JP5495392B2 - 廃液から有価物を製造する方法 - Google Patents
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- 239000002699 waste material Substances 0.000 title claims description 28
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 22
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title description 27
- 239000000463 material Substances 0.000 title 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 82
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims description 37
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 37
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 37
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 29
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 25
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 25
- 150000003388 sodium compounds Chemical class 0.000 claims description 24
- -1 silicon oxide compound Chemical class 0.000 claims description 20
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 15
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 12
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 12
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 12
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 8
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 8
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 7
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 7
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 claims description 5
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 4
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 claims description 4
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 claims description 4
- ORVGYTXFUWTWDM-UHFFFAOYSA-N silicic acid;sodium Chemical compound [Na].O[Si](O)(O)O ORVGYTXFUWTWDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000004761 hexafluorosilicates Chemical class 0.000 claims 2
- XONPDZSGENTBNJ-UHFFFAOYSA-N molecular hydrogen;sodium Chemical compound [Na].[H][H] XONPDZSGENTBNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 12
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 10
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 9
- 239000003317 industrial substance Substances 0.000 description 8
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 7
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M sodium fluoride Chemical compound [F-].[Na+] PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 4
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 229940104869 fluorosilicate Drugs 0.000 description 4
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 239000011775 sodium fluoride Substances 0.000 description 3
- 235000013024 sodium fluoride Nutrition 0.000 description 3
- BFXAWOHHDUIALU-UHFFFAOYSA-M sodium;hydron;difluoride Chemical compound F.[F-].[Na+] BFXAWOHHDUIALU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- LRCFXGAMWKDGLA-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;hydrate Chemical compound O.O=[Si]=O LRCFXGAMWKDGLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 2
- 239000002440 industrial waste Substances 0.000 description 2
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 2
- 150000003112 potassium compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 2
- SRLLRIILXLQLHZ-UHFFFAOYSA-N sodium;hydrofluoride Chemical compound F.[Na] SRLLRIILXLQLHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 159000000007 calcium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000003100 immobilizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011017 operating method Methods 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 1
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Description
したがって、これらの方法で回収したケイフッ化ナトリウムは、廃水の処理過程でフッ素を除去するための方法において発生した産業廃棄物であって、かなり純度が低く工業用薬品としての価値は極めて低い。
フッ素系廃液処理工程から得られた、フッ化水素酸5.50重量%を含む廃液400kgを原水とし、1m3のポリエチレン容器に取った。これにフッ化水素酸量のモル数の0.28倍の二酸化ケイ素粉末18.5kgを投入し攪拌し、二酸化ケイ素を溶解させてフッ化水素を完全にケイフッ化水素酸にした。そして、過剰分の二酸化ケイ素をろ過機で分離した。
