JP5508577B2 - 第1および第2付加中間層を備えるeuvリソグラフィ装置用多層反射光学素子 - Google Patents
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Description
このためには、幾つかのスタックにおいて吸収材料および/またはスペーサ材料を入れ換えるか、または2つ以上の吸収材料および/またはスペーサ材料からスタックを構成してもよい。吸収材料およびスペーサ材料は、反射率を最適化するために全てのスタックにおいて一定の厚さを有していてもよいし、または異なる厚さを有していてもよい。実際には、材料が複雑に連続している反射光学素子では、期待どおりの高い反射率を達成することはできない。
2 多層システム
3 基板
4 保護層
20 周期的に反復される層スタック
21 低い吸収係数を有する材料
22 高い吸収係数を有する材料
23,23a,23b 反射率を増大させる第1中間層
24,24a,24b,24a′,24b′ 拡散バリアとしての第2中間層
100 EUVリソグラフィ装置
110 ビーム整形システム
111 光源
112 コリメータ
113 モノクロメータ
120 照明システム
121,122 ミラー
130 マスク
140 投影システム
141,142 ミラー
150 ウェーハ
R 最大反射率
d 厚さ
Claims (18)
- EUVリソグラフィ装置で用いられる、軟X線および極紫外線波長領域の作動波長のための反射光学素子であって、前記作動波長で異なる屈折率実部を有する交互に設けられる2つの材料(21,22)よりなる多層システムを備える反射光学素子において、
より小さい屈折率実部を有する前記材料(22)からより大きい屈折率実部を有する前記材料(21)への第1の移行部と、前記より大きい屈折率実部を有する前記材料(21)から前記より小さい屈折率実部を有する前記材料(22)への第2の移行部とには、それぞれ単一のさらなる材料からなる2つの付加層(23,23a,23b,24,24a,24b,24a′,24b′)がそれぞれ設けられ、前記2つの付加層は、それぞれ前記交互に設けられる2つの材料(21,22)の少なくとも一方に隣接して配置されており、前記2つの付加層(23a,23b,24a,24b,24a′,24b′)が、前記第1の移行部と前記第2の移行部とで異なるように配置されていることを特徴とする反射光学素子。 - 請求項1に記載の反射光学素子において、
前記2つの付加層(23a,23b,24a,24b)の順序が、前記より小さい屈折率実部を有する材料(22)から前記より大きい屈折率実部を有する材料(21)への移行部と、前記より大きい屈折率実部を有する材料(21)から前記より小さい屈折率実部を有する材料(22)への移行部とで異なるように選択されている反射光学素子。 - 請求項1または2に記載の反射光学素子において、
前記2つの付加層(23a,23b,24a,24b,24a′,24b′)のうち少なくとも一方の材料が、前記より小さい屈折率実部を有する材料(22)から前記より大きい屈折率実部を有する材料(21)への移行部と、前記より大きい屈折率実部を有する材料(21)から前記より小さい屈折率実部を有する材料(22)への移行部とで異なるように選択されている反射光学素子。 - 請求項1から3までのいずれか一項に記載の反射光学素子において、
前記交互に設けられる2つの材料(21,22)の間の少なくとも1つの移行部に、付加層なしの場合の反射率と比較して前記作動波長における多層システム(2)の最大反射率を増大させるさらなる材料からなる第1付加層(23a,23b)と、隣接する層間のバリアとして作用する別のさらなる材料からなる第2付加層(24a,24b,24a′,24b′)とが配置されている反射光学素子。 - EUVリソグラフィ装置で用いられる、軟X線および極紫外線波長領域の作動波長のための反射光学素子であって、前記作動波長で異なる屈折率実部を有する交互に設けられる2つの材料(21,22)よりなる多層システムを備える反射光学素子において、
