JP5533791B2 - Iii族窒化物半導体発光素子の製造方法 - Google Patents
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Description
。
第4の発明は、第1の発明から第2の発明において、pクラッド層は、AlGaNであることを特徴とするIII 族窒化物半導体発光素子の製造方法である。
11:nコンタクト層
12:静電耐圧層
13:nクラッド層
14:発光層
15:pクラッド層
16:pコンタクト層
17:透明電極
18:p電極
19:n電極
Claims (4)
- pクラッド層とpコンタクト層を有したIII 族窒化物半導体発光素子の製造方法において、
前記pクラッド層は、圧力を5kPa〜70kPaとして、Mgを、ドープ量1.8×10 20 /cm 3 以上、1×10 21 /cm 3 以下にドープして結晶成長させることにより、結晶の少なくとも一部の極性を反転させて表面に六角柱状の凹凸形状を有するように形成し、
前記pコンタクト層は、圧力を常圧として、前記pクラッド層上に前記凹凸形状に沿って形成して表面に六角柱状の凹凸形状を形成する、
ことを特徴とするIII 族窒化物半導体発光素子の製造方法。 - 前記pクラッド層のMgドープ量は、1.8×10 20 /cm 3 以上、5×10 20 /cm 3 以下であることを特徴とする請求項1に記載のIII 族窒化物半導体発光素子の製造方法。
- 前記pクラッド層のMgドープ量は、1.8×10 20 /cm 3 以上、2.4×10 20 /cm 3 以下であることを特徴とする請求項1に記載のIII 族窒化物半導体発光素子の製造方法。
- 前記pクラッド層は、AlGaNであることを特徴とする請求項1乃至請求項3の何れか1項に記載のIII 族窒化物半導体発光素子の製造方法。
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