KR20180018760A - 광학 적층체의 제조 방법 - Google Patents

광학 적층체의 제조 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20180018760A
KR20180018760A KR1020187001348A KR20187001348A KR20180018760A KR 20180018760 A KR20180018760 A KR 20180018760A KR 1020187001348 A KR1020187001348 A KR 1020187001348A KR 20187001348 A KR20187001348 A KR 20187001348A KR 20180018760 A KR20180018760 A KR 20180018760A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
thin glass
adhesive
optical
optical film
resin
Prior art date
Application number
KR1020187001348A
Other languages
English (en)
Inventor
준이치 이나가키
다케시 무라시게
가즈히토 호소카와
Original Assignee
닛토덴코 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 닛토덴코 가부시키가이샤 filed Critical 닛토덴코 가부시키가이샤
Publication of KR20180018760A publication Critical patent/KR20180018760A/ko

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B37/00—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
    • B32B37/12—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by using adhesives
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B17/00—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres
    • B32B17/06—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B17/00—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres
    • B32B17/06—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material
    • B32B17/10—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/06—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B27/08—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/04—Interconnection of layers
    • B32B7/12—Interconnection of layers using interposed adhesives or interposed materials with bonding properties
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B37/00—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
    • B32B37/12—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by using adhesives
    • B32B2037/1253—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by using adhesives curable adhesive
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/40—Properties of the layers or laminate having particular optical properties
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2551/00—Optical elements
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B17/00—Forming molten glass by flowing-out, pushing-out, extruding or drawing downwardly or laterally from forming slits or by overflowing over lips
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B17/00—Forming molten glass by flowing-out, pushing-out, extruding or drawing downwardly or laterally from forming slits or by overflowing over lips
    • C03B17/06—Forming glass sheets
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B35/00—Transporting of glass products during their manufacture, e.g. hot glass lenses, prisms
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00—Electroluminescent light sources
    • H05B33/02—Details
    • H05B33/04—Sealing arrangements, e.g. against humidity

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Joining Of Glass To Other Materials (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

얇은 유리를 사용하면서도, 제조 효율이 우수한 광학 적층체의 제조 방법을 제공한다. 광학 적층체의 제조 방법은, 두께가 100 ㎛ 이하인 얇은 유리를 제조하는 얇은 유리 제조 공정과, 그 얇은 유리의 편면 또는 양면에 광학 필름을 적층하는 적층 공정을 포함하고, 그 얇은 유리 제조 공정과, 그 적층 공정이 일관 라인에서 실시되고, 그 적층 공정에 있어서, 그 광학 필름에 접착제를 도공하여 도공층을 형성하고, 그 도공층을 통해서 그 얇은 유리와 그 광학 필름을 첩합하고, 그 후, 그 접착제를 경화시켜, 광학 필름과 얇은 유리의 사이에 접착제층을 형성시킨다.