前記交互に設けられる2つの材料(21,22)の間の少なくとも1つの移行部に、それぞれ単一の材料からなる2つの付加層(23,23a,23b,24,24a,24b,24a′,24b′)であって、付加層なしの場合の反射率と比較して前記作動波長における前記多層システム(2)の最大反射率を増大させるさらなる材料からなる第1付加層(23a,23b)と、隣接する層間のバリアとして作用する別のさらなる材料からなる第2付加層(24,24a,24b,24a′,24b′)とが設けられ、前記2つの付加層は、それぞれ、前記交互に設けられる2つの材料(21,22)の少なくとも一方に隣接して配置されていることを特徴とする反射光学素子。 - 請求項5に記載の反射光学素子において、
前記第1付加層(23a,23b)が、より小さい屈折率実部を有する材料(22)からより大きい屈折率実部を有する材料(21)への移行部と、より大きい屈折率実部を有する材料(21)からより小さい屈折率実部を有する材料(22)への移行部とで異なる材料からなる反射光学素子。 - 請求項1から6までのいずれか一項に記載の反射光学素子において、
前記多層システムに保護層が被着されており、多層システム(2)と保護層(4)との間の移行部に、付加層なしの場合の反射率と比較して前記作動波長における最大反射率を増大させるさらなる材料からなる第1付加層(23)と、隣接する層間のバリアとして作用する別のさらなる材料からなる第2付加層(24)とが配置されている反射光学素子。 - 請求項1から7までのいずれか一項に記載の反射光学素子において、
前記第2付加層(24,24a,24b,24a′,24b′)の材料が、付加層なしの場合の反射率と比較して前記作動波長における最大反射率を増大させる反射光学素子。 - 請求項1から8までのいずれか一項に記載の反射光学素子において、
少なくとも前記第1付加層(23a,23b)の材料の屈折率のうち前記作動波長における屈折率実部の値が、屈折率実部がより大きい前記交互に設けられる材料(21)の対応値よりも大きいか、または、屈折率実部がより小さい前記交互に設けられる材料(22)の対応値よりも小さい反射光学素子。 - 請求項1から8までのいずれか一項に記載の反射光学素子において、
少なくとも前記第1付加層(23a,23b)の材料の屈折率のうち前記作動波長における屈折率実部の値が、交互に設けられる前記材料(21,22)の対応値の中間にある反射光学素子。 - 請求項1から10までのいずれか一項に記載の反射光学素子において、
前記付加層(23,23a,23b,24,24a,24b,24a′,24b′)の厚さ(d)が、交互に設けられる材料からなる層(21,22)の厚さよりも小さい反射光学素子。 - 請求項1から11までのいずれか一項に記載の反射光学素子において、
前記付加層(23,23a,23b,24,24a,24b,24a′,24b′)の厚さ(d)が、前記作動波長の1/4よりも小さく、特に前記作動波長の1/8よりも小さい反射光学素子。 - 請求項1から12までのいずれか一項に記載の反射光学素子において、
前記作動波長でより小さい屈折率実部を有する前記材料(22)が、モリブデンであり、前記作動波長でより大きい屈折率実部を有する前記材料(21)が、ケイ素である反射光学素子。 - 請求項1から13までのいずれか一項に記載の反射光学素子において、
前記第1付加層(23,23a,23b)が、ルテニウム、ロジウム、イットリウムおよびニオブの群のいずれかの材料を含む反射光学素子。 - 請求項1から14までのいずれか一項に記載の反射光学素子において、
前記第2付加層(24,24a,24b,24a′,24b′)が、炭化ホウ素を含む反射光学素子。 - 特にEUVリソグラフィ装置のための投影システム(140)において、
請求項1から15までに記載のいずれか1つの反射光学素子(141,142)を有することを特徴とする投影システム。 - 特にEUVリソグラフィ装置のための照明システム(120)において、
請求項1から15までに記載のいずれか1つの反射光学素子(121,122)を有することを特徴とする照明システム。 - EUVリソグラフィ装置(100)において、
請求項1から15に記載の少なくとも1つの反射光学素子(121,122,141,142)を有することを特徴とするEUVリソグラフィ装置。
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