISK7210に準拠し温度200℃、荷重49Nで測定された測定値)が2.0g/10min以上であり、
前記第2層を構成するポリスチレン系樹脂のMFR(JISK7210に準拠し温度200℃、荷重49Nで測定された測定値)が2.0g/10min未満である、
ことを特徴とする前記光学シートの製造方法。 - 前記押圧工程後における前記第2層に対する前記第1層の厚みの比が、1/200〜1/10である、請求項1又は2に記載の製造方法。
- 前記光学シートが導光板である、請求項1〜3の何れか一項に記載の製造方法。
- 前記ポリスチレン系樹脂がポリスチレンである、請求項1〜4の何れか一項に記載の製造方法。
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