JP5538533B2 - 溶融坩堝から石英ガラスシリンダを引き抜く方法並び装置 - Google Patents

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Description

本発明は、溶融坩堝から石英ガラスシリンダを引き抜く方法であって、溶融坩堝が坩堝内室を有していて、該坩堝内室は坩堝中心軸線の方向で延びていて、側壁と底部とによって画定されており、溶融坩堝にSiO造粒物を供給し、溶融坩堝内において軟化させて粘稠性の石英ガラス材料を形成し、該石英ガラス材料を第1の引抜き装置を用いて、溶融坩堝の底部に設けられた第1の引抜きノズルを通して、シリンダ形の石英ガラスストランドとして、鉛直方向下方に向かって引き抜き、石英ガラスシリンダを裁断によって生ぜしめる形式の方法に関する。
本発明はさらに、石英ガラスシリンダを引き抜く装置であって、SiO造粒物を収容する溶融坩堝が設けられていて、該溶融坩堝が坩堝内室を有していて、該坩堝内室は坩堝中心軸線の方向で延びていて、側壁と底部とによって画定されており、SiO造粒物を軟化させるための加熱装置と、溶融坩堝の底部に設けられた第1の引抜きノズルと、該第1の引抜きノズルを通して石英ガラスストランドを引き抜くための引抜き装置とが設けられている形式のものに関する。
背景技術
垂直形溶融坩堝引抜き法(Vertikal-Tiegelziehverfahren)は、任意の横断面形状を有するロッド、管又はプレートのような、石英ガラスから成るシリンダ形の構成部分を、連続的に製造するために使用される。この場合、ガラス原料としてのSiO造粒物は、溶融坩堝内で溶融されて、比較的に高粘性の石英ガラス材料(以下において、石英ガラス溶融物とも呼ぶ)を形成し、溶融坩堝底部に設けられていて軸線対称に引抜き製品のために設計された引抜きノズルを介して、ガラスストランド(Glasstrang)として引き抜かれる。ガラスストランドからは所定長さに裁断されて個別品が形成され、これらの個別品から、所望の石英ガラス構成部材が、完成品として又は半製品として製造される。
この場合注意すべき点は、引き抜かれたガラスストランドにおける不均質性を回避すること、及び坩堝内室内において可能な限り等しくかつコンスタントな溶融条件を生ぜしめることにある。しかしながら上記技術を用いては、石英ガラス溶融物はその高い温度と粘性に基づいて、例えばホウケイ酸ガラス溶融物やソーダ石灰ガラス溶融物のような低粘性のガラス溶融物の場合に通常であるように、均質化させることができない。特に、このような低粘性のガラス溶融物の精錬のために使用される撹拌装置は、石英ガラス溶融物の均質化のためには適していない。なぜならば、撹拌時に生じた気泡を、高い粘性のために、引抜きプロセスの経過中にもはや除去することができないからである。
SiO造粒物を供給するために通常は、溶融坩堝内に進入している供給ホッパが設けられており、この供給ホッパの下端部は、粘稠性の石英ガラス材料の表面の上において終端している。この場合、溶融物表面の上に浮遊する粒状のSiO原料から成る、堆積円錐体が形成される。この引抜き方法は、溶融坩堝の中心軸線領域において縁部領域におけるよりも著しく速い流れが生じるという、石英ガラス溶融物の流れ特性によって特徴付けられており、このような流れは「サイロ流」と呼ぶことができる。
この場合、堆積円錐体の中心と溶融坩堝の引抜きノズルとを直接結ぶ結合線上におけるSiO造粒物の凹部は、溶融物において比較的僅かな滞在時間しか有しておらず、かつ相応に僅かな温度負荷しか受けない。この影響はさらに、坩堝中心軸線に沿った軸方向における温度分布が、縁部におけるよりも最大で50℃ほど低い温度を有していることによって、強くなる。これによって、SiO造粒物が坩堝中心では完全には溶融せず、引き抜かれるガラスストランドにおいて不都合を生ぜしめることがある。
