JP5497266B2 - 半導体モジュール、基板および配線方法 - Google Patents

半導体モジュール、基板および配線方法 Download PDF

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Description

本発明は、複数の半導体装置を基板上に配列させて電気的に接続した半導体モジュールに関し、特に、その基板および配線方法に関する。
近年、半導体装置のパッケージ形状は、高機能化を実現するため、縦長(矩形形状)になる傾向がある。このため、半導体装置をモジュール化するにあたり、規格や顧客要求などによって定められた形状の基板上に、同じく規格などで定められた数量の半導体装置を配置することが困難になっている。
この問題を回避するための対策の1つとして、図11および図12に示すように、複数の半導体装置の向きを90度ずつ変えて縦横に配置する配置方法がある。
図11および図12は、基板200上に複数の半導体装置20を備えた半導体モジュールを、上から見た図(平面図)である。図11は、半導体モジュールの簡略図、図12は、より製品イメージに近い図であって、図11に対応する配線パターン図である。
図11および図12において、半導体装置20の各々は、基板200に設けられた信号配線群11およびビア群40を介して、隣接する他の半導体装置に電気的に接続されている。
基板200は、例えば、多層配線基板などが用いられる。また、半導体装置20としては、例えば、DRAMなどの半導体記憶装置、あるいは、システムLSIなどの半導体集積回路装置などがある。
一方、信号間のスキューを無くすための配線方法としては、既にさまざまなものが提案されている(例えば、特許文献1乃至4参照)。
特開平11−163531号公報 特開2000−082743号公報 特開2004−096095号公報 特開平11−340438号公報
一般に、半導体装置間を接続する信号配線群に含まれる複数の信号配線は、電気的な特性を揃えて信号間スキューの影響を低減するために、等長とする必要がある。ところが、図11および図12に示すように、隣接する半導体装置20の向きが90度異なる半導体モジュールでは、配線領域の制約から、半導体装置20間を結ぶ信号配線群11が、半導体装置のパッド配置に合わせて蛇行するレイアウトにならざるを得ない。このため、必然的に大回りと小回りの信号配線が生じ、信号配線を互いに等長にすることが困難となる。その結果、信号配線間のスキュー(遅延時間差)が増大し、半導体装置に要求される高速動作を実現できなくなる。
そこで、本発明は、隣接する半導体装置の向きを互いに90度異ならせた半導体モジュールにおいて、半導体装置間を接続する複数の信号配線を互いに等長とし、信号間スキューを低減することを目的とする。
なお、上記特許文献1乃至4には、隣接する半導体装置の向きを互いに90度異ならせた半導体モジュールについての記載はなく、このような半導体モジュールにおいて配線長を等しくする技術についてなんら開示するものでも示唆するものでもない。特に、複数の半導体装置を2列に並べて配置し、一方の列に属する半導体装置の近傍に位置するビアと、他方の列に属する半導体装置の近傍に位置するビアとを、互い違いの信号配線で接続することについて、これら特許文献1乃至4は全く開示も示唆もしていない。
本発明は、矩形形状の複数の半導体装置を、隣接する半導体装置の向きが互いに90度異なるように2列に配列した半導体モジュールにおいて、同一方向に向けられた半導体装置同士を接続するように、一方の列に含まれる半導体装置を他方の列に含まれる半導体装置に接続したことを特徴とする。
本発明によれば、矩形形状の複数の半導体装置を、隣接する半導体装置の向きが互いに90度異なるように2列に配列した半導体モジュールにおいて、一の半導体装置と他の半導体装置とを接続する複数の信号配線を互いに等長とし、信号間のスキューを低減することができる。
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について詳細に説明する。
図1は、本発明の一実施の形態に係る半導体モジュールの概念図である。
図示の半導体モジュールは、基板100と、その上に搭載された複数の半導体装置20,20’とを有している。また、基板100は、半導体装置20,20’が接続されるビア群40,40’と、これらビア群40,40’に含まれるビア同士を接続する信号配線群10,10’を有している。
