TWI660848B - 用以製造顯示單元的系統 - Google Patents

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TWI660848B TW106135271A TW106135271A TWI660848B TW I660848 B TWI660848 B TW I660848B TW 106135271 A TW106135271 A TW 106135271A TW 106135271 A TW106135271 A TW 106135271A TW I660848 B TWI660848 B TW I660848B
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崔恒碩
張應鎭
鄭奉洙
柳在漢
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Abstract

本發明描述一種根據本發明之例示性實施例的用以製造 顯示單元之系統，包含：傳輸單元，以預定傳輸長度反覆地傳輸光學膜且反覆地停止光學膜之傳輸，偏光膜、黏合層以及可分離地附接至黏合層的離型膜層壓在光學膜上；切割單元，在預定切割位置處沿寬度方向切割光學膜而不切割離型膜以便在光學膜中形成縫隙線；分離單元，將離型膜與偏光膜分離；以及附接單元，將與離型膜分離之偏光膜附接至面板；其中傳輸單元包含水平軋輥，所述水平軋輥安置於傳輸方向之下游側處以便與切割位置間隔開且水平地傳輸光學膜，且水平軋輥滿足以下條件表式使得當停止光學膜之傳輸時縫隙線不會位於水平軋輥上：<條件表式1>I*n<H<I*(n+1)
其中I為預定傳輸長度，n為等於或大於0之整數，且H為水平軋輥之旋轉中心與切割位置之間的水平距離。

Description

用以製造顯示單元的系統
本發明是關於一種用以製造顯示單元之系統，且更特定言之，是關於一種藉由將光學膜附接至面板來製造顯示單元之用以製造顯示單元的系統。
包含液晶顯示器(liquid crystal display；LCD)、有機發光二極體(organic light emitting diode；OLED)、電漿顯示面板(plasma display panel；PDP)、電泳顯示器(electrophoretic display；EPD)以及類似物之顯示單元是經由數個過程製造。將光學膜分別附接至面板之一個表面及另一表面來製造顯示單元，且面版通常在附接至面板之一個表面的光學膜之吸收軸與附接至面板之另一表面的光學膜之吸收軸彼此垂直的情況下工作。下文將描述將光學膜附接至面板的一個表面的過程。
圖1為說明將光學膜附接至面板之一個表面的過程的一實例的視圖。
參照圖1，在將光學膜附接至面板之一個表面的過程中，供應寬度對應於面板P之較短側的光學膜F的供應軋輥(supply roller)R1供應所述光學膜F，且將所供應之光學膜F移動至附接位置，在所述附接位置處藉由傳輸軋輥(transport roller)R2將光學膜F附接至面板P。在將光學膜F附接至面板P之前，以預定深度，而非離型膜(release film)F1的切割深度在光學膜F中形成縫隙線(slit line)(下文中被稱作半切割)。可安裝改變軋輥(change roller)R3以減少傳輸光學膜F之空間，所述改變軋輥R3改變光學膜F之傳輸方向。藉由移動軋輥(moving roller)R4將面板P移動至附接位置，且當光學膜F及面板P移動至附接位置時，附接軋輥對(attaching roller)R5將光學膜F附接至面板P。
同時，在藉由將光學膜F附接至面板P來製造顯示單元之過程中，必須執行光學膜傳輸過程以將光學膜移動至附接位置以便將光學膜附接至面板的一個表面，且必須執行切割過程以在光學膜中形成縫隙線從而形成偏光膜的片材。
此外，需要停止光學膜之傳輸以便執行切割過程。
然而，在以先前技術製造顯示單元的過程中，反覆地執行將光學膜F傳輸至預定傳輸長度且接著停止光學膜之傳輸的過程，但在一些情況下，當停止光學膜F之傳輸時，形成於光學膜中之縫隙線為了改變光學膜F之傳輸方向而與傳輸軋輥R2或改變軋輥R3接觸且由傳輸軋輥R2或改變軋輥R3支撐。
在此情況下，因為縫隙線與軋輥R2或R3接觸且由軋輥R2或R3支撐，所以將拉力集中地施加至光學膜F中之縫隙線，且因此存在光學膜變形之問題，此是因為光學膜上之偏光膜與離型膜隔開，外來物質附接至與離型膜隔開之偏光膜的黏合層，或離型膜之一部分破損或破裂。
本發明致力於提供一種用以製造顯示單元之系統，系統在製造顯示單元之過程期間最小化經傳輸光學膜的變形。
本發明之一例示性實施例提供一種用以製造顯示單元之系統，系統包含：傳輸單元，以預定傳輸長度反覆地傳輸光學膜且反覆地停止光學膜之傳輸，偏光膜、黏合層以及可分離地附接至黏合層的離型膜層壓在光學膜上；切割單元，在預定切割位置處沿寬度方向切割光學膜而不切割離型膜以便在光學膜中形成縫隙線；分離單元，將離型膜與偏光膜分離；以及附接單元，將與離型膜分離之偏光膜附接至面板，其中傳輸單元包含水平軋輥(horizontal roll)，水平軋輥安置於傳輸方向之下游側處以便與切割位置間隔開且水平地傳輸光學膜，且水平軋輥滿足以下條件表式，使得在停止光學膜之傳輸時，縫隙線不會位於水平軋輥上：<條件表式1>I*n<H<I*(n+1)
