JP5493404B2 - 光学活性な環状エポキシアリールエステル誘導体の製造法 - Google Patents
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Description
本発明は、前記式（１）の化合物からＮ，Ｎ−二座型光学活性シッフ塩基配位子触媒を使用して前記式（３）で示される光学活性な環状エポキシアリールエステル誘導体を製造する方法に関する。
本発明に関わる光学活性な環状アリールエステル誘導体の製造方法として、後述する様に、様々な例が報告されているが、収率、光学純度及び反応条件で満足すべき報告は一切されていない。これまでに、下記式（８）、下記式（９）、下記式（１０）、下記式（１１）、下記式（１２）、下記式（１３）、下記式（１４）及び下記式（１５）で示される、銅触媒と過安息香酸ｔｅｒｔ−ブチルを使用する方法が報告されている。
しかしながら、これらの反応は、環状オレフィン化合物へのアリール位の不斉収率が４０％ｅｅと著しく低く、工業化に適する光学活性な環状アリールエステル誘導体の製造方法には全く適さない方法であることは明白である。
環状オレフィン化合物へのアリール位の不斉収率を増大させるために、下記式（１３）で示される、銅（ＩＩ）トリフルオロメタンスルホネートとトリスオキサゾリン錯体を使用する方法が報告されている。
しかしながら、この反応の代表例であるシクロペンテンの反応において、０℃で９３ｅ．ｅ．％という高い不斉化を達成しているが、収率が３０％と低く、反応時間が２００時間と長時間を必要としている。シクロヘプテンの反応においても−２０℃で６９ｅ．ｅ．％の不斉化を達成しているが、収率が１０％と低く、反応時間が６７０時間と長時間を必要としている。従って、低温が必要であり、収率が低く、長時間の反応時間が必要であるために、この反応は工業化に適した光学活性な環状アリールエステル誘導体の製造法とは言い難い。
しかしながら、この反応の代表例であるシクロペンテンの反応において、０℃で９３ｅ．ｅ．％という高い不斉化を達成しているが、収率が３０％と低く、反応時間が２００時間と長時間を必要としている。シクロヘプテンの反応においても−２０℃で６９ｅ．ｅ．％の不斉化を達成しているが、収率が１０％と低く、反応時間が６７０時間と長時間を必要としている。従って、低温が必要であり、収率が低く、長時間の反応時間が必要であるために、この反応は工業化に適した光学活性な環状アリールエステル誘導体の製造法とは言い難い。
上記の反応が長時間を要するため、反応時間を短縮すべく、下記式（１４）で示されるフェニルヒドラジンを使用する方法が報告されている。
この反応においては、光学純度８６％ｅｅ、収率８８％とある程度満足すべき結果が得られてはいるが、反応時間が２０日もの長時間を必要としているため、工業化に適する光学活性な環状アリールエステル誘導の製造方法とは言い難い。
この反応においては、光学純度８６％ｅｅ、収率８８％とある程度満足すべき結果が得られてはいるが、反応時間が２０日もの長時間を必要としているため、工業化に適する光学活性な環状アリールエステル誘導の製造方法とは言い難い。
また他の研究者から下記式（１５）から式（１７）で示される類似反応が報告されているが、不斉収率が１７〜６５％ｅｅであり、光学純度では満足すべき結果を得られておらず、工業化に適する光学活性な環状アリールエステル誘導体の製造法とは言い難い。
エム エス カラシュ；ジィ ソスノブスキィー；ジャーナル オブ アメリカン ケミカル ソサイアティー １９５８年 ８０巻 ｐ．７５６（M. S. Kharasch, G. Sosnovsky, J. Am. Chem. Soc. 1958, 80, 756）
エム エス カラシュ；ジィ ソスノブスキィー；エヌ シィ ヤング；ジャーナル オブ アメリカン ケミカル ソサイアティー １９５９年 ８１巻 ｐ．５８１９−５８２４（M. S. Kharasch, G. Sosnovsky, N. C. Yang, J. Am. Chem. Soc. 1959, 81 5819−5824）
ディ ビィ デニィ；アール ナピアー；エイ カンマラタ ジャーナル オブ オーガニック ケミストリー １９６５年 ３０巻 ｐ．３１５１−３１５３（D. B. Denney, R. Napier, A. Cammarata, J. Org. Chem. 1965, 30, 3151−3153）
エイ レヴィナ；ジェイ ムザート テトラヘドロン アシメトリー １９９５年 ６巻 ｐ．１４７−１５６（A. Levina, J. Muzart, Tetrahedron: Asymmetry 1995, 6, 147−156）
エイ レヴィナ；エッチ フランコイセ；ジェイ ムザート ジャーナル オブ オルガノメタリック ケミストリー １９９５年 ４９４巻 ｐ．１６５−１６８（A. Levina, H. Francoise, J. Muzart, J. Organomet. Chem. 1995, 494, 165−168）
エム ティ リスペンス；シィ ゾンダーヴァン；ビィ エル フェリンガ テトラへドロン アシメトリー １９９５年 ６巻 ｐ．６６１−６６４（M. T. Rispens, C. Zondervan, B. L. Feringa, Tetrahedron: Asymmetry 1995, 6, 661−664）
ケイ カワサキ；エス ツムラ；ティ カツキ シンセテックレター １９９５年 ｐ．１２４５−１２４６（K. Kawasaki, S. Tsumura, T. Katasuki, Synlett 1995, 1245−1246）
ジィ セカー；エイ ダッタグプタ；ブィ ケイ シン ジャーナル オブ オーガニック ケミストリー １９９８年 ６３巻 ｐ．２９６１−２９６７（G. Sekar, A. Dattagupta, V. K. Singh, J. Org. Chem. 1998, 63, 2961−2967）