半導体装置20と20’は、同一の構成を有している。また、これら半導体装置20,20’には、図示しないインデックス(半導体装置の向きを表すマーク)が設けられている。半導体装置20は全て、インデックスが同一方向、例えば図の上方向、へ向くように配置される。半導体装置20’もまた、全てが同一方向、例えば図の右方向、へ向くように配置される。なお、半導体装置20’は、一方向に向かうよう配置された半導体装置20に対して、90度異なる方向に向かうように(あるいは、回転させて)配置されている。こうして、半導体装置20と20’とは交互に且つ2列に配置されている。
ビア群40,40’は、半導体装置20,20’の配置位置に対応して設けられている。半導体装置20,20’の各々は、基板100に搭載される際、近傍に設けられたビア郡40,40’に接続される。
信号配線群10に含まれる各配線は、半導体装置20の近傍に配置されるビア群40に含まれるビアと接続される。同様に、信号配線群10‘に含まれる各配線は、半導体装置20’の近傍に配置されるビア群40’に含まれるビアと接続される。
図1より明らかなように、本実施の形態に係る半導体モジュールでは、信号配線群10が、一方の列(図の上方の列)の半導体装置20に対応するビア群40と他方の列(図の下方の列)の半導体装置20に対応するビア群40とをジグザクに接続する。同様に、信号配線群10’は、一方の列(図の上方の列)の半導体装置20’に対応するビア群40’と他方の列(図の下方の列)の半導体装置20に対応するビア群40’とをジグザクに接続する。つまり、一方の列に属する半導体装置20,20’と他方の列に属する半導体装置20,20’とが互い違いに接続され、半導体装置20同士、半導体装置20’同士がそれぞれ接続されている。
図2(a)および(b)は、それぞれ、図1におけるビア群40と信号配線群10との関係を説明するための図である。
図2(a)は、ビア群40,40’の中心を通る補助線50を描いたとき、4本の補助線50で囲まれた領域51が矩形となる場合を示している。この場合、ビア群40に含まれる複数(ここでは3つ)のビアは基板100の長手方向(図の左右方向)に平行に並んでおり、これらビアに接続される信号配線群10に含まれる複数の配線は、領域51の対角線と平行となり、互いに等長である。また、ビア群40’に含まれる複数(ここでは3つ)のビアは基板100の長手方向(図の左右方向)に垂直に並んでおり、これらビアに接続される信号配線群10’に含まれる複数の配線もまた、領域51の対角線と平行となり、互いに等長である。よって、これらの信号配線群10または10’により接続される2つの半導体装置間において信号間スキューの発生を抑制できる。
また、図2(a)に示す場合は、ビア群40に含まれるビアに接続される信号配線群10の配線と、ビア群40’に含まれるビアに接続される信号配線群10’の配線の長さも等しい。つまり、上方の列から下方の列に向かう配線は、互いに等長であり、同様に、下方の列から上方の列に向かう配線も、互いに等長である。
図2(b)は、ビア群40,40’の中心を通る補助線50を描いたとき、4本の補助線で囲まれた領域51が台形となる場合を示している。この場合においても、上方の列から下方の列に向かう信号配線と、下方の列から上方の列に向かう信号配線とは、互いに等長となる。
つまり、補助線50で囲まれた領域51が、その中心線52に対して線対称であれば、上方の列から下方の列に向かう信号配線と、下方の列から上方の列に向かう信号配線とは、互いに等長となる。
このように、本実施の形態に係る半導体モジュールでは、大回り配線や小回り配線を行うことなく、等長配線を行うことができる。そして、その結果として、信号間のスキューを低減することができる。
次に、基板100について、さらに詳細に説明する。基板100は、多層配線基板を用いて実現することができる。多層配線基板は、例えば、図3および図4に示すような配線パターンを有する配線層を有する。なお、図3は、配線パターンの一例を示す簡略図であり、図4は、図3の配線パターンに対応する、より製品イメージに近い配線パターン図である。
図3および図4において、半導体装置20と20’とは、図1を参照して説明したように、互いに90度異なる方向に向けて基板100上に配置される。半導体装置20に対応して設けられたビア群40に含まれる複数のビアは、基板100の長手方向と平行に並んでいる。
信号配線群10−1に含まれる各配線は、上方の列のビア群40に含まれるビアと、下方の列のビア群40に含まれるビアとを接続して、インデックスの向きが同じ半導体装置20同士を電気的に接続する。この配線層では、信号配線群10−1が、上方の列のビア群40を左斜め下に位置する下方の列のビア群40に接続している。この信号配線群10−1は、図1に示した信号配線群10の半分に相当する。