其中I為預定傳輸長度，n為等於或大於0之整數，且H為水平軋輥之旋轉中心與切割位置之間的水平距離。
根據本發明之例示性實施例，水平軋輥可滿足以下條件表式：
其中I為預定傳輸長度，n為等於或大於0之整數，且H為水平軋輥之旋轉中心與切割位置之間的水平距離。
本發明之另一例示性實施例提供一種用以製造顯示單元之系統，系統包含：傳輸單元，以預定傳輸長度反覆地傳輸光學膜且反覆地停止光學膜之傳輸，偏光膜、黏合層以及可分離地附接至黏合層的離型膜層壓在光學膜上；切割單元，在預定切割位置處沿寬度方向切割光學膜而不切割離型膜以便在光學膜中形成縫隙線；分離單元，將偏光膜與離型膜分離；以及附接單元，將與離型膜分離之偏光膜附接至面板；其中傳輸單元包含傳輸方向改變軋輥(transport direction changing roll)，所述傳輸方向改變軋輥安置於傳輸方向之下游側處以便與切割位置間隔開並且改變光學膜之傳輸方向，且傳輸方向改變軋輥滿足以下條件表式，使得在停止光學膜之傳輸時，縫隙線不會位於傳輸方向改變軋輥上：<條件表式3及4>L1>I*m L2<I*(m+1)
其中I為預定傳輸長度，m為等於或大於0之整數，L1為自光學膜中形成縫隙線之位置至光學膜與傳輸方向改變軋輥開始彼此接觸之位置的光學膜之長度，且L2為自光學膜中形成縫隙線之位置至光學膜與傳輸方向改變軋輥之間的接觸終止之位置的光學膜之長度。
根據本發明之例示性實施例的傳輸方向改變軋輥可滿足以下條件表式：<條件表式5及6>
其中I為預定傳輸長度，m為等於或大於0之整數，L1為自光學膜中形成縫隙線之位置至光學膜與傳輸方向改變軋輥開始彼此接觸之位置的光學膜之長度，且L2為自光學膜中形成縫隙線之位置至光學膜與傳輸方向改變軋輥之間的接觸終止之位置的光學膜之長度。
本發明之又一例示性實施例提供一種用以製造顯示單元之系統，系統包含：傳輸單元，以預定傳輸長度反覆地傳輸光學膜且反覆地停止光學膜之傳輸，偏光膜、黏合層以及可分離地附接至黏合層的離型膜層壓在光學膜上；切割單元，在預定切割位置處沿寬度方向切割光學膜而不切割離型膜以便在光學膜中形成縫隙線；分離單元，將偏光膜與離型膜分離；以及附接單元，將與離型膜分離之偏光膜附接至面板；其中傳輸單元包含傳輸方向改變軋輥及垂直軋輥，傳輸方向改變軋輥安置於傳輸方向之下游側處以便與切割位置間隔開並且將光學膜之傳輸方向改變為垂直方向，所述垂直軋輥支撐光學膜同時與傳輸方向改變為垂直方向之光學膜接觸，且垂直軋輥滿足以下條件表式，使得在停止光學膜之傳輸時縫隙線不會位於垂直軋輥上：<條件表式7>I*q-L2<V<I*(q+1)-L2
其中I為預定傳輸長度，q為等於或大於0之整數，L2為自光學膜中形成縫隙線之位置至光學膜與傳輸方向改變軋輥之間的接觸終止之位置的光學膜之長度，且V為垂直軋輥之旋轉中心與光學膜 與傳輸方向改變軋輥之間的接觸終止之位置之間的垂直距離。
根據本發明之例示性實施例，垂直軋輥可滿足以下條件表式：
其中I為預定傳輸長度，q為等於或大於0之整數，L2為自光學膜中形成縫隙線之位置至光學膜與傳輸方向改變軋輥之間的接觸終止之位置的光學膜之長度，且V為垂直軋輥之旋轉中心與光學膜與傳輸方向改變軋輥之間的接觸終止之位置之間的垂直距離。
根據本發明之又一例示性實施例的傳輸方向改變軋輥可將光學膜之傳輸方向垂直地改變為第一方向，且垂直軋輥可將沿第一方向傳輸之光學膜的傳輸方向改變為與第一方向相反之第二方向且可滿足以下條件表式：<條件表式9及10>L3>I*r L4<I*(r+1)
其中I為預定傳輸長度，r為等於或大於0之整數，L3為自光學膜中形成縫隙線之位置至光學膜與垂直軋輥開始彼此接觸之位置的光學膜之長度，且L4為自光學膜中形成縫隙線之位置至光學膜與垂直軋輥之間的接觸終止之位置的光學膜之長度。
根據本發明之又一例示性實施例的垂直軋輥可滿足以下條件表式：
其中I為預定傳輸長度，r為等於或大於0之整數，L3為自光學膜中形成縫隙線之位置至光學膜與垂直軋輥開始彼此接觸之位置的光學膜之長度，且L4為自光學膜中形成縫隙線之位置至光學膜與垂直軋輥之間的接觸終止之位置的光學膜之長度。
根據本發明之例示性實施例，可最小化光學膜之變形，所述光學膜藉由傳輸單元傳輸至用以製造顯示單元之系統。
100‧‧‧傳輸單元
110‧‧‧水平軋輥
130‧‧‧傳輸方向改變軋輥
150‧‧‧垂直軋輥
200‧‧‧切割單元
300‧‧‧分離單元
400‧‧‧附接單元
500‧‧‧捲繞單元
1000‧‧‧系統
C1‧‧‧旋轉中心
C3‧‧‧旋轉中心
C5‧‧‧旋轉中心
F‧‧‧光學膜
F1‧‧‧離型膜
H‧‧‧水平距離
L1‧‧‧長度
O‧‧‧位置
OF‧‧‧光學膜
P‧‧‧面板
PF‧‧‧偏光膜
R1‧‧‧供應軋輥
R2‧‧‧傳輸軋輥
R3‧‧‧改變軋輥
R4‧‧‧移動軋輥
R5‧‧‧附接軋輥
RF‧‧‧離型膜
S1‧‧‧位置
S2‧‧‧位置
T1‧‧‧位置
T2‧‧‧位置
V‧‧‧垂直距離
α‧‧‧長度
圖1為說明將光學膜附接至面板之一個表面的過程之一實例的視圖。
圖2為說明根據本發明之一例示性實施例的用以製造顯示單元之系統的視圖。
圖3為用於解釋根據本發明之例示性實施例的水平軋輥之位置關係的視圖。
圖4為用於解釋根據本發明之另一例示性實施例的傳輸方向改變軋輥與垂直軋輥之間的位置關係的視圖。