エイ ブィ マルコフ；エム ベラ；ブィ ランガー；ピィー ココブスキー；オーガニック レター ２０００年 ２巻 ｐ．３０４７−３０４９（A. V. Malkov, M, Bella, V. Langer, P. Kocovsky, Org. Lett. 2000, 2, 3047−3049）
ダブリュー エス リィー；エッチ エル クオング；エッチ エル チャン；ダビュル ダビュル チョイ；エル ワイ ニィギー テトラへドロン アシメトリー ２００１年 １２巻 ｐ．１００７−１０１３（W. S. Lee, H. L. Kwong, H. L. Chan, W. W. Choi, L. Y. Ng, Tetrahedron: Asymmetry 2001, 12, 1007−1013）
シィ ボロム；ジェイ シィ フリンソン；ジェイ エルパイフ；シィ モエスナー；テトラヘドロン レター（C. Bolm, J. C. Frison, J. L. Paih, C. Moesner, Tetrahedron Lett. ２００４年 ４５巻 ｐ．５０１９−５０２１．2004, 45, 5019−5021）
前記式（３）で示されるラセミ体の環状エポキシアリールエステル誘導体はサイクロペンタ−１，３−ジエンとｐ−ベンゾキノリンを反応させ、さらに５工程を経て、ラセミ体を取得する方法が報告されている。しかしながら前記式（３）で示される光学活性な環状エポキシアリールエステル誘導体を製造する製造方法としては現在まで十分満足のいく製造方法は一切報告されていない。
グウスケ エフブッシュル；スタン グロサイス；レネ ディ ゲルデアー；フロリス ピィ ジェイ ティ ルテジェス；フロリス エル ヴァン デルフト；ジャーナル オブ オーガニック ケミストリー（Guuske F. Busscher, Stan Groothuys, Rene de Gelder, Floris P. J. T. Rutjes, and Floris L. van Delft J. Org. Chem., ２００４年 ６９巻（１３）ｐ．４４７７−４４８１．2004, 69 (13), 4477-4481）
前記式（１）で示される環状エポキシオレフィン化合物を簡便な操作で、低コスト、低リスク、且つ、温和な条件により、高収率、高光学選択的に前記式（３）で示される光学活性な環状エポキシアリールエステル誘導体を製造する方法を開発し、この製造方法を確立することが望まれている。
従来報告されている環状オレフィン化合物から光学活性な環状アリールエステル誘導体を製造する方法はいろいろ報告されているが、反応原料がエポキシドを有している化合物から光学活性な環状エポキシアリールエステル誘導体を製造する方法は未だ開発されてはいない。
前述の目的は、前記式（１）で示される環状エポキシオレフィン化合物を、前記式（２）で示されるＮ，Ｎ−二座型光学活性シッフ塩基配位子及び銅化合物を触媒として用いて、有機過酸化物と反応させ、選択的不斉酸化反応を行うことにより前記式（３）で示される光学活性な環状エポキシアリールエステル誘導体の製造方法を提供することにある。
従来報告されている環状オレフィン化合物から光学活性な環状アリールエステル誘導体を製造する方法はいろいろ報告されているが、反応原料がエポキシドを有している化合物から光学活性な環状エポキシアリールエステル誘導体を製造する方法は未だ開発されてはいない。
前述の目的は、前記式（１）で示される環状エポキシオレフィン化合物を、前記式（２）で示されるＮ，Ｎ−二座型光学活性シッフ塩基配位子及び銅化合物を触媒として用いて、有機過酸化物と反応させ、選択的不斉酸化反応を行うことにより前記式（３）で示される光学活性な環状エポキシアリールエステル誘導体の製造方法を提供することにある。
本発明者らは、前記式（３）で示される光学活性な環状エポキシアリールエステル誘導体の製造法について鋭意研究した結果、前記式（１）で示される環状エポキシオレフィン化合物を、前記式（２）で示されるＮ，Ｎ−二座型光学活性シッフ塩基配位子及び銅化合物を触媒として用いて、有機過酸化物と反応させ、選択的不斉酸化反応を行うことにより、前記式（３）を効率良く得ることに成功し、本発明を完成するに至った。
本発明は、前記式（１）で示される環状エポキシオレフィン化合物を簡便な操作で、低コスト、低リスク、且つ、温和な条件により、高収率、高光学選択的に前記式（３）式で示される光学活性な環状エポキシアリールエステル誘導体の製造方法に関する。従って、本発明は以下の通りである。
本発明は、前記式（１）で示される環状エポキシオレフィン化合物を簡便な操作で、低コスト、低リスク、且つ、温和な条件により、高収率、高光学選択的に前記式（３）式で示される光学活性な環状エポキシアリールエステル誘導体の製造方法に関する。従って、本発明は以下の通りである。
１．下記式（１）で示される環状エポキシオレフィン化合物を、下記式（２）で示されるＮ，Ｎ−二座型光学活性シッフ塩基配位子及び銅化合物を触媒として用いて、有機過酸化物と反応させ、選択的不斉酸化反応を行うことを特徴とする下記式（３）で示される光学活性な不斉環状エポキシアリールエステル誘導体の製造法：
上記式（２）において、Ｒ１は水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基からなる群から選ばれる低級アルキル基であり、Ｒ２はフェニル基；ｐ−メチル及びｐ−メトキシからなる群から選ばれる置換基を有するフェニル基；又はα又はβのナフチル基；ｐ−メチル及びｐ−メトキシからなる群から選ばれる置換基を有するα又はβのナフチル基；又はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、及びｔｅｒｔ−ブチル基からなる群から選ばれる低級アルキル基を示す。上記式（３）において、Ｒは水素原子、ニトロ基、又はエステル基である。