「サイロ流」は特に引抜きノズル寸法が小さい場合に、不都合が顕著であり、SiO造粒物のための平均滞在時間を全体として延長する必要があり、溶融処理の効率を制限することになる。
そこで、ガラス出発材料の可能な限り均質な溶融を、引抜き炉における軸方向における温度経過を特別に適合させることによって達成しようという試み(DE2217725B2)や、等しくかつ一定の溶融条件を、溶融物表面における溶融されるべきSiO造粒物の再現可能な分布及び圧縮に関して保証しようという試み(US3249417A;WO2006/015763A1)がなされている。
また、粘稠性の石英ガラス溶融物の流れを温度の均一化のために導く、ということも提案されている。このような形式の方法はDE1596664Aに記載されており、このDE1596664Aに基づいて、冒頭に述べた形式の装置も公知である。この公知の装置では、溶融坩堝から管形状の石英ガラスストランドを引き抜くために、タングステン製のノズルが使用され、このノズルは円形の開口を有していて、この開口には上から心棒が進入していて、この心棒は、タングステン製の中空シャフトに石英ガラス溶融物内において懸吊状態で保持される。心棒のポジションは変化可能である。心棒は、砂時計の形の突出部を備えた上側部分を有していて、この上側部分は中間リングを介して、円錐台形状の下側部分と結合されており、この下側部分は、その幅を変化可能なリング間隙を残しながら、ノズル開口内にまで延びている。上側部分の幾何学形状によって、中央の低温の溶融流は変向させられ、石英ガラス溶融物の内部における温度は均一化される。
公知の引抜き方法において使用されている装置は、その構造及び取扱いがかなり複雑もしくは面倒であり、かつ公知の方法は、坩堝内室における温度変化に対してかなり敏感であることが分かっている。
技術的な課題
ゆえに本発明の課題は、均質な石英ガラスシリンダの製造と、かつ同時に高い生産性とを可能にする方法を提供することである。
さらに本発明の課題は、単純な構造を有していてかつ取扱いが簡単な、前記方法を実施するための装置を提供することである。
前記課題を解決するために本発明の方法では、冒頭に述べた形式の方法において、少なくとも1つの第2の石英ガラスストランドを、溶融坩堝の底部に設けられた少なくとも1つの、別の第2の引抜きノズルを通して引き抜き、第1の引抜きノズルと第2の引抜きノズルとは互いに間隔をおいて、かつ坩堝中心軸線に対して偏心的に配置されているようにした。
本発明の目的は、僅かしか均質化されていない石英ガラス材料が引抜きノズル内に直に進入することを伴う、坩堝中心における顕著なサイロ流を回避すること、及び同時に引抜き方法の生産性を高めることにある。そのためには、複数の手段の相互作用が重要である:
1. ただ1つの引抜きノズルの代わりに、溶融坩堝の底部に2つ又は3つ以上の引抜きノズルが設けられており、これらの引抜きノズルを通して各1つの石英ガラスストランドが溶融坩堝から引き抜かれる。この手段が引抜き方法の生産性を高めることは、明らかである。
2. この場合しかしながらまた、引抜きノズルのうちのいずれもが坩堝中心に配置されていないことが、重要である。引抜きノズルが偏心的に配置されていることによって、溶融技術的に不都合な中心流は回避されるか又は減じられ、縁部近傍の流れが生ぜしめられる。これに付随して、坩堝中心軸線における軸方向の温度分布に比べて、中心において高い温度分布を有する軸方向の温度分布が生ぜしめられる。このことは、供給されるべき溶融エネルギの減少を可能にし、これによりエネルギが節約され、特に溶融坩堝の熱的な負荷が減じられ、ひいては溶融物内への汚染の侵入が阻止される。