在下文中，將參考附圖詳細描述本發明之例示性實施例，使得關於本發明之本領域的技術人員可容易地進行例示性實施例。然而，本發明可以各種不同方式實施，且不限於本文中所描 述之例示性實施例。圖式中將省略與本說明書不相關之部分以便清楚地描述本發明，且貫穿本說明書將藉由類似圖式元件符號指定類似成分元件。
將簡要地描述本說明書中所使用之術語，且將詳細地描述本發明。
考慮到本發明中之功能，本發明中所使用之術語是由當前廣泛用於本領域中的通用術語中選出的那些術語，但術語可根據本領域的技術人員的意圖、前例或本領域中之新技術改變。同樣，特定術語由本申請人任意地選擇，且在此情況下，其詳細意義將描述於本發明之實施方式中。因此，應基於術語的意義及本發明之整體描述而非簡單名稱理解本發明中所使用之術語。
在本發明書中，除非明確地描述為相反情況，否則「包括(comprise)」一詞及其變化形式(諸如「comprises」或「comprising」)應理解為暗示包含所陳述的元件，但不排除任何其他元件。
在下文中，將參照附圖詳細描述本發明之實施例。
圖2為說明根據本發明之一例示性實施例的用以製造顯示單元之系統的視圖。
根據本發明之例示性實施例的用以製造顯示單元之系統1000為能夠藉由將偏光膜PF切割至對應於面板P之長度的長度並且將偏光膜PF附接至面板P的兩個表面來製造顯示單元之系統。
用於用以製造顯示單元之系統1000的偏光膜PF可用於藉由在偏光膜PF上層壓至少一層膜而形成光學膜OF。舉例而言，光學膜OF包含偏光膜PF，且除了偏光膜PF之外可進一步包含具有 光學特性之膜，諸如相位差膜(phase difference film)、可視角補償膜(angle-of-visibility compensation film)或增亮膜(brightness enhancement film)。亦即，可使用光學膜OF，其是藉由將具有光學特性之膜附接至偏光膜PF之一個表面或兩個表面而製得。另外，可將保護性透明膜附接至偏光膜PF及具有光學特性之膜以便保護膜的表面。舉例而言，三乙醯纖維素(triacetyl cellulose)膜、聚鄰苯二甲酸伸乙酯(polyethylene phthalate)膜或類似物可用作所述保護性透明膜。此外，黏合層形成於偏光膜PF的一個表面上，在將偏光膜PF附接至面板P時提供附接力，且可將離型膜RF附接至黏合層以便保護所述黏合層。舉例而言，黏合層可包含丙烯酸類(acrylic)黏附劑、聚矽氧類(silicon)黏附劑或胺基甲酸酯類(urethane)黏附劑，且黏合層之厚度可為10微米至50微米。舉例而言，聚對苯二甲酸伸乙酯類(polyethylene terephthalate)膜、聚烯烴類(polyolefin)膜或類似者可用作離型膜RF。
另外，用於用以製造顯示單元之系統的光學膜OF經形成在縱向方向上延長，但可使用以軋輥形狀捲繞之光學膜OF。
偏光膜PF所附接至的面板P包含液晶單元，且面板P可經分類為VA類型面板、IPS類型面板以及類似物。
用以製造顯示單元之系統1000可藉由以下實例中之一者將偏光膜PF附接至面板P的兩個表面。作為將偏光膜PF附接至面板P之兩個表面同時翻轉面板P的實例，可存在一種將偏光膜PF自面板P下方附接至面板P之一個表面，翻轉面板P，且接著將偏光膜PF自面板P下方附接至另一表面的方法，及一種將偏光膜PF自面板P上方附接至面板P之一個表面，翻轉面板P，且接著將偏光膜PF自 面板P上方附接至面板P之另一表面的方法。作為將偏光膜PF附接至面板P之兩個表面而不需翻轉面板P的實例，可存在一種將偏光膜PF自面板P上方附接至面板P之一個表面且接著將偏光膜PF自面板P下方附接至面板P之另一表面而不需翻轉面板P的方法，及一種將偏光膜PF自面板P下方附接至面板P之一個表面且接著將偏光膜PF自面板P上方附接至面板P之另一表面而不需翻轉面板P的方法。
用以製造顯示單元之系統1000可包含傳輸單元100、切割單元200、分離單元300、附接單元400以及捲繞單元500。
傳輸單元100可以預定傳輸長度I反覆地傳輸光學膜OF，且可反覆地停止光學膜OF之傳輸，偏光膜PF及可分離地附接至偏光膜PF的離型膜RF層壓在所述光學膜上。此處，可基於面板P之較長側或較短側之長度判定預定傳輸長度I，面板P為偏光膜PF待附接至的物件。更詳細而言，可基於面板P之表面的整個區域中之附接區域的較長側或較短側之長度判定預定傳輸長度I，所述附接區域經判定為其中需要附接偏光膜PF之區域。在下文中，為方便描述起見，假設附接區域之大小等於面板P的表面之大小，將描述其中預定傳輸長度I是基於面板P之較長側或較短側的長度而判定之組態。
在對應於面板P之長度的預定間隔處切割以拉長方式延伸之偏光膜PF，由此形成片材。為在預定間隔處切割偏光膜PF，在以預定傳輸長度I傳輸其上層壓有偏光膜PF及離型膜RF的光學膜OF且接著停止傳輸時，藉由待在下文描述之切割單元200在預定切割位置處形成縫隙線，且當再次以預定傳輸長度I傳輸光學膜OF且接著停止傳輸時，藉由切割單元200在預定切割位置處形成下一 縫隙線。預定傳輸長度I可為片材之長度及間隔的總和，在所述間隔處，連續片材藉由縫隙線彼此間隔開。由於預定間隔是藉由縫隙線形成於兩個連續片材之間，所以若傳輸光學膜OF而不考慮間隔，則片材之間的長度可為不均勻的。
傳輸單元100可包含能夠傳輸光學膜OF之各種傳送裝置。舉例而言，傳輸單元100可藉由使用傳送帶或軋輥傳輸光學膜OF。