上記式（２）において、Ｒ１は水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基からなる群から選ばれる低級アルキル基であり、Ｒ２はフェニル基；ｐ−メチル及びｐ−メトキシからなる群から選ばれる置換基を有するフェニル基；又はα又はβのナフチル基；ｐ−メチル及びｐ−メトキシからなる群から選ばれる置換基を有するα又はβのナフチル基；又はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、及びｔｅｒｔ−ブチル基からなる群から選ばれる低級アルキル基を示す。上記式（３）において、Ｒは水素原子、ニトロ基、又はエステル基である。
２．前記有機過酸化物が、下記式（４）で表される、過安息香酸ｔｅｒｔ−ブチルである、上記１．に記載の製造法。
３．前記銅化合物が、下記式（５）で示される六フッ化リン銅テトラアセトニトリル又は下記式（６）で示される銅（Ｉ）トリフルオロメタンスルホネートである、上記１．又は上記２．記載の製造法。
４．前記銅化合物が、下記式（７）で示される銅（ＩＩ）トリフルオロメタンスルホネートであり、反応時にフェニルヒドラジンを添加する、上記１．又は上記２．記載の製造法。
５．前記式（２）のＲ１は水素原子、メチル基又はエチル基であり、Ｒ２はフェニル基、α又はβのナフチル基又はｔｅｒｔ−ブチル基である、上記１．〜４．のいずれか一項記載の製造法。
６．前記式（２）のＲ１はメチル基であり、Ｒ２はｔｅｒｔ−ブチル基である、上記１．〜５．のいずれか一項記載の製造法。
７．アセトン及びメチルエチルケトンから成る群から選択される脂肪族ケトン系溶媒；アセトニトリル、プロピオニトリル及びブチロニトリルから成る群から選択される脂肪族ニトリル系溶媒；塩化メチレン及びクロロホルムから成る群から選択されるハロゲン系溶媒；ジメチルエーテル、ジエチルエーテルから成る群から選択される脂肪族エーテル系溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレンから成る群から選択される芳香族炭化水素系溶媒；酢酸エチル、酢酸プロピルから成る群から選択される脂肪族炭化水素系エステル溶媒；又はジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドから成る群から選択される水溶性極性溶媒を反応溶媒として用いる、上記１．〜６．のいずれか一項記載の製造法。
本発明により、光学活性な環状エポキシアリールエステル誘導体を簡便な操作で、低コスト、低リスク、高収率、高光学選択的に製造することができる。
以下、本発明を実施するための最良の形態（以下、本実施の形態）について詳細に説明する。なお、本発明は、以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。
本発明の製造法は、下記式（１９）で示されるスキームに従った方法である。
この方法においては、Ｎ，Ｎ−二座型光学活性シッフ塩基配位子及び銅触媒を溶媒に溶解し、これを触媒として用いる。この銅触媒はＣｕ（ＣＨ３ＣＮ）４ＰＦ４に代表される銅触媒（Ｉ）を使用するのが必須である。
次に反応系に環状エポキシオレフィン化合物を加え、有機過酸化物を反応させることにより前記式（３）で示される光学活性な環状エポキシアリールエステル誘導体を得ることができる。
次に反応系に環状エポキシオレフィン化合物を加え、有機過酸化物を反応させることにより前記式（３）で示される光学活性な環状エポキシアリールエステル誘導体を得ることができる。
以下、本工程における一態様について説明する。
前記式（２）で表されるＮ，Ｎ−二座型光学活性シッフ塩基配位子及び銅触媒を先ずは溶媒に溶解する。
前記式（２）で表されるＮ，Ｎ−二座型光学活性シッフ塩基配位子及び銅触媒を先ずは溶媒に溶解する。
Ｎ，Ｎ−二座型光学活性シッフ塩基配位子としては、前記式（２）のＲ１が水素原子、メチル基又はエチル基であることが好ましく、Ｒ２がフェニル基、α又はβのナフチル基又はｔｅｒｔ−ブチル基であることが好ましい。Ｎ，Ｎ−二座型光学活性シッフ塩基配位子としては、前記式（３）のＲ１がメチル基であり、Ｒ２がｔｅｒｔ−ブチル基であることが最も好ましい。
銅触媒としては、六フッ化リン銅テトラアセトニトリルで代表される銅（Ｉ）触媒又は、銅（ＩＩ）トリフルオロメタンスルホネートで代表される銅（ＩＩ）触媒を用いることができる。
銅触媒として、銅（ＩＩ）トリフルオロメタンスルホネートに代表される銅（ＩＩ）触媒を用いる場合は、更に、還元剤であるフェニルヒドラジンを添加する。なお、この場合、フェニルヒドラジンを加えることにより、液の色は暗赤色から透明な赤色の反応液に変化する。これは、銅（ＩＩ）触媒が銅（Ｉ）触媒へと反応系中で変化していることを示す。
フェニルヒドラジンの使用量は、銅（ＩＩ）触媒に対して、好ましくは１．０〜１．５倍当量、より好ましくは約１．０倍当量である。
なお、銅触媒として六フッ化リン銅テトラアセトニトリルで代表される銅（Ｉ）触媒を用いる場合は、フェニルヒドラジンを添加する必要はない。
銅触媒として、銅（ＩＩ）トリフルオロメタンスルホネートに代表される銅（ＩＩ）触媒を用いる場合は、更に、還元剤であるフェニルヒドラジンを添加する。なお、この場合、フェニルヒドラジンを加えることにより、液の色は暗赤色から透明な赤色の反応液に変化する。これは、銅（ＩＩ）触媒が銅（Ｉ）触媒へと反応系中で変化していることを示す。
フェニルヒドラジンの使用量は、銅（ＩＩ）触媒に対して、好ましくは１．０〜１．５倍当量、より好ましくは約１．０倍当量である。
なお、銅触媒として六フッ化リン銅テトラアセトニトリルで代表される銅（Ｉ）触媒を用いる場合は、フェニルヒドラジンを添加する必要はない。