なお、図4の一点破線50は、各ビア群40の中心を通る補助線である。また、信号配線群10−1に含まれる配線以外の配線も、この配線層に形成されてよい。
図4の配線パターンでは、信号配線群10−1のうち、両端に位置する配線の配線長が20mmであるとき、中央部に位置する配線の配線長は18mmであり、配線長の差は2mm程度である。これに対し、従来技術である図12の信号パターンにおける、隣接する半導体装置20と20’との間を接続する信号配線群11では、配線基板200の外側寄りに配置された最も大回りの配線長が20mmであるとき、中央部では16mm、最も小回りの配線で13mmとなり、信号間のばらつきが、図4の配線パターンよりも大きいことが明らかである。
図5および図6は、基板100の他の配線層における配線パターンを示す図である。図5は、配線パターンの簡略図であり、図6は、図5の配線パターンに対応する、より製品イメージに近い配線パターン図である。
図5および図6に示す配線層には、半導体装置20’に対応して設けられたビア群40’を接続する信号配線群10’−1が設けられている。この信号配線群10’−1は、下方の列のビア群40’に含まれるビアと、左斜め上に位置する上方の列のビア群40’に含まれるビアとを接続し、これらビア群に対応するインデックスの向きが同じ半導体装置20’同士を電気的に接続する。この信号配線群10’−1は、図1に示した信号配線群10’の半分に相当する。
図5から明らかなように、基板100の長手方向に垂直に並んだビア群40’を接続する信号配線群10’−1もまた、両端の配線と中央部の配線とで、その配線長が等しい。実際の配線層においても、図6から理解されるように、信号配線群10’の各配線の配線長はほぼ等しい。
図7および図8は、さらに他の配線層における配線パターンを示す図である。図7は、配線パターンの簡略図であり、図8は、図7の配線パターンに対応する、より製品イメージに近い配線パターン図である。
図7および図8に示す配線層には、半導体装置20に対応して設けられたビア群40を接続する信号配線群10−2が設けられている。この信号配線群10−2は、下方の列のビア群40に含まれるビアと、左斜め上に位置する上方の列のビア群40に含まれるビアとを接続し、これらビア群40に対応するインデックスの向きが同じ半導体装置20同士を電気的に接続する。この信号配線群10−1は、図1に示した信号配線群10の残りの半分に相当する。この信号配線群10−2もまた、両端の配線と中央部の配線とで、その配線長が等しい。
図9および図10は、さらに他の配線層における配線パターンを示す図である。図9は、配線パターンの簡略図であり、図10は、図9の配線パターンに対応する、より製品イメージに近い配線パターン図である。
図9および図10に示す配線層には、半導体装置20’に対応して設けられたビア群40’を接続する信号配線群10’−2が設けられている。この信号配線群10’−2は、上方の列のビア群40’に含まれるビアと、左斜め下に位置する下方の列のビア群40’に含まれるビアとを接続し、これらビア群40’に対応するインデックスの向きが同じ半導体装置20’同士を電気的に接続する。この信号配線群10’−2は、図1に示した信号配線群10の残りの半分に相当する。この信号配線群10’−2もまた、両端の配線と中央部の配線とで、その配線長が等しい。
図3、図5、図7および図9(あるいは、図4、図6、図8および図10)に示す配線パターンを重ね合わせることにより、基板100が構成される。
本実施の形態では、同じ列に含まれる隣接する半導体同士を接続するのではなく、一方の列に含まれる半導体装置を他方の列に含まれ同一方向に向けられた(インデックスの向きが同じ)半導体装置と接続するようにしたことで、信号配線の等長化を実現することができる。これにより、互いに接続された二つの半導体装置間における信号間スキューの低減を図ることができる。
なお、図3、図5、図7および図9に示す配線パターンでは、ビア群40,40’の中心を通る補助線が描く形状が、図2(a)および(b)を参照した説明とは異なり、線対称になっていない。そのため、信号配線群10−1,10−2と信号配線群10−1’、10−2’との配線長は必ずしも等長とはならない。しかしながら、このような構成であっても、上述したように、互いに接続された二つの半導体装置間における信号間スキューの低減を図ることができる。