切割單元200在預定切割位置處沿寬度方向切割光學膜OF而不切割離型膜RF，由此在光學膜OF中形成縫隙線。亦即，切割單元200沿寬度方向自對側至離型膜RF將偏光膜PF及黏合層切割至預定深度，使得離型膜RF的連續性得以保持，由此在光學膜OF中形成縫隙線。此外，切割單元200可在光學膜OF中以對應於面板P之長度的間隔連續地形成縫隙線。亦即，切割單元200在停止光學膜OF之傳輸時藉由切割光學膜OF在光學膜OF中形成縫隙線，且切割單元200在切割過程停止而光學膜OF藉由傳輸單元100傳輸預定傳輸長度I時藉由切割光學膜OF形成下一縫隙線，且接著停止光學膜OF之傳輸，由此形成偏光膜PF之片材，所述片材由兩個縫隙線限定且長度對應於面板P之長度。舉例而言，縫隙線可以對應於面板P之較長側的長度的間隔連續地形成於光學膜OF中，所述光學膜OF附接至面板P之一個表面且具有對應於面板P之較短側之長度的寬度；或縫隙線可以對應於面板P之較短側的長度的間隔連續地形成於光學膜OF中，所述光學膜OF附接至面板P之另一表面且具有對應於面板P之較長側之長度的寬度。
切割單元200可包含能夠切割光學膜OF之各種切割裝 置。舉例而言，雷射單元、切割機或類似者可用作切割單元200。
分離單元300可將偏光膜PF之片材與離型膜RF分離。此處，分離單元300可藉由將離型膜RF自藉由傳輸單元100傳輸之光學膜OF朝內摺疊而將偏光膜PF連同黏合層一起與離型膜RF分離。刀口部分可形成於分離單元300之尖端部分處，且刀口部分之曲率半徑可為0.3毫米至5.0毫米。經傳輸之光學膜OF之偏光膜PF的傳輸方向未改變，但在分離單元300之尖端部分處改變離型膜RF之傳輸方向，使得離型膜RF可與偏光膜PF分離。藉由捲繞單元(winding unit)500捲繞來收集由分離單元300分離之離型膜RF。
附接單元400可將與離型膜RF分離之偏光膜PF附接至面板P的一個表面。附接單元400可包含附接軋輥對。附接軋輥對可沿上及下方向移動，且附接軋輥對中之至少一者可藉由電動機旋轉。橡膠軋輥或金屬軋輥可用作所述附接軋輥對。
傳輸至附接單元400之分離偏光膜PF及面板P位於所述附接軋輥對之間，且所述附接軋輥對彼此擠壓，使得可將偏光膜PF附接至面板P之一個表面。可將偏光膜PF附接至面板P同時保持偏光膜PF及面板P之平坦度以便在附接偏光膜PF時防止氣泡及其類似物產生於偏光膜PF與面板P之間。
圖3為用於解釋根據本發明之例示性實施例的水平軋輥之位置關係的視圖。
同時，傳輸單元100可包含水平軋輥110，所述水平軋輥110安置於光學膜OF之傳輸方向的下游側處以便與切割位置間隔開，在所述切割位置處切割單元200在光學膜OF中形成縫隙線，且水平軋輥110支撐光學膜OF且水平地傳輸光學膜OF。
水平軋輥110可位於光學膜OF之上側或下側處，且可支撐光學膜OF之偏光膜PF及離型膜RF，同時與偏光膜PF及離型膜RF線對線接觸。
多個水平軋輥110可經提供且位於滿足以下條件表式之位置處，使得在停止藉由傳輸單元100傳輸光學膜OF時，形成於光學膜OF中之縫隙線不會位於水平軋輥110上。
<條件表式1>I*n<H<I*(n+1)
此處，I為光學膜OF之預定傳輸長度，n為等於或大於0之整數，且H為水平軋輥110之旋轉中心C1與切割位置之間的水平距離。
描述將基於以下假設進行：用於製造顯示單元之面板P之較長側為1200毫米且較短側為700毫米，附接至面板P之一個表面的光學膜OF之寬度對應於面板P之較短側，且具有對應於面板P之較長側的1200毫米的長度之片材需要自偏光膜PF形成在光學膜OF上。此處，假定藉由縫隙線彼此間隔開之連續片材之間的間隔平均為20微米。
在此情況下，可基於片材之長度將光學膜OF之預定傳輸長度I設定為1200毫米。更特定而言，可將預定傳輸長度I設定為1200.02毫米，其為片材之長度與藉由縫隙線彼此間隔開之連續片材之間的間隔之總和。為方便描述，將基於預定傳輸長度I是基於片材之長度而經設定為1200毫米之假設進行描述。
作為關於水平軋輥110之位置的例示性實施例，若水平軋輥110之旋轉中心C1的位置需要安置在鄰近於與切割位置間隔 2500毫米之位置，則根據條件表式1，n為2，且因此，可設定水平軋輥110之位置使得水平軋輥110之旋轉中心與切割位置之間的水平距離H大於2400毫米(=1200*2毫米)且小於3600毫米(=1200*3毫米)。因此，即使在以預定傳輸長度反覆地傳輸其中藉由切割單元200形成縫隙線的光學膜OF之後停止光學膜OF之傳輸，光學膜OF中之縫隙線可不位於水平軋輥110上。
因此，按照根據本發明之用以製造顯示單元的系統，可防止先前技術中之問題，所述問題在於，隨著由於縫隙線緊靠傳輸方向改變軋輥而將拉力施加至光學膜，在光學膜停止時，由於在傳輸方向改變軋輥緊靠離型膜時偏光膜的片材之端部分與離型膜分離，外來物質附接至與離型膜分離之偏光膜的黏合層，離型膜的部分破損或破裂，或由於在傳輸方向改變軋輥緊靠偏光膜時按壓偏光膜之片材的端部分，偏光膜之片材的端部分變形，因此光學膜變形。
水平軋輥可位於進一步滿足以下條件表式之位置處。
此處，I為光學膜OF之預定傳輸長度，n為等於或大於0之整數，且H為水平軋輥110之旋轉中心C1與切割位置之間的水平距離。