反応溶媒としては、特に限定されないが、アセトン、メチルエチルケトン等の脂肪族ケトン系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル等の脂肪族ニトリル系溶媒、塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル等の脂肪族エーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、酢酸エチル、酢酸プロピル等の脂肪族炭化水素系エステル溶媒、又はジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の水溶性極性溶媒である。好ましくは、脂肪族ケトン系溶媒である。
脂肪族ケトン系溶媒としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、メチル−ｎ−ブチルケトン、メチル−ｓｅｃ−ブチルケトン、ジイソブチルケトン、ジエチルケトン、ジイソプロピルケトン、エチルプロピルケトン、ブチルエチルケトン等を用いることができ、好ましくは、アセトン、メチルエチルケトンである。さらに好ましいのはアセトンである。
アセトン等の反応溶媒の使用量は、銅触媒に対し通常５０〜２００倍容量であり、好ましくは９０〜１３０倍容量であり、より好ましくは約１１０倍容量である。
アセトン等の反応溶媒の使用量は、銅触媒に対し通常５０〜２００倍容量であり、好ましくは９０〜１３０倍容量であり、より好ましくは約１１０倍容量である。
次に、アルゴン気流下で環状エポキシオレフィン化合物及び有機過酸化物を加え、反応を実施する。
環状エポキシオレフィン化合物としては、例えば、７−オキサービシクロ［４．１．０］ヘプタ−３−エン、６−オキサービシクロ［３．１．０］ヘキサ−３−エン、８−オキサービシクロ［５．１．０］オクタ−３−エン等が挙げられる。
環状エポキシオレフィン化合物の使用量は、銅触媒に対して、好ましくは８０〜１５０倍当量、より好ましくは約１００倍当量である。
環状エポキシオレフィン化合物の使用量は、銅触媒に対して、好ましくは８０〜１５０倍当量、より好ましくは約１００倍当量である。
有機過酸化物としては過安息香酸エステルが好ましく用いられ、過安息香酸ｔｅｒｔ−ブチルが特に好ましく用いられる。
有機過酸化物の使用量は、銅触媒に対して、好ましくは１０〜３０倍当量、より好ましくは約２０倍当量である。
有機過酸化物の使用量は、銅触媒に対して、好ましくは１０〜３０倍当量、より好ましくは約２０倍当量である。
この時の反応温度は、通常１５〜５０℃であり、好ましくは１０〜３０℃、より好ましくは１５℃〜２５℃である。また、反応時間は、通常０．５〜３時間であり、より好ましくは１．０〜１．５時間である。
光学活性な環状エポキシアリールエステル誘導体の単離、精製は常法により行うことができる。例えば、溶媒による抽出、シリカゲルカラムを用いたクロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー、減圧蒸留、再結晶等の当該分野で公知の方法によって、光学活性な環状エポキシアリールエステル誘導体のラセミ体を単離、精製することができる。
以下、実施例によって本発明をより詳細に説明するが、本発明はこの実施例により何ら限定されるものではない。
全ての反応はシュレンク チューブ（Ｓｃｈｌｅｎｋ ｔｕｂｅｓ）技法と、新たに蒸留した溶媒を使用してアルゴン気流下で実施した。融点は、柳本製作所製のＹａｎａｃｏ ＭＰ−５００ｄで測定した。１Ｈ（４００ＭＨｚ）及び１３Ｃ ＮＭＲ（１００．６ＭＨＺ）スペクトルは、内部標準（０ｐｐｍ）としてテトラメチルシラン（Ｍｅ４Ｓｉ）を使用して日本電子株式会社製のＪＥＯＬ ＪＮＭ−ＬＡ ４００２により測定した。ＮＭＲの記載で使用される略語として、Ｓはシングレット（ｓｉｎｇｌｅｔ）、ｄはダブレット（ｄｏｕｂｌｅｔ）、Ｔはトリプレット（ｔｒｉｐｌｅｔ）、ｑはカルテット（ｑｕａｒｔｅｔ）、ｍはマルチプレット（ｍｕｌｔｉｐｌｅｔ）を意味する。ＩＲスペクトルは、パーキンエルマー社製のＰＥＲＫＩＮ ＥＬＭＥＲ ＦＴ−ＩＲ Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｅｒ ＳＰＥＣＴＲＵＭ １０００を使用して測定した。元素分析は、柳本製作所製のＹａｎａｃｏ ＣＨＮ Ｃｏｒｄｅｒ ＭＴ−５を使用して測定した。ＭＡＳＳスペクトルは、サーモ社製のＴｈｅｒｍｏ Ｑｕｅｓｔ ＬＣＱ ＤＥＣＡ ｐｌｕｓを使用して測定した。光学純度は、試料を１ｄｍ ｃｅｌｌの溶液に調製して堀場製作所製のＨＯＲＩＢＡ ＳＥＰＡ−３００ Ｐｏｌａｒｉｍｅｔｅｒを使用して測定した。シリカゲルカラムは、フジデビィソン社製のＦｕｊｉ Ｓｉｌｙｓｉａ ＢＷ−８２０ＭＨ又はＹＭＣ＊ＧＥＬ Ｓｉｌｉｃａ（６ｎｍ Ｉ−４０−６３ ｕｍ）を用いて分離した。薄層カラムクロマトグラフィー（ＴＬＣ）は、メルク社製のＭｅｒｃｋ ２５ ＴＬＣ ａｌｕｍｉｎｕｍ ｓｈｅｅｔｓ Ｓｉｌｉｃａ ｇｅｌ ６０ Ｆ２５４を用いて分離した。光学分割液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）は、ｌ−に４５５ Ｄｉｏｄｅ Ａｒｒａｙ Ｄｅｔｅｃｔｏｒを装備した日立製作所（製）ＨＩＴＡＣＨＩ ｌ−２０００で測定した。
（参考例１）
（Ｓ）−１−フェニル−Ｎ−（ピリジン−２−イルメチレン）エチルアミンの製造
（Ｓ）−１−フェニル−エチルアミン１３３．２ｍｇ（１．１０ｍｍｏｌ）、ピリジン−２−カルボアルデヒド（１０７．１ｍｇ（１．００ｍｍｏｌ）をトルエン５ｍＬに溶解し、硫酸ナトリウム１．０ｇを加え、この反応溶液を１２時間１１０℃で攪拌した。反応液をろ過後、反応液を減圧留去すると目的物の（Ｓ）−１−フェニル−Ｎ−（ピリジン−２−イルメチレン）エチルアミン１７８．７ｍｇ（収率８５％）が得られた。分析用のサンプルとして事前にトリエチルアミンで中性にしたシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝５／１）を使用して精製した。