Description

광학 적층체의 제조 방법
본 발명은 광학 적층체의 제조 방법에 관한 것이다.
종래, 화상 표시 장치를 구성하는 부재, 예를 들어, 표시 소자의 기판, 유기 EL 소자의 봉지재 (封止材), 전면 (全面) 보호판 등에, 유리재와 광학 필름으로 구성되는 광학 적층체가 사용되고 있다. 통상적으로, 이와 같은 광학 적층체는, 유리재를 제조한 후, 그 유리재에 접착제를 통해서 광학 필름을 첩착 (貼着) 하거나, 혹은, 그 유리재에 광학 필름의 재료가 되는 도공액을 도공하여 제조된다. 유리재가, 가요성을 나타낼 정도로 얇은 경우에는, 유리재는 롤상으로 제조되고, 롤로부터 내보내진 유리에 대하여, 상기 첩착 또는 도공이 실시된다.
한편, 최근, 화상 표시 장치의 경량 박형화가 진행되고 있으며, 보다 얇은 유리재를 사용하는 것이 요구되고 있다. 원래, 유리재는 그 취약성에서 기인하여 핸들링성이 나쁜 바, 박형화에 수반하여, 재료로서 사용하는 유리재의 핸들링성의 문제는 현저해져, 제조 효율의 악화를 초래하고 있다.
일본 특허공보 제4122139호
본 발명은 상기 종래의 과제를 해결하기 위해서 이루어진 것이며, 그 목적으로 하는 바는, 얇은 유리를 사용하면서도, 제조 효율이 우수한 광학 적층체의 제조 방법을 제공하는 것에 있다.
광학 적층체의 제조 방법은, 두께가 100 ㎛ 이하인 얇은 유리를 제조하는 얇은 유리 제조 공정과, 그 얇은 유리의 편면 또는 양면에 광학 필름을 적층하는 적층 공정을 포함하고, 그 얇은 유리 제조 공정과, 그 적층 공정이 일관 라인에서 실시되고, 그 적층 공정에 있어서, 그 광학 필름에 접착제를 도공하여 도공층을 형성하고, 그 도공층을 통해서 그 얇은 유리와 그 광학 필름을 첩합 (貼合) 하고, 그 후, 그 접착제를 경화시켜, 광학 필름과 얇은 유리의 사이에 접착제층을 형성시킨다.
하나의 실시형태에 있어서는, 상기 광학 필름의 23 ℃ 에 있어서의 탄성률이, 1.5 ㎬ ∼ 10 ㎬ 이다.
하나의 실시형태에 있어서는, 상기 접착제층의 두께가, 0.001 ㎛ ∼ 20 ㎛ 이다.
하나의 실시형태에 있어서는, 상기 접착제를 도공하여 형성된 도공층의 경화 수축률이, 0.1 ％ ∼ 30 ％ 이다.
본 발명에 의하면, 얇은 유리 제조 공정과, 얇은 유리에 광학 필름을 적층하는 공정을 일관 라인에서 실시함으로써, 얇은 유리를 사용하면서도, 제조 효율이 우수한 광학 적층체의 제조 방법을 제공할 수 있다.
도 1 은, 본 발명의 하나의 실시형태에 의한 광학 적층체의 제조 방법을 설명하는 도면이다.
도 1 은, 본 발명의 하나의 실시형태에 의한 광학 적층체의 제조 방법을 설명하는 도면이다. 또한, 보기 쉽게 하기 위해서, 도 1 은 모식화되어 있고, 축척은 정확하게 기재되지 않은 것에 유의하기 바란다. 이 실시형태에 있어서의 광학 적층체의 제조 방법은, (a) 얇은 유리 (10) 를 제조하는 공정 (이하, 얇은 유리 제조 공정이라고도 한다) 과, (b) 얇은 유리 (10) 에 광학 필름 (20, 20') 을 적층하는 공정 (이하, 적층 공정이라고도 한다) 을 포함한다. 본 발명의 광학 적층체에 있어서는, 얇은 유리 제조 공정과 적층 공정이 일관 라인에서 실시된다. 보다 구체적으로는, 얇은 유리 제조 공정에서 연속적으로 형성된 얇은 유리가, 권취되는 일 없이, 그대로 적층 공정에 제공된다.
A. 얇은 유리 제조 공정
상기 얇은 유리 (10) 의 제조 방법은, 임의의 적절한 방법이 채용될 수 있다. 대표적으로는, 상기 얇은 유리 (10) 는, 실리카나 알루미나 등의 주원료와, 망초 (芒硝) 나 산화안티몬 등의 소포제와, 카본 등의 환원제를 포함하는 혼합물을, 1400 ℃ ∼ 1600 ℃ 의 온도에서 용융하고, 박판상으로 성형한 후, 냉각시켜 제조된다. 상기 얇은 유리 (10) 의 박판 성형 방법으로는, 예를 들어, 슬롯 다운드로법, 퓨전법, 플로트법 등을 들 수 있다. 이들 방법에 의해 판상으로 성형된 얇은 유리는, 박판화하거나, 평활성을 높이거나 하기 위해서, 필요에 따라, 불산 등의 용제에 의해 화학 연마되어도 된다.