因此，可根據條件表式2設定水平軋輥110之位置，使得水平軋輥110之旋轉中心與切割位置之間的水平距離H等於或大於2760毫米(=1200*(2+0.3)毫米)及等於或小於3240毫米(=1200*(2+0.7)毫米。因此，即使在以預定傳輸長度反覆地傳輸 其中藉由切割單元200形成縫隙線的光學膜OF之後停止光學膜OF的傳輸，光學膜OF中之縫隙線可經安置以與水平軋輥110充分間隔開。
水平軋輥110之位置可經最特別地設定，使得水平軋輥110之旋轉中心C1與切割位置之間的水平距離H為I*(n+0.5)。亦即，在水平軋輥110位於水平軋輥110與光學膜OF在連續縫隙線之間的中間點處彼此緊靠的位置處的情況下，可基於影響位於接觸點兩側處之縫隙線對，拉力被最小化，且因此，可使光學膜之變形的問題最小化。
圖4為用於解釋根據本發明之另一例示性實施例的傳輸方向改變軋輥與垂直軋輥之間的位置關係的視圖。
由於就組態及影響而言，根據另一例示性實施例之用以製造顯示單元的系統幾乎等同於根據前述例示性實施例之用以製造顯示單元的系統，所以將基於差異進行描述。
傳輸單元100可包含傳輸方向改變軋輥130，所述傳輸方向改變軋輥安置於光學膜OF之傳輸方向之下游側處以便與切割位置間隔開，且傳輸方向改變軋輥130改變光學膜OF之傳輸方向，在所述切割位置處，切割單元200在光學膜OF中形成縫隙線。
傳輸方向改變軋輥130位於光學膜OF之上側或下側處，且傳輸方向改變軋輥130之外部圓周表面的預定區域支撐光學膜OF及離型膜RF同時與光學膜OF及離型膜RF面對面接觸，由此改變光學膜OF之傳輸方向。
傳輸方向改變軋輥130可位於滿足以下條件表式之位置處，使得在停止藉由傳輸單元100傳輸光學膜時形成於光學膜OF中 之縫隙線不會位於傳輸方向改變軋輥130上。
<條件表式3>L1>I*m
<條件表式4>L2<I*(m+1)
此處，I為光學膜OF之預定傳輸長度，m為等於或大於0之整數，L1為自光學膜OF中形成縫隙線之位置O至光學膜OF與傳輸方向改變軋輥130開始彼此接觸之位置S1的光學膜OF的長度，且L2為自光學膜OF中形成縫隙線之位置O至光學膜OF與傳輸方向改變軋輥130之間的接觸終止之位置T1之光學膜OF的長度。
描述將基於以下假設進行：用於製造顯示單元之面板P的較長側為1200毫米且較短側為700毫米，附接至面板P之一個表面的光學膜OF之寬度對應於面板P之較短側，且具有對應於面板P之較長側的1200毫米的長度之片材需要自偏光膜PF形成於光學膜OF上。此處，假定藉由縫隙線彼此間隔開之連續片材之間的間隔平均為20微米。
在此情況下，可基於片材之長度將光學膜OF之預定傳輸長度I設定為1200毫米。更特定而言，可將預定傳輸長度I設定為1200.02毫米，其為片材之長度與藉由縫隙線彼此間隔開之連續片材之間的間隔之總和。為方便描述，將基於預定傳輸長度I是基於片材之長度而經設定為1200毫米之假設進行描述。
此外，作為關於傳輸方向改變軋輥130之位置的例示性實施例，將基於傳輸方向改變軋輥130需要安置在鄰近於與位置O間隔5000毫米之位置的假設進行描述，其中縫隙線基於沿 光學膜OF之傳輸路徑延伸之光學膜OF的長度形成於光學膜OF中。
因為根據條件表式3，m為4，所以根據條件表式4，傳輸方向改變軋輥130之位置可經設定使得自光學膜OF中形成縫隙線的位置O至光學膜OF與傳輸方向改變軋輥130開始彼此接觸的位置S1之光學膜OF的長度L1大於4800毫米(=1200*4毫米)，且自光學膜OF中形成縫隙線之位置O至光學膜OF與傳輸方向改變軋輥130之間的接觸終止之位置T1的光學膜OF之長度L2小於6000毫米(=1200*(4+1)毫米)
此處，(自光學膜OF中形成縫隙線的位置O至光學膜OF與傳輸方向改變軋輥130之間的接觸終止的位置T1的)光學膜OF的長度L2等於(自光學膜OF中形成縫隙線的位置O至光學膜OF與傳輸方向改變軋輥130開始彼此接觸的位置S1的)光學膜OF的長度L1與(光學膜OF與傳輸方向改變軋輥130彼此接觸之區域中的)光學膜OF的長度α的總和。
(L2=L1+α)
因此，即使在以預定傳輸長度傳輸其中藉由切割單元200形成縫隙線的光學膜OF之後停止光學膜OF之傳輸，光學膜OF中之縫隙線可不位於方向改變軋輥130上。
因此，按照根據本發明之用以製造顯示單元的系統，可防止先前技術中之問題，所述問題在於，隨著由於縫隙線緊靠傳輸方向改變軋輥而將拉力施加至光學膜，在光學膜停止時，由於在傳輸方向改變軋輥緊靠離型膜時偏光膜的片材之端部分與離型膜分離，外來物質附接至與離型膜分離之偏光膜的黏合層，離型膜的部 分破損或破裂，或由於在傳輸方向改變軋輥緊靠偏光膜時按壓偏光膜之片材的端部分，偏光膜之片材的端部分變形，因此光學膜變形。
傳輸方向改變軋輥可位於滿足以下條件表式之位置處。
此處，I為光學膜OF之預定傳輸長度，m為等於或大於0之整數，L1為自光學膜OF中形成縫隙線的位置O至光學膜OF與傳輸方向改變軋輥130開始彼此接觸的位置S1的光學膜OF的長度，且L2為自光學膜OF中形成縫隙線的位置O至光學膜OF與傳輸方向改變軋輥130之間的接觸終止的位置T1的光學膜OF之長度。
因此，傳輸方向改變軋輥130之位置可經設定使得根據條件表式5，自光學膜OF中形成縫隙線的位置O至光學膜OF與傳輸方向改變軋輥130開始彼此接觸的位置S1的光學膜OF的長度L1等於或大於5160毫米=1200*(4+0.3)毫米)，且根據條件表式6，自光學膜OF中形成縫隙線之位置O至光學膜OF與傳輸方向改變軋輥130之間的接觸終止之位置T1的光學膜OF之長度L2小於5640毫米(=1200*(4+0.7)毫米)。
