JP5503574B2 - レーザダイオード - Google Patents
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Description
図1は、本発明の一実施形態に係るレーザダイオード10の構成を示す斜視図である。このレーザダイオード10は、490nm以上(より好ましくは500nm以上600nm以下)の発振波長の光を発生するIII族窒化物半導体レーザダイオードである。レーザダイオード10は、支持基板としての半導体基板12と、半導体積層構造14と、アノード電極16と、カソード電極18とを備える。
半極性面である{20−21}面を主面とするn型窒化ガリウムウェハ上に、上述した実施形態と同様の構造を有する半導体積層構造を成長させ、アノード電極及びカソード電極を形成することにより、緑色のレーザ光を発振する複数のレーザダイオード構造を形成した。そのウェハをバー状に劈開し、そのレーザダイオードバーの劈開面(すなわち光共振器の両端面)に、TiO2膜及びSiO2膜からなる誘電体多層膜(端面コート)を形成した。そして、この誘電体多層膜のアノード電極上への回り込み部分(上縁部)のSEM像及び透過型電子顕微鏡像(TEM像)を観察し、アノード電極の表面を基準とする上縁部の厚さを観察した。図5はそのSEM像を示す図であり、図6はTEM像を示す図である。なお、図5において、(a)は凹凸が大きい場合(すなわち表面粗さが大きい場合)を示しており、(b)は凹凸が小さい場合(すなわち表面粗さが小さい場合)を示している。
Claims (4)
- 支持基板の主面上に設けられ、該主面に沿って延びる光共振器を含む半導体積層構造と、
前記半導体積層構造の上に設けられた電極と、
を備え、
前記支持基板及び前記半導体積層構造がIII族窒化物半導体からなり、前記支持基板の前記主面が、該III族窒化物半導体の半極性面を含み、
前記支持基板の前記主面における法線ベクトルと、前記支持基板のIII族窒化物半導体のc軸との成す傾斜角は、63度以上80度以下、又は100度以上117度以下の範囲に含まれ、
前記光共振器の一対の端面をそれぞれ含む前記半導体積層構造の一対の側面に誘電体膜が形成されており、
前記半導体積層構造の積層方向における、少なくとも一方の前記側面に形成された前記誘電体膜の上縁部が前記電極上にわたって延びており、該上縁部の厚さが0.25μm以上であり、該上縁部の平均粗さが0.1μm以上0.5μm以下であることを特徴とする、レーザダイオード。 - 前記誘電体膜は、屈折率が互いに異なる第1及び第2の膜が交互に積層されて成ることを特徴とする、請求項1に記載のレーザダイオード。
- 前記誘電体膜は、電子ビーム法及びECR法のうち少なくとも一方により形成されていることを特徴とする、請求項1または2に記載のレーザダイオード。
- 前記光共振器の発振波長が500nm以上600nm以下であることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載のレーザダイオード。
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