（Ｓ）−１−フェニル−Ｎ−（ピリジン−２−イルメチレン）エチルアミン分析値：僅かな黄色オイル；［α］Ｄ ２５：＋３８（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３）；ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）：νｍａｘ＝３０６０，２９７１，１６４５，１５８６，１４９３，１４６７，１４３６，１３７１，１０８０，７６２，７００，６１２ｃｍ−１；１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１．６１（ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，３Ｈ），４．６５（ｑ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，１Ｈ），７．２−７．４（ｍ，６Ｈ），７．７２（ｄｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１．６Ｈｚ，１Ｈ），８．０９（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，１Ｈ），８．４６（Ｓ，１Ｈ），８．６３（ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，１Ｈ）；１３Ｃ ＮＭＲ（１００．６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝２４．５，６９．５，１２１．４，１２４．６，１２６．６，１２６．９，１２８．５，１３６．４，１４４．５，１４９．３，１５４．８，１６０．４。
（Ｓ）−１−フェニル−Ｎ−（ピリジン−２−イルメチレン）エチルアミンの製造
（Ｓ）−１−フェニル−エチルアミン１３３．２ｍｇ（１．１０ｍｍｏｌ）、ピリジン−２−カルボアルデヒド（１０７．１ｍｇ（１．００ｍｍｏｌ）をトルエン５ｍＬに溶解し、硫酸ナトリウム１．０ｇを加え、この反応溶液を１２時間１１０℃で攪拌した。反応液をろ過後、反応液を減圧留去すると目的物の（Ｓ）−１−フェニル−Ｎ−（ピリジン−２−イルメチレン）エチルアミン１７８．７ｍｇ（収率８５％）が得られた。分析用のサンプルとして事前にトリエチルアミンで中性にしたシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝５／１）を使用して精製した。
（Ｓ）−１−フェニル−Ｎ−（ピリジン−２−イルメチレン）エチルアミン分析値：僅かな黄色オイル；［α］Ｄ ２５：＋３８（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３）；ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）：νｍａｘ＝３０６０，２９７１，１６４５，１５８６，１４９３，１４６７，１４３６，１３７１，１０８０，７６２，７００，６１２ｃｍ−１；１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１．６１（ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，３Ｈ），４．６５（ｑ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，１Ｈ），７．２−７．４（ｍ，６Ｈ），７．７２（ｄｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１．６Ｈｚ，１Ｈ），８．０９（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，１Ｈ），８．４６（Ｓ，１Ｈ），８．６３（ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，１Ｈ）；１３Ｃ ＮＭＲ（１００．６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝２４．５，６９．５，１２１．４，１２４．６，１２６．６，１２６．９，１２８．５，１３６．４，１４４．５，１４９．３，１５４．８，１６０．４。
（参考例２）
各種アルドイミンズ配位子（Ａｌｄｉｍｉｎｓ Ｌｉｇａｎｄｓ）の製造
対応するキラルアミン化合物（１．１０ｍｍｏｌ）及びアルデヒド化合物（１．００ｍｍｏｌ）以外は全く参考例１と同様にして各種アルドイミンズ配位子（Ａｌｄｉｍｉｎｓ Ｌｉｇａｎｄｓ）を合成した。
（Ｓ）−Ｎ−［（６−メチルピリジン−２−イル）メチレン］−１−フェニルエチルアミン：収率８３％；僅かな黄色オイル；［α］Ｄ ２５：＋５．６（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３）；ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）：νｍａｘ＝２９７１，２８６２，１６４６，１５９１，１４５６，１３６９，１０８５，７９２，７６４，６９９ｃｍ−１；１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１．６０（ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，３Ｈ），２．５８（Ｓ，３Ｈ），４．６２（ｑ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，１Ｈ），７．１６（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１Ｈ），７．２３（ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，１Ｈ），７．３４（Ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），７．４−７．５（ｍ，２Ｈ），７．６１（ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．９２（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），８．４５（Ｓ，１Ｈ）；１３Ｃ ＮＭＲ（１００．６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝２４．３，２４．５，６９．５，１１８．４，１２４．３，１２６．７，１２６．９，１２８．５，１３６．７，１４４．６，１５４．３，１５８．０，１６０．８。