얇은 유리 제조 공정에 있어서의 라인 속도는, 바람직하게는 1 m/분 이상이고, 보다 바람직하게는 5 m/분 이상이고, 더욱 바람직하게는 10 m/분 이상이고, 특히 바람직하게는 15 m/분 이상이고, 가장 바람직하게는 20 m/분 이상이다. 당해 라인 속도의 상한은, 바람직하게는 100 m/분 이하이고, 보다 바람직하게는 60 m/분 이하이다. 또한, 본 발명에 있어서는, 얇은 유리 제조 공정과 적층 공정이 일관 라인에서 실시되기 때문에, 얇은 유리 제조 공정에 있어서의 라인 속도와 적층 공정에 있어서의 라인 속도는 동일한 속도이며, 또, 당해 속도는, 일관 라인의 라인 속도이기도 하다.
상기 얇은 유리 (10) 의 두께는 100 ㎛ 이하이고, 바람직하게는 80 ㎛ 이하이고, 보다 바람직하게는 50 ㎛ 이하이고, 더욱 바람직하게는 40 ㎛ 이하이고, 특히 바람직하게는 10 ㎛ ∼ 35 ㎛ 이다. 본 발명에 있어서는, 매우 얇은 유리를 사용해도, 그 유리의 파손이 방지되어, 제조 효율 좋게 광학 적층체를 얻을 수 있다.
상기 얇은 유리 (10) 의 폭은, 바람직하게는 500 ㎜ ∼ 2000 ㎜ 이고, 더욱 바람직하게는 750 ㎜ ∼ 1500 ㎜ 이다.
상기 얇은 유리 (10) 의 파장 550 ㎚ 에 있어서의 광 투과율은, 바람직하게는 85 ％ 이상이다. 상기 얇은 유리 (10) 의 파장 550 ㎚ 에 있어서의 굴절률 ng 는, 바람직하게는 1.4 ∼ 1.65 이다.
상기 얇은 유리 (10) 의 밀도는, 바람직하게는 2.3 g/㎤ ∼ 3.0 g/㎤ 이고, 더욱 바람직하게는 2.3 g/㎤ ∼ 2.7 g/㎤ 이다. 상기 범위이면, 경량의 광학 적층체가 얻어진다.
상기 얇은 유리 (10) 는, 장척상 (長尺狀) 인 것이 바람직하다. 얇은 유리 (10) 의 길이는, 예를 들어, 10 m ∼ 5000 m 이고, 바람직하게는 50 m ∼ 5000 m 이다.
얇은 유리 제조 공정에 있어서, 소정의 두께 및 소정의 폭으로 형성된 얇은 유리 (10) 는, 그 공정에서 권취되는 일 없이, 임의의 적절한 반송 방법에 의해, 다음 공정인 적층 공정으로 보내진다. 반송 방법으로는, 롤 반송, 벨트 반송 등을 들 수 있다.
B. 적층 공정
적층 공정에 있어서는, 상기 얇은 유리의 편면 또는 양면에 광학 필름을 적층한다. 하나의 실시형태에 있어서는, 도시 예와 같이, 얇은 유리 (10) 의 양면에 광학 필름 (20, 20') 이 적층된다. 또, 다른 실시형태에 있어서는, 얇은 유리의 일방의 면에 광학 필름이 적층되고, 타방의 면에는 수지 필름이 적층된다. 수지 필름은, 주로 얇은 유리를 보호하는 보호 필름으로서의 기능을 갖는다. 또한, 또 다른 실시형태에 있어서는, 얇은 유리의 일방의 면에 광학 필름이 적층되고, 얇은 유리와 1 매의 광학 필름을 구비하는 광학 적층체가 제조된다.
상기 광학 필름 (20, 20') 으로는, 예를 들어, 편광판, 위상차판, 등방성 필름 등을 들 수 있다.
상기 광학 필름 (20, 20') 을 구성하는 재료로는, 임의의 적절한 재료가 사용된다. 상기 광학 필름 (20, 20') 을 구성하는 재료로는, 예를 들어, 폴리비닐알코올 (PVA) 계 수지, 폴리올레핀계 수지, 고리형 올레핀계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 셀룰로오스계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리비닐알코올계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리이미드계 수지, 폴리에테르계 수지, 폴리스티렌계 수지, (메트)아크릴계 수지, (메트)아크릴우레탄계 수지, 폴리술폰계 수지, 아세테이트계 수지, 에폭시계 수지, 실리콘계 수지 등을 들 수 있다. 또, 광학 필름 (20, 20') 으로서, 금속 필름, ITO 필름 등의 산화 금속 필름, 금속 필름과 수지 필름의 적층 필름을 사용해도 된다.
상기 수지 필름을 구성하는 재료로는, 임의의 적절한 재료가 사용된다. 상기 수지 필름을 구성하는 재료로서, 열가소성 수지가 바람직하게 사용된다. 그 수지로는, 예를 들어, 폴리에테르술폰계 수지；폴리카보네이트계 수지；아크릴계 수지；폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지, 폴리에틸렌나프탈레이트계 수지 등의 폴리에스테르계 수지；폴리올레핀계 수지；노르보르넨계 수지 등의 시클로올레핀계 수지；폴리이미드계 수지；폴리아미드계 수지；폴리이미드아미드계 수지；폴리아릴레이트계 수지；폴리술폰계 수지；폴리에테르이미드계 수지 등을 들 수 있다. 또, 에폭시계 수지, 우레탄계 수지, 실리콘계 수지 등의 가교성의 수지를 사용해도 된다.