3. 少なくとも2つの引抜きノズルは、部分的に互いに関連付けられかつ相互に作用し合う複数の個別流を生ぜしめる。これによって、石英ガラス材料の均質化に寄与するある程度の混合効果が得られる。
引抜きノズルの数に応じて、製品固有の標準溶融出力が同じ場合には、溶融坩堝における滞在時間が長くなり、これによって引き抜かれる石英ガラスの品質が高くなり、逆に、従来汎用の滞在時間を維持した場合には、溶融出力を相応に高めることができる。
従って本発明は単に、汎用の引抜き方法に対して生産性を高めるのみならず、同時に、坩堝温度が同じ場合には、引き抜かれる石英ガラスストランドの均質性を改善することができ、又は均質性が同じ場合には、溶融坩堝における温度負荷を減じることができる。これらの手段は、上に述べたように、間接的に同様に生産性にも影響を及ぼす。
上で2.及び3.において述べた手段のポジティブな作用は、坩堝底部の上方における引抜きノズルの分配配置に関連しており、この場合特に、引抜きノズル相互の間隔に関連している。これらの作用は、引抜きノズル相互の間における間隔が大きくなればなるほど、顕著になる。これに関して、第1の引抜きノズルと別の第2の引抜きノズルとが、互いの間に少なくとも20mmの間隔、有利には少なくとも50mmの間隔を有していると、有利であるということが判明している。
間隔というのは、隣接し合う引抜きノズルの中心軸線の間隔ではなく、各ノズル開口の間の最小距離を意味している。従って間隔は、互いに隣接するノズル開口の間に残されている、坩堝底部における最小ウェブ幅のことである。
坩堝中心軸線に対する引抜きノズルの偏心的な配置形式は、引抜きノズルのうちの1つが坩堝中心軸線と交差しているような方法形式をも含む。しかしながら本発明による方法の特に有利な態様では、引抜きノズルは、坩堝中心軸線を中心にして均一に分配配置されている。
この場合には引抜きノズル開口のいずれもが、溶融坩堝の中心軸線と交差していないので、中心流は十分に回避される。引抜きノズルが、坩堝中心軸線を中心にして均一に分配配置されていることにより、溶融された石英ガラス材料を各石英ガラスストランドに再現可能にかつ均一に分配することができる。
上記配置形式に関連して、正確に2つの引抜きノズルが設けられていて、両引抜きノズルが坩堝中心軸線を挟んで互いに対向して位置していると、有利であることが判明している。
3つ以上の引抜きノズルが設けられている場合には、構造上の手間もしくはコストが、特に各石英ガラスストランドの調整された引抜きのための手間もしくはコストが、過度に増大する、ということが示されている。従って方法の有利な実施態様では、ただ2つの引抜きノズルが設けられている。これらの引抜きノズルの引抜きノズル開口は、坩堝中心軸線を挟んで互いに対向して位置していて、坩堝中心軸線と交差していない。上に述べた理由(溶融された石英ガラス材料の均一な分配)に基づいて、引抜きノズル開口は有利には坩堝中心軸線に対して同じ間隔を有している。
本発明の別の有利な方法では、第1の引抜きノズルを通して1つの石英ガラスストランドが第1の材料流で引き抜かれ、第2の引抜きノズルを通して別の石英ガラスストランドが第2の材料流で引き抜かれ、第1の材料流と第2の材料流とは最大で100%(材料流のうちの少ない方の材料流に比して)異なっている。
もし引抜きノズルから引き抜かれる材料流が著しく異なっていると、溶融坩堝の内部における各流れのフィードバックに基づいて、強い方の流れ(及び大きい方の材料流)において僅かな変化が生じるだけで、弱い方の流れ(及び小さい方の材料流)においては不都合に大きな変化が発生し、製品品質に対して不都合な影響を及ぼす。