（Ｓ）−１−フェニル−Ｎ−（キノリン−２−イルメチレン）−エチルアミン：収率８２％；黄色固体（再結晶溶媒：アセトニトリル）；融点９０−９２℃；［α］Ｄ ２６：−５４（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３）；ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）：νｍａｘ＝２９６６，２８６０，１６３３，１５９６，１５０４，１４５２，１３６７，１０８６，８３５，７７４，７５９，７０６ｃｍ−１；１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１．６５（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），４．７２（ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１Ｈ），７．２−７．３（ｍ，１Ｈ），７．３−７．４（ｍ，２Ｈ），７．４８（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），７．５−７．６（ｍ，１Ｈ），７．７−７．８（ｍ，１Ｈ），７．８３（ｄ，Ｊ＝１０．４Ｈｚ，１Ｈ），８．１３（ｄ，８．４Ｈｚ，１Ｈ），８．１７（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），８．２６（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），８．６４（Ｓ，１Ｈ）；１３Ｃ ＮＭＲ（１００．６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝２４．６，６９．６，１１８．６，１２６．７，１２７．０，１２７．４，１２７．７，１２８．５，１２８．８，１２９．６，１２９．７，１３６．４，１４４．５，１４７．８，１５５．１，１６０．９。
（Ｓ）−１−（ナフタレン−１−イル）−Ｎ−（キノリン−２−イルメチレン）−エチルアミン：収率８４％ 黄色オイル；［α］Ｄ ２６：＋１５２（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３）；ＩＲスペクトル（Ｎｕｊｏｌ）：νｍａｘ＝２９７７，２８６４，１６４９，１５９５，１５０２，１４２９，１３６９，１３０４，１１１９，９５９，８３７，７７８，７５３，６１９ｃｍ−１；１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１．７９（ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，３Ｈ），５．５４（ｑ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，１Ｈ），７．５−７．６（ｍ，４Ｈ），７．７−７．９（ｍ，５Ｈ），８．１０（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），８．１８（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），８．２７（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），８．３１（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），８．６８（Ｓ，１Ｈ）；１３Ｃ ＮＭＲ（１００．６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝２４．１，６５．３，１１８．６，１２３．６，１２４．１、１２５．４，１２５．６，１２５．９，１２７．３，１２７．６，１２７．７，１２８．８，１２８．９，１２９．５，１２９．７，１３０．７，１３４．０，１３６．４，１４０．３，１４７．７，１５５．１，１６１．２。
（Ｓ）−３，３−ジメチル−Ｎ−（キノリン−２−イルメチレン）ブタン−２−アミン： 収率８１％；黄色オイル；［α］Ｄ ２６：＋１５２（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３）；ＩＲスペクトル（ｔｈｉｎ ｆｉｌｍ）：νｍａｘ＝２９５８，２８６６，１６４６，１５９５，１５０２，１４５８，１３９３，１３６４，１２０４，１１２１，９６１，８３４，７５０，６２０ｃｍ−１；１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝０．９８（Ｓ，９Ｈ），１．２０（ｄ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，３Ｈ），３．１５（ｑ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，１Ｈ），７．５−７．６（ｍ，１Ｈ），７．７−７．８（ｍ，１Ｈ），７．８３（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），８．１−８．２（ｍ，３Ｈ），８．５０（Ｓ，１Ｈ）；１３Ｃ ＮＭＲ（１００．６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１７．３，２６．６，３４．３，７５．３，１１８．６，１２７．２，１２７．７，１２８．７，１２９．５，１２９．６，１３６．３，１４７．８，１５５．３，１６０．０；ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ＝２４１．４（Ｍ＋Ｈ）＋，２６３．３（Ｍ＋Ｎａ）＋；Ａｎａｌ．ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ Ｃ１６Ｈ２０Ｎ２：Ｃ ７９．９６，Ｈ ８．３９，Ｎ １１．６６；Ｆｏｕｎｄ：Ｃ ７９．８９，Ｈ ８．３３，Ｎ １１．４０。
