JP5536143B2 - 切削工具用ダイヤモンド皮膜 - Google Patents
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Description
記
前記EELSにより測定された電子エネルギ損失分光スペクトルを、次の(1)〜
(4)の4つのガウス関数の和であると仮定し、この電子エネルギ損失分光スペクト
ルをピーク分離した際、Jのピーク強度をIj、Kのピーク強度をIkとしたとき、
Ij/(Ij+Ik)をXと定義する。
(1)280〜290eVにピークを持つJ
(2)285〜295eVにピークを持つK
(3)290〜300eVにピークを持つL
(4)300〜310eVにピークを持つM
記
前記EELSにより測定された電子エネルギ損失分光スペクトルを、次の(1)〜
(4)の4つのガウス関数の和であると仮定し、この電子エネルギ損失分光スペクト
ルをピーク分離した際、Jのピーク強度をIj、Kのピーク強度をIkとしたとき、
Ij/(Ij+Ik)をXと定義する。
(1)280〜290eVにピークを持つJ
(2)285〜295eVにピークを持つK
(3)290〜300eVにピークを持つL
(4)300〜310eVにピークを持つM
WCを主成分とする硬質粒子とCoを主成分とする結合材からなる超硬合金母材を材料とした超硬合金製ボールエンドミル(シャンク径φ4、直径φ1)に熱フィラメント型CVD装置を用い、エンドミルの温度を650〜800℃、ガス圧力が500Paとなるように、H2ガス、CH4ガス及びO2ガスを導入しながらダイヤモンド皮膜を成膜した。ガス流量比は、H2:CH4:O2=100:1〜5:0〜5とした。
図5の試料No.3の断面TEM像を図1及び図2に示す。図1は明視野像、図2は暗視野像を示している。図2右上の電子線回折像は当該試料のダイヤモンド皮膜に電子線を照射して得られた電子線回折像であるが、その丸印で囲った結晶面((111)面)を結像させて図2の暗視野像を撮影した。図1及び図2から、皮膜層[α]と皮膜層[β]の結晶が連続していること、皮膜層[β]に比べて皮膜層[α]及び皮膜層[B]の結晶粒径が相対的に小さいことが認められる。
Claims (7)
- 基材上に形成される切削工具用ダイヤモンド皮膜であって、膜厚1μm以上15μm以下の皮膜層[α]と膜厚1μm以上20μm以下の皮膜層[β]とが、前記皮膜層[α]が基材側に、前記皮膜層[β]が表層側に配置されるように積層して構成された複層皮膜層[A]を少なくとも1層以上含み、このダイヤモンド皮膜全体の膜厚が4μm以上30μm以下に設定され、また、この複層皮膜層[A]の断面を断面TEM法で観察した際、前記皮膜層[α]の結晶と前記皮膜層[β]の結晶とが連続しており、更に、前記基材表面に平行な仮想線に沿って測定された結晶粒径の平均が、前記皮膜層[β]より前記皮膜層[α]の方が小さく前記皮膜層[β]の前記結晶粒径の平均は0.2μm以上6μm以下であり、更に、前記複層皮膜層[A]の破断面をSEM法で観察した際、前記皮膜層[α]の破断面より前記皮膜層[β]の破断面の方が滑らかであり、更に、前記皮膜層[β]の破断面には膜厚方向に伸びた柱状模様が含まれていることを特徴とする切削工具用ダイヤモンド皮膜。
- 基材上に形成される切削工具用ダイヤモンド皮膜であって、膜厚1μm以上15μm以下の皮膜層[α]と膜厚1μm以上20μm以下の皮膜層[β]とが、前記皮膜層[α]が基材側に、前記皮膜層[β]が表層側に配置されるように積層して構成された複層皮膜層[A]を少なくとも1層以上含み、このダイヤモンド皮膜全体の膜厚が4μm以上30μm以下に設定され、この複層皮膜層[A]の断面の結晶部に電子線を照射して電子エネルギ損失分光分析(EELS)を行なった際、下記のように定義するXが、前記皮膜層[α]より前記皮膜層[β]の方が小さく、更に、前記皮膜層[β]の前記Xが0.005〜0.05であることを特徴とする切削工具用ダイヤモンド皮膜。