特に、引抜きノズルの開口横断面の可能な限り均一な分配配置、可能な限り僅かな相互の影響及び石英ガラスストランドのうちの1つの引抜き時における変化又は中断時における可能な限り僅かな影響に関しては、材料流は可能な限り小さい。第1及び第2の引抜きノズルの開口横断面が最大でそれぞれ50cmであると、有利なことが判明している。
構造上特に単純な特殊な場合には、引抜き装置は、複数の引抜きノズルから複数の石英ガラスストランドを同時に引き抜くように設けられている。このことはしかしながら、引抜きノズル開口及び引き抜かれる石英ガラスストランドのジオメトリが同じであることを前提とする。
第2の引抜き装置が使用され、該第2の引抜き装置を用いて、第2の引抜きノズルから進出する石英ガラスストランドが引き抜かれるようにすると、異なった横断面ジオメトリを有する引抜きノズルの使用時における変化可能性及び引き抜かれる石英ガラスストランドの形状及び半径方向寸法における変化可能性は、大きくなる。
この場合にまた、両方の石英ガラスストランドを互いに無関係に引き抜くこと、及びそれぞれの目標寸法に調整することが可能である。
さらにこの場合、第1の引抜き装置が第1のローラ式引張り装置を有していて、該第1のローラ式引張り装置が第1の長さ区分にわたって坩堝中心軸線に沿って延びており、第2の引抜き装置が第2のローラ式引張り装置を有していて、該第2のローラ式引張り装置が第2の長さ区分にわたって坩堝中心軸線に沿って延びており、第1のローラ式引張り装置の長さ区分と第2の引張り装置の長さ区分とが互いに重なっていないと、有利である。
1つのローラ式引張り装置は、引き抜かれるガラスストランドを中心にして分配配置された複数の引張りローラを有しており、これらの引張りローラは、引き抜かれるガラスストランドを中心にして対向して位置していて、該ガラスストランドに対して、該ガラスストランドを引き抜くのに適した力を加える。ローラ式引張り装置として形成された引抜き装置は、比較的安価な構造上のコストで、ガラスストランドの連続的な引張りを可能にする。この場合第1の引抜き装置の第1のローラ式引張り装置と第2の引抜き装置の第2のローラ式引張り装置とが異なった高さ平面に配置されていると、スペースの理由から有利である。
前記課題を解決するために本発明による装置の構成では、冒頭に述べた形式の装置において、溶融坩堝の底部に、少なくとも1つの、別の第2の引抜きノズルが設けられており、第1の引抜きノズルと第2の引抜きノズルとは互いに間隔をおいて、かつ坩堝中心軸線に対して偏心的に配置されている。
装置に関する本発明の目的は、単純な構造上の構成手段によって、坩堝中心における顕著なサイロ流を回避すること、及び同時に引抜き方法の生産性を高めることにある。そのためには、複数の手段の相互作用が重要である:
1. ただ1つの引抜きノズルの代わりに、溶融坩堝の底部に2つ又は3つ以上の引抜きノズルが設けられており、これらの引抜きノズルを通して各1つの石英ガラスストランドが溶融坩堝から引き抜かれる。このようにして、引抜き方法の生産性が高められる。
2. 引抜きノズルのうちのいずれもが正確に坩堝中心に配置されていない。引抜きノズルが偏心的に配置されていることによって、溶融技術的に不都合な中心流は回避されるか又は減じられ、縁部近傍の流れが生ぜしめられる。これに付随して、坩堝中心軸線における軸方向の温度分布に比べて、中心において高い温度分布を有する軸方向の温度分布が生ぜしめられる。このことは、必要な溶融エネルギの減少によるエネルギの節約のみならず、溶融坩堝の熱的な負荷の低下をも生ぜしめ、これによって溶融物内への汚染の侵入が阻止され、ひいてはスクラップが減じられ、さらには保守インターブルが長くなり、これにより全体として生産性に有利な影響が及ぼされる。
少なくとも2つの引抜きノズルは、互いに部分的に連結されていて相互に作用し合う個別流を生ぜしめる。これによって、石英ガラス材料の均質化、ひいては同様にスクラップ減少に寄与するある程度の混合効果が得られる。