各種アルドイミンズ配位子（Ａｌｄｉｍｉｎｓ Ｌｉｇａｎｄｓ）の製造
対応するキラルアミン化合物（１．１０ｍｍｏｌ）及びアルデヒド化合物（１．００ｍｍｏｌ）以外は全く参考例１と同様にして各種アルドイミンズ配位子（Ａｌｄｉｍｉｎｓ Ｌｉｇａｎｄｓ）を合成した。
（Ｓ）−Ｎ−［（６−メチルピリジン−２−イル）メチレン］−１−フェニルエチルアミン：収率８３％；僅かな黄色オイル；［α］Ｄ ２５：＋５．６（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３）；ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）：νｍａｘ＝２９７１，２８６２，１６４６，１５９１，１４５６，１３６９，１０８５，７９２，７６４，６９９ｃｍ−１；１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１．６０（ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，３Ｈ），２．５８（Ｓ，３Ｈ），４．６２（ｑ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，１Ｈ），７．１６（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１Ｈ），７．２３（ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，１Ｈ），７．３４（Ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），７．４−７．５（ｍ，２Ｈ），７．６１（ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．９２（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），８．４５（Ｓ，１Ｈ）；１３Ｃ ＮＭＲ（１００．６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝２４．３，２４．５，６９．５，１１８．４，１２４．３，１２６．７，１２６．９，１２８．５，１３６．７，１４４．６，１５４．３，１５８．０，１６０．８。
（Ｓ）−１−フェニル−Ｎ−（キノリン−２−イルメチレン）−エチルアミン：収率８２％；黄色固体（再結晶溶媒：アセトニトリル）；融点９０−９２℃；［α］Ｄ ２６：−５４（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３）；ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）：νｍａｘ＝２９６６，２８６０，１６３３，１５９６，１５０４，１４５２，１３６７，１０８６，８３５，７７４，７５９，７０６ｃｍ−１；１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１．６５（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），４．７２（ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１Ｈ），７．２−７．３（ｍ，１Ｈ），７．３−７．４（ｍ，２Ｈ），７．４８（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），７．５−７．６（ｍ，１Ｈ），７．７−７．８（ｍ，１Ｈ），７．８３（ｄ，Ｊ＝１０．４Ｈｚ，１Ｈ），８．１３（ｄ，８．４Ｈｚ，１Ｈ），８．１７（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），８．２６（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），８．６４（Ｓ，１Ｈ）；１３Ｃ ＮＭＲ（１００．６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝２４．６，６９．６，１１８．６，１２６．７，１２７．０，１２７．４，１２７．７，１２８．５，１２８．８，１２９．６，１２９．７，１３６．４，１４４．５，１４７．８，１５５．１，１６０．９。