상기 광학 필름 (20, 20') 및 수지 필름의 23 ℃ 에 있어서의 탄성률은, 바람직하게는 1.5 ㎬ ∼ 10 ㎬ 이고, 보다 바람직하게는 1.8 ㎬ ∼ 9 ㎬ 이고, 더욱 바람직하게는 1.8 ㎬ ∼ 8 ㎬ 이다. 이와 같은 범위이면, 얇은 유리를 보호하는 효과가 높고, 제조 효율이 우수한 광학 적층체의 제조 방법을 제공할 수 있다. 또한, 본 발명에 있어서의 탄성률은, 동적 점탄성 스펙트럼 측정에 의해 측정할 수 있다.
상기 광학 필름 (20, 20') 의 두께는, 그 광학 필름의 용도에 따라, 임의의 적절한 두께로 설정될 수 있다. 광학 필름 (20, 20') 의 두께는, 예를 들어, 1 ㎛ ∼ 300 ㎛ 이고, 바람직하게는 5 ㎛ ∼ 200 ㎛ 이다. 상기 수지 필름 (20, 20') 의 두께는, 바람직하게는 1 ㎛ ∼ 60 ㎛, 보다 바람직하게는 10 ㎛ ∼ 50 ㎛ 이고, 더욱 바람직하게는 20 ㎛ ∼ 40 ㎛ 이다.
상기 광학 필름 (20, 20') 및 수지 필름의 폭은, 바람직하게는 300 ㎜ ∼ 2200 ㎜ 이고, 보다 바람직하게는 500 ㎜ ∼ 2000 ㎜ 이고, 더욱 바람직하게는 750 ㎜ ∼ 1500 ㎜ 이다. 얇은 유리 (10) 의 양면에 필름이 배치되는 경우, 양 필름의 폭은 동일해도 되고, 상이해도 된다.
하나의 실시형태에 있어서는, 상기 광학 필름 (20, 20') 및 수지 필름의 폭은, 상기 얇은 유리의 폭보다 좁다. 광학 필름 (20, 20') 및 수지 필름의 폭을 얇은 유리의 폭보다 좁게 하면, 적층 공정 후, 얇은 유리의 폭 방향 단부 (端部) 를 에지 검출하여, 얇은 유리의 사행 (斜行) 및 사행 (蛇行) 을 교정 (矯正) 할 수 있다. 그 결과, 권취시에 있어서, 얇은 유리의 파손이 방지된다. 또, 다른 실시형태에 있어서는, 상기 광학 필름 (20, 20') 및 수지 필름의 폭은, 상기 얇은 유리 (10) 의 폭보다 넓다. 광학 필름 (20, 20') 및 수지 필름의 폭을 얇은 유리 (10) 의 폭보다 넓게 하면, 얇은 유리 (10) 의 단부가 보호되어, 공정 도중에서의 파손을 방지할 수 있다.
상기 광학 필름 (20, 20') 및 수지 필름은, 장척상인 것이 바람직하고, 장척상의 얇은 유리 (10) 에 대하여, 연속적으로, 이들 필름의 적층이 실시될 수 있다. 또, 상기 광학 필름 (20, 20') 및 수지 필름의 길이는, 얇은 유리 (10) 의 길이와 동일해도 되고, 상이해도 된다. 또, 얇은 유리 (10) 의 양면에 필름이 배치되는 경우, 양 필름의 길이는 동일해도 되고, 상이해도 된다.
본 발명에 있어서, 상기 광학 필름 (20, 20') 은, 접착제층 (31) 을 통해서 얇은 유리에 적층된다. 보다 상세하게는, 적층 공정에 있어서, 상기 광학 필름 (20, 20') 에 접착제를 도공하여 도공층 (30) 을 형성한 후, 도공층 (30) 을 통해서 얇은 유리 (10) 와 광학 필름 (20, 20') 을 첩합하고, 그 후, 접착제를 경화시킨다. 접착제 (즉, 도공층 (30)) 를 경화시킴으로써, 접착제층 (31) 이 형성된다. 본 발명에 있어서는, 얇은 유리 제조 공정과 적층 공정이 일관 라인에서 실시되기 때문에, 얇은 유리 제조 공정 및 적층 공정의 라인 속도가 동일한 속도가 된다. 또, 통상적으로, 유리 제조의 라인 속도는, 제조하는 유리가 얇을수록 빨라진다. 본 발명에 있어서는, 얇은 유리 제조 공정에서 제조되는 얇은 유리가 매우 얇기 때문에, 일관 라인 전체의 라인 속도가 빨라지고, 적층 공정의 라인 속도도 빨라진다. 이와 같은 구성의 제조 방법에 있어서는, 상기와 같이, 접착제의 도공층을 형성한 후에 얇은 유리와 광학 필름을 첩합하고, 접착제의 경화에 의해 접착제층을 형성함으로써, 접착 불량 등의 문제를 방지할 수 있고, 또, 라인 길이를 짧게 할 수 있다.
상기 접착제로는, 임의의 적절한 접착제가 사용된다. 상기 접착제로는, 예를 들어, 에폭시기, 글리시딜기, 옥세타닐기 등의 고리형 에테르기를 갖는 수지, 아크릴계 수지, 실리콘계 수지 등을 포함하는 접착제를 들 수 있다. 바람직하게는, 자외선 경화형의 접착제가 사용된다. 얇은 유리 (10) 의 양면에 필름이 배치되는 경우, 얇은 유리 (10) 의 양면에 도공되는 접착제는, 동종이어도 되고 이종이어도 된다.