記
前記EELSにより測定された電子エネルギ損失分光スペクトルを、次の(1)〜
(4)の4つのガウス関数の和であると仮定し、この電子エネルギ損失分光スペクト
ルをピーク分離した際、Jのピーク強度をIj、Kのピーク強度をIkとしたとき、
Ij/(Ij+Ik)をXと定義する。
(1)280〜290eVにピークを持つJ
(2)285〜295eVにピークを持つK
(3)290〜300eVにピークを持つL
(4)300〜310eVにピークを持つM - 基材上に形成される切削工具用ダイヤモンド皮膜であって、膜厚1μm以上15μm以下の皮膜層[α]と膜厚1μm以上20μm以下の皮膜層[β]とが、前記皮膜層[α]が基材側に、前記皮膜層[β]が表層側に配置されるように積層して構成された複層皮膜層[A]を少なくとも1層以上含み、このダイヤモンド皮膜全体の膜厚が4μm以上30μm以下に設定され、また、この複層皮膜層[A]の断面を断面TEM法で観察した際、前記皮膜層[α]の結晶と前記皮膜層[β]の結晶とが連続しており、更に、前記基材表面に平行な仮想線に沿って測定された結晶粒径の平均が、前記皮膜層[β]より前記皮膜層[α]の方が小さく前記皮膜層[β]の前記結晶粒径の平均は0.2μm以上6μm以下であり、更に、前記複層皮膜層[A]の破断面をSEM法で観察した際、前記皮膜層[α]の破断面より前記皮膜層[β]の破断面の方が滑らかであり、更に、前記皮膜層[β]の破断面には膜厚方向に伸びた柱状模様が含まれており、更に、前記複層皮膜層[A]の断面の結晶部に電子線を照射して電子エネルギ損失分光分析(EELS)を行なった際、下記のように定義するXが、前記皮膜層[α]より前記皮膜層[β]の方が小さく、更に、前記皮膜層[β]の前記Xが0.005〜0.05であることを特徴とする切削工具用ダイヤモンド皮膜。
記
前記EELSにより測定された電子エネルギ損失分光スペクトルを、次の(1)〜
(4)の4つのガウス関数の和であると仮定し、この電子エネルギ損失分光スペクト
ルをピーク分離した際、Jのピーク強度をIj、Kのピーク強度をIkとしたとき、
Ij/(Ij+Ik)をXと定義する。
(1)280〜290eVにピークを持つJ
(2)285〜295eVにピークを持つK
(3)290〜300eVにピークを持つL
(4)300〜310eVにピークを持つM - 請求項1〜3いずれか1項に記載の切削工具用ダイヤモンド皮膜において、最表層に0.5μm以上10μm以下の膜厚で皮膜層[B]が形成され、この皮膜層[B]は、その断面を断面TEM法で観察した際、基材表面に平行な仮想線に沿って測定された結晶粒径の平均が、前記皮膜層[β]より小さく、また、この皮膜層[B]の破断面をSEM法で観察した際、皮膜層[β]の破断面より多くの凹凸があることを特徴とする切削工具用ダイヤモンド皮膜。
- 請求項2,3いずれか1項に記載の切削工具用ダイヤモンド皮膜において、最表層に0.5μm以上10μm以下の膜厚で皮膜層[B]が形成され、この皮膜層[B]は、その断面の結晶部に電子線を照射して電子エネルギ損失分光分析(EELS)を行なった際、前記Xが、皮膜層[β]より大きいものであることを特徴とする切削工具用ダイヤモンド皮膜。
- 請求項1〜5いずれか1項に記載の切削工具用ダイヤモンド皮膜において、基材直上に前記複層皮膜層[A]を配置したことを特徴とする切削工具用ダイヤモンド皮膜。
- 請求項1〜6いずれか1項に記載の切削工具用ダイヤモンド皮膜において、基材がWCを主成分とする硬質粒子とCoを主成分とする結合材からなる超硬合金であることを特徴とする切削工具用ダイヤモンド皮膜。
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