引抜きノズルの数に応じて、製品固有の標準溶融出力が同じ場合には、溶融坩堝における滞在時間が長くなり、これによって引き抜かれる石英ガラスの品質が高くなり、逆に、従来汎用の滞在時間を維持した場合には、溶融出力を相応に高めることができる。
本発明による装置の有利な態様は、従属請求項に記載されている。装置の従属請求項に記載された構成が、本発明による方法の従属請求項に記載の態様に相当する場合には、装置の有利な態様についても、方法の態様について記載したのと同じことが言える。
実施の形態
次に図面を参照しながら、本発明の実施の形態について説明する。
複数の引抜きノズルを備えた溶融坩堝を有する、本発明による溶融炉の1実施形態を示す縦断面図である。 図1に示した溶融坩堝の底部を下から見た平面図である。
図1に示された引抜き炉は、タングステン製の溶融坩堝1を有しており、この溶融坩堝1内には上から供給管片2を介して連続的にSiO造粒物3が装入される。溶融坩堝1は、保護ガスによって洗浄される保護ガス室10の下で、水冷式の炉ジャケット14によって取り囲まれており、保護ガス室10の内部には、酸化物絶縁材料製の多孔質の絶縁層8と、SiO造粒物3を加熱するための抵抗加熱装置13とが収容されている。保護ガス室10は下方に向かって開放していて、その他の部分は底部プレート15とカバープレート16とによって外方に向かってシールされている。
溶融坩堝1は、400mmの内径を有する円筒形の坩堝内室5を有しており、この坩堝内室5のシリンダ長手方向軸線は、坩堝中心軸線6に対して同軸的に延びている。坩堝内室5は同様に周囲に対してカバー18とシールエレメント19とを用いてシールされている。カバー18を貫いて、純粋水素である坩堝内室ガスのための入口22と出口21とが延びている。同様に保護ガス室10は上側領域に、純粋水素のためのガス入口23を備えている。
溶融坩堝1の底部7には中心軸線6に対して偏心的に、それぞれ円形の開口を備えた2つの引抜きノズル4a,4bが挿入されており、これらの引抜きノズル4a,4bは同様にタングステン部材17から成っている。引抜きノズル4a,4bは同一構造を有しており、上から下に向かって最初は40mmの最小内径へと先細になっていて、次いで再び下側のノズル開口の領域において70mmへと拡大している。
引抜きノズル4a,4bを介して軟らかい石英ガラス材料9が進出し、それぞれ70mmの直径を有する2つの中実の円柱ストランド11a,11bとして、ローラ式引張り装置12a,12bを用いて、鉛直方向で下方に坩堝中心軸線6の方向で引き抜かれる。ローラ式引張り装置12a,12bは、高さを互いにずらされて配置されていて、それぞれ、各円柱ストランド11a,11bのための直径を調整するための制御兼調整装置(図示せず)と接続されている。両方の円柱ストランド11a,11bからは、所望の長さの個別品が裁断される。
図面を見易くするために、図2における坩堝底部7を下から見た平面図において、図1における同じ部材には、同一符号及び同一ハッチングが使用されている(しかしながら図2は断面を示していない)。上から下に向かって先細になる引抜きノズル4a,4bは偏心的に配置されていて、坩堝中心軸線6に対して75mmの間隔をおいて位置している。
以下においては、本発明による方法の1実施形態を図1及び図2を参照して詳説する。
例1
供給管片2を介して連続的にSiO造粒物3が溶融坩堝1内に供給され、その中で約2100℃〜2200℃の温度に加熱される。この際に溶融坩堝1の下側領域において軟らかい石英ガラス材料9が生じ、この石英ガラス材料9上には、SiO造粒物3から成る造粒物層が浮遊している。SiO造粒物3から、軟化された石英ガラス材料9のほぼ等しい大きさの2つの主材料流20a,20bが、両引抜きノズル4a,4bに向かって形成される。両主材料流20a,20bは図1においてハッチング及び白抜き矢印によって示されている。