ろ過液を分析して確認したところ、フッ化水素酸の濃度は0.01重量%以下で、ケイフッ化水素酸の濃度は、18.2重量%であった。
このろ過液410kgを1m3の本体が鉄製で内面がポリプロピレンライニングされたジャケット付反応器に計り採り、反応器のジャケットに減圧蒸気を流して液温を45℃に加熱した。
次に、液を攪拌しながら、炭酸水素ナトリウムの粉末103kg(ケイフッ化水素酸のモル数の2.30倍)を炭酸ガスの発生を調整しながら、少しずつ添加した。添加終了後、3時間攪拌をした。そのとき、反応熱も発生して、反応温度は58℃になった。
反応液を1日間放冷した。その後、結晶を遠心ろ過機で分離し後、乾燥させて、ケイフッ化ナトリウム98.9kgを得た。
その分析結果は、純度99.5重量%、平均粒子径(d50)が113μmであった。
フッ素系廃液処理工程から得られた、フッ化水素酸5.70重量%を含む廃液500kgを原水とし、1m3のポリエチレン容器に取った。これにフッ化水素酸量のモル数の0.30倍のニ酸化ケイ素粉末25.7kgを投入し攪拌し、二酸化ケイ素を溶解させてフッ化水素を完全にケイフッ化水素酸にした。そして、過剰分の二酸化ケイ素をろ過機で分離した。
ろ過液を分析して確認したところ、フッ化水素酸の濃度は0.01重量%以下で、ケイフッ化水素酸の濃度は、18.1重量%であった。
この液を攪拌しながら、45℃に加熱した20重量%水酸化ナトリウム溶液312kg(ケイフッ化水素酸のモル数の2.36倍)を80分かけて滴下し、滴下終了後、4時間攪拌した。そのとき、反応温度は48℃になった。
反応液を1日間放冷した後、結晶を遠心ろ過機で分離し後、乾燥させて、ケイフッ化ナトリウム121kgを得た。
その分析結果は、純度99.8重量%、平均粒子径(d50)が65μmであった。
フッ素系廃液処理工程から得られた、フッ化水素酸3.20重量%を含む廃液330kgを原水とし、1m3のポリエチレン容器に取った。これにフッ化水素酸量のモル数の0.25倍の二酸化ケイ素粉末7.91kgを投入し攪拌し、二酸化ケイ素を溶解させてフッ化水素を完全にケイフッ化水素酸にした。そして、過剰分の二酸化ケイ素をろ過機で分離した。
ろ過液を分析して確認したところ、フッ化水素酸の濃度は0.01重量%以下で、ケイフッ化水素酸の濃度は、14.3重量%であった。
この液を攪拌しながら、70℃に加熱した20重量%塩化ナトリウム溶液250kg(ケイフッ化水素酸のモル数の2.56倍)を50分かけて滴下し、滴下終了後、3時間攪拌した。そのとき、反応熱も発生して、反応温度は55℃になった。
反応液を1日間放冷した。その後、結晶を遠心ろ過機で分離し、乾燥させて、ケイフッ化ナトリウム64.5kgを得た。
その分析結果は、純度99.7重量%、平均粒子径(d50)が101μmであった。
フッ素系廃液処理工程から得られた、フッ化水素酸3.20重量%を含む廃液330kgを原水とし、1m3のポリエチレン容器に取った。これにフッ化水素酸量のモル数の0.17倍の二酸化ケイ素粉末6.37kgを投入し攪拌し、二酸化ケイ素を溶解させてフッ化水素を完全にケイフッ化水素酸にした。そして、過剰分の二酸化ケイ素をろ過機で分離した。
ろ過液を分析して確認したところ、フッ化水素酸の濃度は1.30重量%で、ケイフッ化水素酸の濃度は、13.5重量%であった。
この液を攪拌しながら、室温の20重量%塩化ナトリウム溶液188kg(ケイフッ化水素酸のモル数の2.04倍)を50分かけて滴下し、滴下終了後、3時間攪拌した。そのとき、反応熱が発生したが、反応温度は26℃になった。
反応液を1日間放冷した後、実施例3のときの3.5倍の時間をかけて結晶を遠心ろ過機で分離した後、乾燥させて、ケイフッ化ナトリウム52.7kgを得た。
その分析結果は、純度86.7重量%、平均粒子径(d50)が13.5μmであった。さらに、X線回折分析で調査したところ、ケイフッ化ナトリウムの他に、フッ化ナトリウム及び酸性フッ化ナトリウムが含まれており、工業用薬品として要求される品位を大きく下回ることが判明した。
Claims (4)
- フッ素系廃液に含まれるフッ化水素酸と酸化ケイ素化合物とを、酸化ケイ素化合物のケイ素のモル数がフッ化水素酸のモル数に対して0.20から0.33倍で反応させ、その過程で発生するケイフッ化水素酸を、ナトリウム化合物である水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、及び炭酸水素ナトリウムのいずれかと反応させ、ケイフッ化ナトリウムを製造する方法。
- 酸化ケイ素化合物として、二酸化ケイ素、一酸化ケイ素、ケイ酸ナトリウムのいずれかを用いることを特徴とする、請求項1記載のケイフッ化ナトリウムの製造方法。
- ナトリウム化合物である水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウムのいずれかをケイフッ化水素酸のモル数の2.10から3.30倍で反応させることを特徴とする請求項1記載のケイフッ化ナトリウムの製造方法。
- 反応温度を35℃〜70℃の間で調整するか、ナトリウム化合物の水溶液を反応温度が35〜70℃になるように加熱して投入し、ケイフッ化ナトリウムを合成することを特徴とする請求項1又は3記載のケイフッ化ナトリウムの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011115371A JP5495392B2 (ja) | 2011-05-24 | 2011-05-24 | 廃液から有価物を製造する方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011115371A JP5495392B2 (ja) | 2011-05-24 | 2011-05-24 | 廃液から有価物を製造する方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009283556A Division JP5421088B2 (ja) | 2009-12-15 | 2009-12-15 | 廃液から有価物と塩酸を製造する方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011201770A JP2011201770A (ja) | 2011-10-13 |
JP5495392B2 true JP5495392B2 (ja) | 2014-05-21 |
Family
ID=44878847
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011115371A Active JP5495392B2 (ja) | 2011-05-24 | 2011-05-24 | 廃液から有価物を製造する方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5495392B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6467578B2 (ja) * | 2015-04-23 | 2019-02-13 | 株式会社Nsc | ケイフッ化水素酸含有廃液の処理方法 |
JP6095837B1 (ja) | 2016-04-01 | 2017-03-15 | 佐々木化学薬品株式会社 | アルカリ金属塩含有成型体およびそれを用いた酸性水溶液の再生処理方法 |
CN106829983B (zh) * | 2017-03-31 | 2020-03-27 | 瓮福(集团)有限责任公司 | 一种硅酸钠的制备方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57249B2 (ja) * | 1972-12-30 | 1982-01-06 | ||
JPS5934131B2 (ja) * | 1981-03-09 | 1984-08-20 | 三井東圧化学株式会社 | 弗素含有排ガスからの珪弗化ソ−ダの製造方法 |
JP3320441B2 (ja) * | 1992-03-31 | 2002-09-03 | 三井化学株式会社 | ケイフッ化ソーダ組成物 |
JP5101121B2 (ja) * | 2007-02-01 | 2012-12-19 | 森田化学工業株式会社 | フッ化水素酸およびケイフッ化水素酸を含有する廃液から酸成分を分離・回収する方法およびその装置 |
-
2011
- 2011-05-24 JP JP2011115371A patent/JP5495392B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2011201770A (ja) | 2011-10-13 |
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