상기 접착제의 도공 방법으로는, 에어 닥터 코팅, 블레이드 코팅, 나이프 코팅, 리버스 코팅, 트랜스퍼 롤 코팅, 그라비아 롤 코팅, 키스 코팅, 캐스트 코팅, 스프레이 코팅, 슬롯 오리피스 코팅, 캘린더 코팅, 전착 코팅, 딥 코팅, 다이 코팅 등의 코팅법；플렉소 인쇄 등의 볼록판 인쇄법, 다이렉트 그라비아 인쇄법, 오프셋 그라비아 인쇄법 등의 오목판 인쇄법, 오프셋 인쇄법 등의 평판 인쇄법, 스크린 인쇄법 등의 공판 (孔版) 인쇄법 등의 인쇄법을 들 수 있다.
상기 접착제의 도공층 (30) 의 두께는, 바람직하게는 0.001 ㎛ ∼ 20 ㎛ 이고, 보다 바람직하게는 0.005 ㎛ ∼ 20 ㎛ 이고, 더욱 바람직하게는 0.01 ㎛ ∼ 10 ㎛ 이고, 특히 바람직하게는 0.1 ㎛ ∼ 10 ㎛ 이다. 얇은 유리 (10) 의 양면에 필름이 배치되는 경우, 얇은 유리 (10) 의 양면에 형성되는 도공층의 두께는, 동일해도 되고 상이해도 된다.
하나의 실시형태에 있어서는, 상기 광학 필름 (20, 20') 에 접착제를 도공하여 도공층을 형성한 후, 소정의 간격을 두고, 얇은 유리 (10) 와 광학 필름 (20, 20') 을 첩합한다.
상기 광학 필름 (20, 20') 에 접착제를 도공하여 도공층 (30) 을 형성한 후, 얇은 유리 (10) 와 광학 필름 (20, 20') 을 첩합하기 전에, 접착제를 반경화시켜도 된다.
얇은 유리 (10) 와 광학 필름 (20, 20') 을 첩합하는 방법으로는, 임의의 적절한 방법이 채용될 수 있다. 얇은 유리 (10) 의 양면에 광학 필름 (20, 20') 을 적층하는 경우, 동일한 타이밍으로 2 매의 광학 필름 (20, 20') 을 적층해도 되고, 상이한 타이밍으로 2 매의 광학 필름 (20, 20') 을 적층해도 된다.
하나의 실시형태에 있어서는, 1 쌍의 롤간에, 얇은 유리 (10) 와 접착제의 도공층 (30) 이 형성된 광학 필름 (20, 20') 을 주행시켜, 얇은 유리 (10) 와 광학 필름 (20, 20') 을 첩합한다. 본 발명에 있어서는, 미리 광학 필름 (20, 20') 상에 접착제의 도공층 (30) 을 형성한 후에, 얇은 유리 (10) 와 광학 필름 (20, 20') 을 첩합하기 때분에, 상기 1 쌍의 롤에 의한 압압 (押壓) 을 낮게 할 수 있어, 얇은 유리 (10) 의 파손이 방지된다. 보다 구체적으로는, 롤 갭을 넓게 하거나, 롤의 표면 경도를 부드럽게 설정할 수 있기 때문에, 얇은 유리의 파손이 방지된다. 상기 1 쌍의 롤간의 갭은, 얇은 유리와 접착제의 도공층과 광학 필름의 두께의 합계에 대하여, 바람직하게는 50 ％ ∼ 99 ％ 이고, 보다 바람직하게는 60 ％ ∼ 99 ％ 이고, 더욱 바람직하게는 70 ％ ∼ 99 ％ 이고, 특히 바람직하게는 80 ％ ∼ 99 ％ 이고, 가장 바람직하게는 90 ％ ∼ 98 ％ 이다. 또한, 도시 예와 같이 1 쌍의 롤간에 2 매의 광학 필름을 첩합하는 경우,「얇은 유리와 접착제의 도공층과 광학 필름의 두께의 합계」 란, 얇은 유리와, 접착제의 도공층과, 2 매의 광학 필름의 합계를 의미한다. 또, 첩합에 사용하는 롤의 고무 경도는, 바람직하게는 10 도 ∼ 95 도이고, 보다 바람직하게는 20 도 ∼ 90 도이다. 하나의 실시형태에 있어서는, 첩합에 사용하는 롤의 고무 경도는, 바람직하게는 95 도 이하이고, 보다 바람직하게는 20 도 ∼ 90 도이고, 더욱 바람직하게는 50 도 ∼ 90 도이며, 특히 바람직하게는 50 도 ∼ 80 도이다. 또한, 고무 경도는 JIS K-6253 (A 타입) 에 준하여 측정된다.
또한, 얇은 유리의 양면에 광학 필름을 적층하는 경우, 1 쌍의 롤간에서, 2 매의 광학 필름을 적층해도 되고, 각각 다른 롤간에서 2 매의 광학 필름을 적층해도 된다.
또, 하나의 실시형태에 있어서는, 상기 첩합시, 1 쌍의 롤에 대하여 하방으로부터 얇은 유리를 삽입한다 (즉, 얇은 유리를 하방으로부터 상방을 향하여 주행시킨다). 이와 같이 하면, 공기의 자중 방향 (하방향) 과는 반대 방향으로 상기 롤이 회전하기 때문에, 얇은 유리가 공기를 동반하는 것을 억제하면서, 얇은 유리와 광학 필름을 첩합할 수 있다. 그 결과, 얇은 유리와 광학 필름의 밀착성 불량, 및, 광학 적층체의 외관 불량을 방지할 수 있다. 또, 얇은 유리/광학 필름 사이의 공기 삽입을 방지하기 위해서, 얇은 유리를 파단하지 않을 정도로, 롤에 의한 압압을 높게 하거나, 롤의 경도를 높게 하는 등의 방법을 채용해도 된다.