因此，即使在以預定傳輸長度反覆地傳輸其中藉由切割單元200形成縫隙線的光學膜OF之後停止光學膜OF的傳輸，光學膜OF之縫隙線可經安置以與光學膜OF與傳輸方向改變軋輥130之間的接觸區域充分間隔開。
同時，傳輸方向改變軋輥130可將光學膜之傳輸方向改變為垂直方向。在此情況下，傳輸單元100可包含垂直軋輥150，所述垂直軋輥支撐藉由傳輸方向改變軋輥130而將傳輸方向改變為垂直方向的光學膜同時與光學膜接觸。
垂直軋輥150可位於垂直傳輸之光學膜OF的左側或右側處，且垂直軋輥150可支撐光學膜OF之偏光膜PF及離型膜RF同時與偏光膜PF及離型膜RF接觸。
垂直軋輥150可位於滿足以下條件表式之位置處，使得在停止光學膜OF之傳輸時，形成於光學膜OF中之縫隙線不會位於水平軋輥110上。
<條件表式7>I*q-L2<V<I*(q+1)-L2
此處，I為光學膜OF之預定傳輸長度，q為等於或大於0之整數，L2為自光學膜OF中形成縫隙線的位置O至光學膜OF與傳輸方向改變軋輥130之間的接觸終止之位置T1的光學膜OF之長度，且V為垂直軋輥150之旋轉中心C3與光學膜OF與傳輸方向改變軋輥130之間的接觸終止之位置T1之間的垂直距離。
描述將基於以下假設進行：用於製造顯示單元之面板P的較長側為1200毫米且較短側為700毫米，附接至面板P之一個表面的光學膜OF之寬度對應於面板P之較短側，且具有對應於面板P之較長側的1200毫米的長度之片材需要自偏光膜PF形成於光學膜OF上。此處，假定藉由縫隙線彼此間隔開之連續片材之間的間隔平均為20微米。
在此情況下，可基於片材之長度將光學膜OF之預定傳輸 長度I設定為1200毫米。更特定而言，可將預定傳輸長度I設定為1200.02毫米，其為片材之長度與藉由縫隙線彼此間隔開之連續片材之間的間隔之總和。為方便描述，將基於預定傳輸長度I是基於片材之長度而經設定為1200毫米之假設進行描述。
此外，作為關於垂直軋輥150之位置的例示性實施例，將基於垂直軋輥150之旋轉中心C5的位置需要安置在鄰近於與位置O間隔8000毫米的位置之假設進行描述，其中縫隙線基於沿光學膜OF之傳輸路徑延伸之光學膜OF的長度形成於光學膜OF中。此外，假定自光學膜OF中形成縫隙線的位置O至光學膜OF與傳輸方向改變軋輥130之間的接觸終止之位置T1的光學膜OF之長度L2為5500毫米。
因為根據條件表式7，q為6，所以垂直軋輥150之位置可經設定使得垂直軋輥150之旋轉中心C5與光學膜OF與傳輸方向改變軋輥130之間的接觸終止之位置T1之間的垂直距離V大於1700毫米(=1200*6-5500毫米)且小於2900毫米(=1200 *(6+1)-5500毫米)。
因此，即使在以預定傳輸長度傳輸其中藉由切割單元200形成縫隙線的光學膜OF之後停止光學膜OF之傳輸，光學膜OF中之縫隙線可不位於垂直軋輥150上。
因此，按照根據本發明之用以製造顯示單元的系統，可防止先前技術中之問題，所述問題在於，隨著由於縫隙線緊靠垂直軋輥而將拉力施加至光學膜，在光學膜停止時，由於在垂直軋輥緊靠離型膜時偏光膜的片材之端部分與離型膜分離，外來物質附接至與離型膜分離之偏光膜的黏合層，離型膜的部分破損或破裂，或 由於在垂直軋輥緊靠偏光膜時按壓偏光膜之片材的端部分，偏光膜之片材的端部分變形，因此光學膜變形。
在垂直軋輥150與經傳輸之光學膜OF線對線接觸之第一實例中，垂直軋輥150可位於進一步滿足以下條件表式之位置處。
<條件表式8>I*(q+0.3)-L2<V<I*(q+0.7)-L2
此處，I為光學膜OF之預定傳輸長度，q為等於或大於0之整數，L2為自光學膜OF中形成縫隙線之位置O至光學膜OF與傳輸方向改變軋輥130之間的接觸終止之位置T1的光學膜OF之長度，且V為垂直軋輥150之旋轉中心C3與光學膜OF與傳輸方向改變軋輥130之間的接觸終止之位置T1之間的垂直距離。
因此，根據條件表式8，垂直軋輥150之位置可經設定使得垂直軋輥150之旋轉中心C5與光學膜OF與傳輸方向改變軋輥130之間的接觸終止之位置T1之間的垂直距離V等於或大於2060毫米(=1200*(6+0.3)-5500毫米)或小於2540毫米(=1200*(6+0.7)-5500毫米)。因此，即使在以預定傳輸長度反覆地傳輸其中藉由切割單元200形成縫隙線的光學膜OF之後停止光學膜OF之傳輸，光學膜OF中之縫隙線可經安置以與垂直軋輥150充分間隔開。
垂直軋輥150之位置可經最特別地設定，使得垂直軋輥150之旋轉中心C5與光學膜OF與傳輸方向改變軋輥130之間的接觸終止之位置T1之間的垂直距離V為I*(q+0.5)-L2。亦即，在垂直軋輥150之旋轉中心C5位於垂直軋輥150與光學膜OF在連續縫隙線之間的中間點處彼此緊靠的位置處的情況下，會最小化施加至位於接觸點之兩側處的縫隙線兩者之拉力，且因此，可使光學膜之 變形問題最小化。
同時垂直軋輥150可位於滿足第二實例中之以下條件表式的位置處，其中藉由傳輸方向改變軋輥130對光學膜OF之傳輸方向進行垂直改變後的方向為第一方向，且垂直軋輥150與沿所述第一方向傳輸之光學膜OF面對面接觸且將光學膜OF之傳輸方向改變為與如圖4中所說明之第一方向相反的第二方向。