石英ガラス材料9は溶融坩堝1の縁部近傍領域において、中央領域におけるよりも平均して高い温度にさらされているので、石英ガラス材料9は縁部近傍の両主材料流20a,20bにおいて良好に、つまり所定の溶融坩堝温度において中央領域におけるよりも良好に均質化される。坩堝中心軸線6を取り囲む中央の溶融坩堝領域を通るサイロ流は、完全に回避され、引抜き方法の生産性は2倍になる。
例2
例1とは択一的に、SiO造粒物3は溶融坩堝1内において約2050℃〜2150℃の温度に加熱され、つまり例1におけるよりも約50℃低温で加熱される。
この例2においても、SiO造粒物3から、石英ガラス材料9のほぼ等しい大きさの2つの主材料流20a,20bが縁部近傍において、両引抜きノズル4a,4bに向かって形成される。
主材料流20a,20bにおける石英ガラス材料9はこの場合、汎用の引抜き方法における「サイロ流」のような、ほぼ1つの温度負荷にさらされており、このようにして得られる円柱ストランド11a,11bは、汎用の引抜き方法において生ぜしめられる中央のストランドとほぼ等しい均質性を有している。しかしながら溶融坩堝1の壁及び坩堝底部7の温度負荷は僅かであるので、坩堝からの摩耗剥離物及び他の汚染物の、軟化された石英ガラス材料への混入が僅かになり、かつ溶融坩堝の耐用寿命も長くなる。これによってスクラップは僅かになり、保守インターブルは長くなり、ひいては高い生産性が得られる。
1 溶融坩堝、 2 供給管片、 3 SiO造粒物、 4a,4b 引抜きノズル、 5 坩堝内室、 6 坩堝中心軸線、 7 底部、 8 絶縁層、 9 石英ガラス材料、 10 保護ガス室、 11a,11b 円柱ストランド、 12a,12b ローラ式引張り装置、 13 抵抗加熱装置、 14 炉ジャケット、 15 底部プレート、 16 カバープレート、 17 タングステン部材、 18 カバー、 19 シールエレメント、 20a,20b 主材料流、 21 出口、 22 入口、 23 ガス入口

Claims (15)

  1. 溶融坩堝(1)から石英ガラスシリンダを引き抜く方法であって、溶融坩堝(1)が坩堝内室(5)を有していて、該坩堝内室(5)は坩堝中心軸線(6)の方向で延びていて、側壁と底部(7)とによって画定されており、溶融坩堝(1)にSiO造粒物(3)を供給し、溶融坩堝(1)内において軟化させて粘稠性の石英ガラス材料(9)を形成し、該石英ガラス材料(9)を第1の引抜き装置(12a)を用いて、溶融坩堝(1)の底部(7)に設けられた第1の引抜きノズル(4a)を通して、シリンダ形の石英ガラスストランド(11a)として、鉛直方向下方に向かって引き抜き、石英ガラスシリンダを裁断によって生ぜしめる形式の方法において、少なくとも1つの第2の石英ガラスストランド(11b)を、溶融坩堝(1)の底部(7)に設けられた少なくとも1つの、別の第2の引抜きノズル(4b)を通して引き抜き、第1の引抜きノズル(4a)と第2の引抜きノズル(4b)とは互いに間隔をおいて、かつ坩堝中心軸線(6)に対して偏心的に配置されていることを特徴とする、溶融坩堝(1)から石英ガラスシリンダを引き抜く方法。
  2. 第1の引抜きノズル(4a)と第2の引抜きノズル(4b)とは、互いの間に少なくとも20mmの間隔を有している、請求項1記載の方法。
  3. 引抜きノズル(4a;4b)は、坩堝中心軸線(6)を中心にして均一に分配配置されている、請求項1又は2記載の方法。
  4. 正確に2つの引抜きノズル(4a;4b)が設けられていて、両引抜きノズル(4a;4b)は坩堝中心軸線(6)を挟んで互いに対向して位置している、請求項1から3までのいずれか1項記載の方法。