다른 실시형태에 있어서는, 얇은 유리를 벨트 반송시키면서 첩합 공정에 투입하고, 벨트와 롤 사이에서, 얇은 유리와 접착제의 도공층이 형성된 광학 필름을 주행시켜, 얇은 유리와 광학 필름을 첩합한다. 이와 같은 실시형태에 있어서는, 얇은 유리의 덜걱거림이 억제되기 때문에, 얇은 유리의 파손이 방지된다.
상기 수지 필름을 얇은 유리에 첩합하는 경우에도, 상기에서 설명한 광학 필름과 동일한 방법이 채용될 수 있다.
상기 광학 필름 (20, 20') 을 얇은 유리 (10) 에 첩합한 후, 접착제의 도공층 (30) 을 경화시킨다. 접착제의 경화 방법으로는, 예를 들어, 자외광 조사 및/또는 가열 처리에 의해 경화시키는 방법을 들 수 있다. 자외광 조사의 조사 조건은, 대표적으로는, 조사 적산 광량이 100 mJ/㎠ ∼ 2000 mJ/㎠ 이고, 바람직하게는 200 mJ/㎠ ∼ 1000 mJ/㎠ 이다.
바람직하게는, 자외선 조사에 의해 접착제를 경화시킨다. 자외선 조사에 의해 접착제를 경화시킴으로써, 유리의 박형화 및 라인 속도의 고속화에 대응하기 쉬워진다.
상기 접착제의 도공층의 경화 수축률은, 바람직하게는 0.1 ％ ∼ 30 ％ 이고, 보다 바람직하게는 0.5 ％ ∼ 20 ％ 이다. 「접착제의 도공층의 경화 수축률」 은, 접착제의 도공층을 경화시켜 접착제층을 형성할 때의 체적 변화율이며, {(도공층의 체적 ― 접착제층)/도공층의 체적} 의 식으로 산출된다. 경화 수축률은, 센테크사 제조 경화 수축 센서 「수지 경화 수축 응력 측정 장치 EU201C」 에 의해 측정할 수 있다. 경화 수축률의 측정 방법의 상세한 내용은, 일본 공개특허공보 2013-104869호에 기재되어 있으며, 이 공보는, 본 명세서에 참고로서 원용된다.
하나의 실시형태에 있어서는, 얇은 유리의 양면에 광학 필름을 적층하는 경우, 얇은 유리의 양면에 광학 필름을 첩합한 후에, 접착제를 경화시킨다. 다른 실시형태에 있어서는, 얇은 유리의 일방의 면에 제 1 광학 필름을 첩합한 후, 얇은 유리와 제 1 광학 필름의 사이에 배치시킨 접착제를 경화시키고, 그 후, 얇은 유리의 타방의 면에 제 2 광학 필름을 첩합한 후, 얇은 유리와 제 2 광학 필름의 사이에 배치시킨 접착제를 경화시킨다.
상기 수지 필름을 얇은 유리에 적층하는 경우에도, 상기에서 설명한 바와 같이 접착제를 경화시켜, 얇은 유리와 수지 필름을 적층시킬 수 있다.
상기와 같이 하여 접착제를 경화시킴으로써, 얇은 유리 (10) 와 광학 필름 (20, 20') 의 사이에 접착제층 (31) 이 형성되고, 그 결과, 광학 적층체가 얻어진다.
상기 접착제층 (31) 의 두께는, 바람직하게는 0.001 ㎛ ∼ 20 ㎛ 이고, 보다 바람직하게는 0.01 ㎛ ∼ 10 ㎛ 이다. 이와 같은 두께이면, 투명 기판의 투명성에 대한 영향이 적고, 또한, 고온 고습 상황하에서도, 충분한 접착력을 발현할 수 있다.
본 발명의 제조 방법에 있어서는, 임의의 적절한 타이밍으로, 얇은 유리의 폭 방향 양단부를 슬릿해도 된다. 얇은 유리 제조 공정에 있어서 폭 방향 양단부에 데미지를 받은 얇은 유리의 폭 방향 양단부를, 슬릿하여 배제함으로써, 얇은 유리의 파손을 방지할 수 있다. 하나의 실시형태에 있어서는, 상기 슬릿은, 얇은 유리와 광학 필름을 첩합하기 전에 (즉, 얇은 유리가 단체인 상태에서) 실시된다. 다른 실시형태에 있어서는, 상기 슬릿은, 얇은 유리와 광학 필름을 적층한 후, 후술하는 권취 공정 전에 실시된다.
하나의 실시형태에 있어서는, 상기와 같이 하여 제조된 광학 적층체는, 권취 공정에 제공되고, 권취 공정을 거쳐 롤상으로 권취된 광학 적층체가 얻어지고, 상기 일관 공정이 종료된다. 또, 적층 공정 후, 즉, 광학 적층체를 형성한 후, 그 광학 적층체에 임의의 적절한 처리를 실시한 후, 그 광학 적층체를 권취해도 된다.
산업상 이용가능성
본 발명의 제조 방법으로 얻어지는 광학 적층체는, 표시 소자의 기판, 유기 EL 소자의 봉지재, 전면 보호판 등에 적합하게 사용될 수 있다.
10 : 얇은 유리
20, 20' : 광학 필름
30 : 도공층
31 : 접착제층