<條件表式9>L3>I*r
<條件表式10>L4<I*(r+1)
此處，I為預定傳輸長度，r為等於或大於0之整數，L3為自光學膜OF中形成縫隙線之位置O至光學膜OF與垂直軋輥150開始彼此接觸之位置S2的光學膜OF之長度，且L4為自光學膜OF中形成縫隙線之位置O至光學膜OF與垂直軋輥150之間的接觸終止之位置T2的光學膜OF之長度。
在下文中，作為關於垂直軋輥150之位置的第二實例，將基於垂直軋輥150之旋轉中心C5的位置需要安置在鄰近於與位置O間隔8000毫米之位置的組態進行描述，其中縫隙線基於沿光學膜OF之傳輸路徑延伸之光學膜OF的長度形成於光學膜OF中。
因為根據條件表式9，r為6，垂直軋輥150之位置可經設定使得自光學膜OF中形成縫隙線之位置O至光學膜OF與垂直軋輥150開始彼此接觸之位置S2的光學膜OF之長度L3大於7200毫米(=1200*6毫米)，且根據條件表式10，自光學膜OF中形成縫隙線之位置O至光學膜OF與垂直軋輥150之間的接觸終止之位置T2的 光學膜OF之長度L4小於8400毫米(=1200*(6+1)毫米)。
此處，(自形成縫隙線的位置O至光學膜OF與垂直軋輥150開始彼此接觸的位置S2的)光學膜OF之長度L3等於(自形成縫隙線的位置O至光學膜OF與傳輸方向改變軋輥130之間的接觸終止之位置T1的)光學膜OF之長度L2與(垂直軋輥150之旋轉中心C5與光學膜OF與傳輸方向改變軋輥130之間的接觸終止之位置T1之間的)垂直距離的總和。
此外，(自光學膜OF中形成縫隙線的位置O至光學膜OF與垂直軋輥150之間的接觸終止之位置T2的)光學膜OF之長度L4等於(自形成縫隙線的位置O至光學膜OF與垂直軋輥150開始彼此接觸之位置S2的)光學膜OF之長度L3與(光學膜OF與傳輸方向改變軋輥130彼此接觸之區域中的)光學膜OF之長度(亦即，垂直軋輥150之環狀截面中之弧形的一半的長度(π*R，其中R為垂直軋輥150之半徑))的總和。
(L4=L3+π*R)
因此，即使在以預定傳輸長度傳輸其中藉由切割單元200形成縫隙線的光學膜OF之後停止光學膜OF之傳輸，光學膜OF中之縫隙線可不位於垂直軋輥150上。
因此，根據根據本發明之用以製造顯示單元的系統，可防止先前技術中之問題，所述問題在於，隨著由於縫隙線緊靠將光學膜之傳輸方向改變為垂直方向之垂直軋輥而將拉力施加至光學膜，當光學膜停止時，由於在垂直軋輥緊靠離型膜時偏光膜之片材的端部分與離型膜分離，外來物質附接至與離型膜分離之偏光膜的黏合層，離型膜之部分破損或破裂，或由於在垂直軋輥緊靠偏光 膜時按壓偏光膜之片材的端部分，偏光膜之片材的端部分變形，因此光學膜變形。
垂直軋輥150可位於滿足以下條件表式之位置處。
此處，I為預定傳輸長度，r為等於或大於0之整數，L3為自光學膜OF中形成縫隙線之位置O至光學膜OF與垂直軋輥150開始彼此接觸之位置S2的光學膜OF之長度，且L4為自光學膜OF中形成縫隙線之位置O至光學膜OF與垂直軋輥150之間的接觸終止之位置T2的光學膜OF之長度。
因此，垂直軋輥150之位置可經設定使得根據條件表式11，自光學膜OF中形成縫隙線之位置O至光學膜OF與垂直軋輥150開始彼此接觸之位置S2的光學膜OF之長度L3等於或大於7560毫米(=1200*(6+0.3)毫米)，且根據條件表式12，自光學膜OF中形成縫隙線之位置O至光學膜OF與垂直軋輥150之間的接觸終止之位置T2的光學膜OF之長度L4小於8040毫米(=1200*(6+0.7)毫米)。
因此，即使在以預定傳輸長度反覆地傳輸其中藉由切割單元200形成縫隙線的光學膜OF之後停止光學膜OF之傳輸，光學膜OF之縫隙線可經安置以與光學膜OF與垂直軋輥150之間的接觸區域充分間隔開。
將瞭解，上文描述的本發明之例示性實施例出於說明的目的，且本領域的技術人員可容易地以其他特定形式修改本發明 而不需改變本發明之技術精神或基本特徵。因此，應理解上述例示性實施例在所有態樣中為例示性且並不限制本發明。舉例而言，經描述屬於單一類型的每一組件可以分散方式實施。同樣地，經描述為分散的組件可以組合方式實施。
本發明之範疇由下文待述之申請專利範圍而非實施方式表示，且應解釋為申請專利範圍之含義及範疇及源自其等效概念之所有變化或修改形式均屬於本發明之範疇內。

Claims (8)

  1. 一種用以製造顯示單元之系統，所述系統包括：傳輸單元，以預定傳輸長度反覆地傳輸光學膜且反覆地停止所述光學膜之傳輸，偏光膜、黏合層以及可分離地附接至所述黏合層的離型膜層壓在所述光學膜上；切割單元，在預定切割位置處沿寬度方向切割所述光學膜而不切割所述離型膜以便在所述光學膜中形成縫隙線，以形成所述偏光膜的片材；分離單元，將所述離型膜與所述偏光膜分離；以及附接單元，將與所述離型膜分離之所述偏光膜附接至面板，其中所述傳輸單元包含水平軋輥，所述水平軋輥安置於傳輸方向之下游側處以便與所述切割位置間隔開且水平地傳輸所述光學膜，且所述水平軋輥滿足以下條件表式，使得所述切割單元在切割所述光學膜時而停止所述光學膜之所述傳輸時，已完成的所述縫隙線不會位於所述水平軋輥上，以避免所述偏光膜的所述片材之端部分與所述離型膜分離：<條件表式1>I*n<H<I*(n+1)其中I為所述預定傳輸長度，n為等於或大於0之整數，且H為所述水平軋輥之旋轉中心與所述切割位置之間的水平距離。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之用以製造顯示單元之系統，其中所述水平軋輥滿足以下條件表式：其中I為所述預定傳輸長度，n為等於或大於0之整數，且H為所述水平軋輥之所述旋轉中心與所述切割位置之間的所述水平距離。