以上、本発明について一実施の形態に即して説明したが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、種々の変更等が可能である。例えば、上記実施の形態では4つの配線層を用いる場合について説明したが、それより多い又は少ない配線層からなる多層配線基板を用いてもよい。
本発明の一実施の形態に係る半導体モジュールの概念図である。 (a)および(b)は、それぞれ、図1の半導体モジュールにおけるビア群と信号配線群との関係を説明するための図である。 図1の半導体モジュールに用いられる基板を構成する配線層における配線パターンの一例を示す概略図である。 図3の配線パターンの詳細を示す詳細図である。 図1の半導体モジュールに用いられる基板を構成する他の配線層における配線パターンの一例を示す概略図である。 図5の配線パターンの詳細を示す詳細図である。 図1の半導体モジュールに用いられる基板を構成するさらに他の配線層における配線パターンの一例を示す概略図である。 図7の配線パターンの詳細を示す詳細図である。 図1の半導体モジュールに用いられる基板を構成するさらに他の配線層における配線パターンの一例を示す概略図である。 図9の配線パターンの詳細を示す詳細図である。 従来の半導体モジュールの配線パターンを示す概略図である。 図11の配線パターンの詳細を示す詳細図である。
符号の説明
10,10−1,10−2,10’,10’−1,10’−2 信号配線群
11 信号配線群
20,20’ 半導体装置
40,40’ ビア群
50 補助線
51 補助線に囲まれた領域
52 中心線
100 基板
200 基板

Claims (12)

  1. 矩形形状の複数の半導体装置を、隣接する半導体装置の向きが互いに90度異なるように2列に配列した半導体モジュールにおいて、
    同一方向に向けられた半導体装置同士を異なる方向に向けられた半導体装置を介在させることなく接続するように、一方の列に含まれる半導体装置を他方の列に含まれる半導体装置に接続したことを特徴とする半導体モジュール。
  2. 請求項1に記載の半導体モジュールにおいて、
    一の半導体装置と他の半導体装置とを接続する複数の配線の長さが互いに等しくなるように配線したことを特徴とする半導体モジュール。
  3. 請求項1に記載の半導体モジュールにおいて、
    一方の列に属する半導体装置と他方の列に属する半導体装置とを互い違いに接続するようにしたことを特徴とする半導体モジュール。
  4. 請求項1,2又は3に記載の半導体モジュールにおいて、
    多層配線基板を用いて前記複数の半導体装置間を接続するようにしたことを特徴とする半導体モジュール。
  5. 矩形形状の複数の半導体装置を、隣接する半導体装置の向きが互いに90度異なるように2列に配列した半導体モジュールの配線方法において、
    同一方向に向けられた半導体装置同士を異なる方向に向けられた半導体装置を介在させることなく接続するように、一方の列に含まれる半導体装置を他方の列に含まれる半導体装置に接続することを特徴とする配線方法。
  6. 請求項5に記載の配線方法において、
    一の半導体装置と他の半導体装置とを接続する複数の配線の長さが互いに等しくなるように配線することを特徴とする配線方法。
  7. 請求項5に記載の配線方法において、
    一方の列に属する半導体装置と他方の列に属する半導体装置とを互い違いに接続するようにしたことを特徴とする配線方法。
  8. 請求項5,6又は7に記載の配線方法において、
    多層配線基板を用いて前記複数の半導体装置間を接続するようにしたことを特徴とする配線方法。
  9. 矩形形状の複数の半導体装置を、隣接する半導体装置の向きが互いに90度異なるように2列に配列させて搭載する半導体モジュール用の基板において、
    同一方向に向けられた半導体装置同士を異なる方向に向けられた半導体装置を介在させることなく接続するように、一方の列に含まれる半導体装置を他方の列に含まれる半導体装置に接続する配線を備えることを特徴とする基板。
  10. 請求項9に記載の基板において、
    前記配線は、一の半導体装置と他の半導体装置とを接続する複数の配線を含み、これら複数の配線の長さが互いに等しくなるように設けられていることを特徴とする基板。
  11. 請求項9に記載の基板において、
    一方の列に属する半導体装置と他方の列に属する半導体装置とを互い違いに接続するよう前記配線が設けられていることを特徴とする基板。
  12. 請求項9,10又は11に記載の基板において、
    多層配線基板であることを特徴とする基板。
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