Claims (4)

  1. 두께가 100 ㎛ 이하인 얇은 유리를 제조하는 얇은 유리 제조 공정과,
    상기 얇은 유리의 편면 또는 양면에 광학 필름을 적층하는 적층 공정을 포함하고,
    상기 얇은 유리 제조 공정과, 상기 적층 공정이 일관 라인에서 실시되고,
    상기 적층 공정에 있어서,
    상기 광학 필름에 접착제를 도공하여 도공층을 형성하고,
    상기 도공층을 통해서 상기 얇은 유리와 상기 광학 필름을 첩합 (貼合) 하고, 그 후,
    상기 접착제를 경화시켜, 광학 필름과 얇은 유리의 사이에 접착제층을 형성시키는,
    광학 적층체의 제조 방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 광학 필름의 23 ℃ 에 있어서의 탄성률이, 1.5 ㎬ ∼ 10 ㎬ 인, 광학 적층체의 제조 방법.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 접착제층의 두께가, 0.001 ㎛ ∼ 20 ㎛ 인, 광학 적층체의 제조 방법.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 접착제를 도공하여 형성된 도공층의 경화 수축률이, 0.1 ％ ∼ 30 ％ 인, 광학 적층체의 제조 방법.
KR1020187001348A 2015-07-15 2016-07-13 광학 적층체의 제조 방법 KR20180018760A (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015141265A JP6614833B2 (ja) 2015-07-15 2015-07-15 光学積層体の製造方法
JPJP-P-2015-141265 2015-07-15
PCT/JP2016/070638 WO2017010497A1 (ja) 2015-07-15 2016-07-13 光学積層体の製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20180018760A true KR20180018760A (ko) 2018-02-21