  3. 一種用以製造顯示單元之系統，所述系統包括：傳輸單元，以預定傳輸長度反覆地傳輸光學膜且反覆地停止所述光學膜之傳輸，偏光膜、黏合層以及可分離地附接至所述黏合層的離型膜層壓在所述光學膜上；切割單元，在預定切割位置處沿寬度方向切割所述光學膜而不切割所述離型膜以便在所述光學膜中形成縫隙線，以形成所述偏光膜的片材；分離單元，將所述偏光膜與所述離型膜分離；以及附接單元，將與所述離型膜分離之所述偏光膜附接至面板，其中所述傳輸單元包含傳輸方向改變軋輥，所述傳輸方向改變軋輥安置於傳輸方向之下游側處以便與所述切割位置間隔開且改變所述光學膜之所述傳輸方向，且所述傳輸方向改變軋輥滿足以下條件表式，使得所述切割單元在切割所述光學膜時而停止所述光學膜之所述傳輸時，已完成的所述縫隙線不會位於所述傳輸方向改變軋輥上，以避免所述偏光膜的所述片材之端部分與所述離型膜分離：<條件表式3及4>L1>I*m L2<I*(m+1)其中I為所述預定傳輸長度，m為等於或大於0之整數，L1為自所述光學膜中形成所述縫隙線之位置至所述光學膜與所述傳輸方向改變軋輥開始彼此接觸之位置的所述光學膜之長度，且L2為自所述光學膜中形成所述縫隙線之所述位置至所述光學膜與所述傳輸方向改變軋輥之間的所述接觸終止之位置的所述光學膜之長度。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之用以製造顯示單元之系統，其中所述傳輸方向改變軋輥滿足以下條件表式：其中I為所述預定傳輸長度，m為等於或大於0之整數，L1為自所述光學膜中形成所述縫隙線之所述位置至所述光學膜與所述傳輸方向改變軋輥開始彼此接觸之所述位置的所述光學膜之所述長度，且L2為自所述光學膜中形成所述縫隙線之所述位置至所述光學膜與所述傳輸方向改變軋輥之間的所述接觸終止之所述位置的所述光學膜之所述長度。
  5. 一種用以製造顯示單元之系統，所述系統包括：傳輸單元，以預定傳輸長度反覆地傳輸光學膜且反覆地停止所述光學膜之傳輸，偏光膜、黏合層以及可分離地附接至所述黏合層的離型膜層壓在所述光學膜上；切割單元，在預定切割位置處沿寬度方向切割所述光學膜而不切割所述離型膜以便在所述光學膜中形成縫隙線，以形成所述偏光膜的片材；分離單元，將所述偏光膜與所述離型膜分離；以及附接單元，將與所述離型膜分離之所述偏光膜附接至面板，其中所述傳輸單元包含傳輸方向改變軋輥及垂直軋輥，所述傳輸方向改變軋輥安置於傳輸方向之下游側處以便與所述切割位置間隔開且將所述光學膜之所述傳輸方向改變為垂直方向，所述垂直軋輥支撐所述光學膜同時與所述傳輸方向經改變為所述垂直方向的所述光學膜接觸，且所述垂直軋輥滿足以下條件表式，使得所述切割單元在切割所述光學膜時而停止所述光學膜之所述傳輸時，已完成的所述縫隙線不會位於所述垂直軋輥上，以避免所述偏光膜的所述片材之端部分與所述離型膜分離：<條件表式7>I*q-L2<V<I*(q+1)-L2其中I為所述預定傳輸長度，q為等於或大於0之整數，L2為自所述光學膜中形成所述縫隙線之位置至所述光學膜與所述傳輸方向改變軋輥之間的所述接觸終止之位置的所述光學膜之長度，且V為所述垂直軋輥之旋轉中心與所述光學膜與所述傳輸方向改變軋輥之間的所述接觸終止之所述位置之間的垂直距離。
  6. 如申請專利範圍第5項所述之用以製造顯示單元之系統，其中所述垂直軋輥滿足以下條件表式：其中I為所述預定傳輸長度，q為等於或大於0之整數，L2為自在所述光學膜中形成所述縫隙線之所述位置至所述光學膜與所述傳輸方向改變軋輥之間的所述接觸終止之所述位置的所述光學膜之所述長度，且V為所述垂直軋輥之所述旋轉中心與所述光學膜與所述傳輸方向改變軋輥之間的所述接觸終止之所述位置之間的所述垂直距離。
  7. 如申請專利範圍第5項所述之用以製造顯示單元之系統，其中所述傳輸方向改變軋輥將所述光學膜之所述傳輸方向垂直地改變為第一方向，且所述垂直軋輥將沿所述第一方向傳輸之所述光學膜的所述傳輸方向改變為與所述第一方向相反的第二方向且滿足以下條性表式：<條件表式9及10>L3>I*r L4<I*(r+1)其中I為所述預定傳輸長度，r為等於或大於0之整數，L3為自所述光學膜中形成所述縫隙線的所述位置至所述光學膜與所述垂直軋輥開始彼此接觸之位置的所述光學膜之長度，且L4為自所述光學膜中形成所述縫隙線的所述位置至所述光學膜與所述垂直軋輥之間的所述接觸終止之位置的所述光學膜之長度。
  8. 如申請專利範圍第7項所述之用以製造顯示單元之系統，其中所述垂直軋輥滿足以下條件表式：其中I為所述預定傳輸長度，r為等於或大於0之整數，L3為自所述光學膜中形成所述縫隙線的所述位置至所述光學膜與所述垂直軋輥開始彼此接觸之所述位置的所述光學膜之所述長度，且L4為自所述光學膜中形成所述縫隙線的所述位置至所述光學膜與所述垂直軋輥之間的所述接觸終止之所述位置的所述光學膜之所述長度。
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