  5. 第1の引抜きノズル(4a)を通して1つの石英ガラスストランド(11a)が第1の材料流で引き抜かれ、第2の引抜きノズル(4b)を通して別の石英ガラスストランド(11b)が第2の材料流で引き抜かれ、第1の材料流と第2の材料流とは最大で100%(材料流のうちの少ない方の材料流に比して)異なっている、請求項4記載の方法。
  6. 第1及び第2の引抜きノズル(4a;4b)の開口横断面は最大で50cmである、請求項1から5までのいずれか1項記載の方法。
  7. 第2の引抜き装置(12b)が使用され、該第2の引抜き装置(12b)を用いて、第2の引抜きノズル(4b)から進出する石英ガラスストランド(11b)が引き抜かれる、請求項1から5までのいずれか1項記載の方法。
  8. 第1の引抜き装置(12a)は第1のローラ式引張り装置を有していて、該第1のローラ式引張り装置は第1の長さ区分にわたって坩堝中心軸線(6)に沿って延びており、第2の引抜き装置(12b)は第2のローラ式引張り装置を有していて、該第2のローラ式引張り装置は第2の長さ区分にわたって坩堝中心軸線(6)に沿って延びており、第1のローラ式引張り装置の長さ区分と第2の引張り装置の長さ区分とは互いに重なっていない、請求項5記載の方法。
  9. 石英ガラスシリンダを引き抜く装置であって、SiO造粒物(3)を収容する溶融坩堝(1)が設けられていて、該溶融坩堝(1)が円筒形の坩堝内室(5)を有していて、該坩堝内室(5)は坩堝中心軸線(6)の方向で延びていて、側壁と底部(7)とによって画定されており、SiO造粒物(3)を軟化させるための加熱装置(13)と、溶融坩堝(1)の底部(7)に設けられた第1の引抜きノズル(4a)と、該第1の引抜きノズル(4a)を通して石英ガラスストランド(11a)を引き抜くための引抜き装置(12a)とが設けられている形式のものにおいて、溶融坩堝(1)の底部(7)に、少なくとも1つの、別の第2の引抜きノズル(4b)が設けられており、第1の引抜きノズル(4a)と第2の引抜きノズル(4b)とは互いに間隔をおいて、かつ坩堝中心軸線(6)に対して偏心的に配置されていることを特徴とする、石英ガラスシリンダを引き抜く装置。
  10. 第1の引抜きノズル(4a)と第2の引抜きノズル(4b)とは、互いの間に少なくとも20mmの間隔を有している、請求項9記載の装置。
  11. 引抜きノズル(4a;4b)は、坩堝中心軸線(6)を中心にして均一に分配配置されている、請求項9又は10記載の装置。
  12. 正確に2つの引抜きノズル(4a;4b)が設けられていて、両引抜きノズル(4a;4b)は坩堝中心軸線(6)を挟んで互いに対向して位置している、請求項9から11までのいずれか1項記載の装置。
  13. 第1及び第2の引抜きノズル(4a;4b)の開口横断面はそれぞれ最大で50cmである、請求項9から12までのいずれか1項記載の装置。
  14. 第2の引抜きノズル(4b)から進出する石英ガラスストランド(11b)を引き抜くための第2の引抜き装置(12b)が設けられている、請求項9から13までのいずれか1項記載の装置。
  15. 第1の引抜き装置(12a)は第1のローラ式引張り装置を有していて、該第1のローラ式引張り装置は第1の長さ区分にわたって坩堝中心軸線(6)に沿って延びており、第2の引抜き装置(12b)は第2のローラ式引張り装置を有していて、該第2のローラ式引張り装置は第2の長さ区分にわたって坩堝中心軸線(6)に沿って延びており、第1のローラ式引張り装置の長さ区分と第2の引張り装置の長さ区分とは互いに重なっていない、請求項14記載の装置。
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