Family

ID=57757500

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020187001348A KR20180018760A (ko) 2015-07-15 2016-07-13 광학 적층체의 제조 방법

Country Status (7)

Country Link
US (1) US20180207906A1 (ko)
EP (1) EP3323608B1 (ko)
JP (1) JP6614833B2 (ko)
KR (1) KR20180018760A (ko)
CN (1) CN107848252B (ko)
TW (1) TWI698657B (ko)
WO (1) WO2017010497A1 (ko)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020261876A1 (ja) * 2019-06-27 2020-12-30 日東電工株式会社 積層フィルムの製造方法

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1048628A1 (de) * 1999-04-30 2000-11-02 Schott Glas Polymerbeschichtete Dünnglasfoliensubstrate
JP4326635B2 (ja) * 1999-09-29 2009-09-09 三菱樹脂株式会社 ガラスフィルムの取扱い方法及びガラス積層体
US20040069770A1 (en) * 2002-10-11 2004-04-15 Schott Corporation Glass/metal laminate for appliances
JPWO2007063751A1 (ja) * 2005-11-29 2009-05-07 セイコーインスツル株式会社 表示装置の製造方法、及び貼り合わせ方法
JP5509853B2 (ja) * 2007-10-30 2014-06-04 旭硝子株式会社 ガラス・樹脂複合体の製造方法
JP5742082B2 (ja) * 2011-06-30 2015-07-01 日本電気硝子株式会社 ガラスロールの製造方法
JP4691205B1 (ja) * 2010-09-03 2011-06-01 日東電工株式会社 薄型高機能偏光膜を含む光学フィルム積層体の製造方法
KR101362881B1 (ko) * 2010-12-31 2014-02-14 제일모직주식회사 디스플레이용 광학 점착제 조성물
WO2012108866A1 (en) * 2011-02-10 2012-08-16 Essilor International (Compagnie Generale D'optique) Process of drilling organic glasses using a thermoplastic film protecting against cracking and crazing
TWI547369B (zh) * 2011-05-27 2016-09-01 康寧公司 玻璃塑膠積層之裝置、處理線、及方法
US20150024149A1 (en) * 2012-01-30 2015-01-22 Konica Minolta, Inc. Polarizing plate, method for manufacturing polarizing plate and liquid crystal display device
US20130196163A1 (en) * 2012-01-31 2013-08-01 3M Innovative Properties Company Composite glass laminate and web processing apparatus
JP5781464B2 (ja) * 2012-03-30 2015-09-24 富士フイルム株式会社 塗膜付きフィルムの製造方法
JP5883333B2 (ja) * 2012-04-02 2016-03-15 日東電工株式会社 透明シートおよびその製造方法
CN105392628B (zh) * 2012-10-12 2018-08-03 康宁股份有限公司 具有保留强度的制品
TWI631019B (zh) * 2013-04-19 2018-08-01 美商康寧公司 形成積層玻璃結構之方法
JP6024586B2 (ja) * 2013-04-30 2016-11-16 コニカミノルタ株式会社 偏光機能付きガラスおよびそれを備えた液晶表示装置
JP6209130B2 (ja) * 2013-05-27 2017-10-04 富士フイルム株式会社 光学フィルム、組成物、平面画像表示装置、立体画像表示装置、液晶表示装置、有機ｅｌ表示装置、光学フィルムの製造方法
JP2015147916A (ja) * 2014-02-10 2015-08-20 日本化薬株式会社 タッチパネル用紫外線硬化型接着剤組成物、それを用いた貼り合せ方法及び物品

Also Published As

Publication number Publication date
EP3323608A4 (en) 2019-03-20
WO2017010497A1 (ja) 2017-01-19
JP2017019255A (ja) 2017-01-26
US20180207906A1 (en) 2018-07-26
CN107848252A (zh) 2018-03-27
EP3323608A1 (en) 2018-05-23
CN107848252B (zh) 2020-11-24
TWI698657B (zh) 2020-07-11
TW201730587A (zh) 2017-09-01
JP6614833B2 (ja) 2019-12-04
EP3323608B1 (en) 2024-02-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2014021498A (ja) 表示パネルの製造方法
TW201910884A (zh) 附黏著劑之光學膜之製造方法
US20230405966A1 (en) Glass film-resin composite
KR102074070B1 (ko) 플렉서블 디스플레이 기판의 ocr 합착 방법
JP5679290B2 (ja) フレキシブル基板積層体
KR20180019167A (ko) 광학 적층체의 제조 방법
KR20180018760A (ko) 광학 적층체의 제조 방법
US11691405B2 (en) Layered film production method
JP5679289B2 (ja) フレキシブル基板積層体
WO2020261876A1 (ja) 積層フィルムの製造方法
JP7060845B2 (ja) フレキシブルモールドの製造方法、フレキシブルモールド用の基材、及び光学部品の製造方法
TWI840323B (zh) 玻璃薄膜-樹脂複合物
EP3785901A1 (en) (glass film)-resin complex
KR20240042367A (ko) 장척 적층체
KR20190059301A (ko) 필름 적층체의 제조 방법
JP2013072964A (ja) フレキシブル基板積層体

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application
J201 Request for trial against refusal decision
J301 Trial decision

Free format text: TRIAL NUMBER: 2019101003726; TRIAL DECISION FOR APPEAL AGAINST DECISION TO DECLINE REFUSAL REQUESTED 20191111

Effective date: 20200608