（Ｓ）−１−（ナフタレン−１−イル）−Ｎ−（キノリン−２−イルメチレン）−エチルアミン：収率８４％ 黄色オイル；［α］Ｄ ２６：＋１５２（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３）；ＩＲスペクトル（Ｎｕｊｏｌ）：νｍａｘ＝２９７７，２８６４，１６４９，１５９５，１５０２，１４２９，１３６９，１３０４，１１１９，９５９，８３７，７７８，７５３，６１９ｃｍ−１；１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１．７９（ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，３Ｈ），５．５４（ｑ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，１Ｈ），７．５−７．６（ｍ，４Ｈ），７．７−７．９（ｍ，５Ｈ），８．１０（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），８．１８（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），８．２７（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），８．３１（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），８．６８（Ｓ，１Ｈ）；１３Ｃ ＮＭＲ（１００．６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝２４．１，６５．３，１１８．６，１２３．６，１２４．１、１２５．４，１２５．６，１２５．９，１２７．３，１２７．６，１２７．７，１２８．８，１２８．９，１２９．５，１２９．７，１３０．７，１３４．０，１３６．４，１４０．３，１４７．７，１５５．１，１６１．２。
（Ｓ）−３，３−ジメチル−Ｎ−（キノリン−２−イルメチレン）ブタン−２−アミン： 収率８１％；黄色オイル；［α］Ｄ ２６：＋１５２（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３）；ＩＲスペクトル（ｔｈｉｎ ｆｉｌｍ）：νｍａｘ＝２９５８，２８６６，１６４６，１５９５，１５０２，１４５８，１３９３，１３６４，１２０４，１１２１，９６１，８３４，７５０，６２０ｃｍ−１；１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝０．９８（Ｓ，９Ｈ），１．２０（ｄ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，３Ｈ），３．１５（ｑ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，１Ｈ），７．５−７．６（ｍ，１Ｈ），７．７−７．８（ｍ，１Ｈ），７．８３（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），８．１−８．２（ｍ，３Ｈ），８．５０（Ｓ，１Ｈ）；１３Ｃ ＮＭＲ（１００．６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１７．３，２６．６，３４．３，７５．３，１１８．６，１２７．２，１２７．７，１２８．７，１２９．５，１２９．６，１３６．３，１４７．８，１５５．３，１６０．０；ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ＝２４１．４（Ｍ＋Ｈ）＋，２６３．３（Ｍ＋Ｎａ）＋；Ａｎａｌ．ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ Ｃ１６Ｈ２０Ｎ２：Ｃ ７９．９６，Ｈ ８．３９，Ｎ １１．６６；Ｆｏｕｎｄ：Ｃ ７９．８９，Ｈ ８．３３，Ｎ １１．４０。
（参考例３）
メチル２−キノリイルケトンの製造
無水エーテル５０ｍＬに２−キノリンカルボニトリル２．０ｇ（１３．０ｍｍｏｌ）を溶解した溶液に、事前にマグネシウム０．３４３ｇ（１４．３ｍｍｏｌ）とヨウ化メチル２．０５ｇ（１４．３ｍｍｏｌ）を無水ジエチルエーテル３０ｍＬ中で反応させて得たヨウ化マグネシウムメチル溶液を０℃で冷やしながら滴下した。滴下終了後、反応液を室温まで戻し、一晩攪拌した。０℃に冷却し、反応液を水氷で反応を停止させ、かつ２モル硫酸（２５ｍＬ、５０ｍｍｏＬ）で完全に停止させた。反応液は室温にて５時間攪拌し、水酸化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層と水層を分離して、さらに水層をジエチルエーテル３０ｍＬで３回抽出した。これらの有機層は水で２回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。ろ過後有機層を留去して、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝２０／１）にて分離して目的物の無色固体のメチル２−キノリイルケトン１．２５ｇ（収率５６％）を得た。融点：５０−５１℃ ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）：νｍａｘ＝３０１２，１６９１，１５９２，１５０４，１３５５，１３０６，１２８７，１１２３，９４２，８３８，７５６，６５８ｃｍ−１；１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝２．８８（Ｓ，３Ｈ），７．６５（ｔｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１．２Ｈｚ，１Ｈ），７．７９（ｔｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，１．２Ｈｚ，１Ｈ），７．８７（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），８．１３（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ），８．２０（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ），８．２７（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ）；１３Ｃ ＮＭＲ（１００．６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝２５．５，１１７．９，１２７．６，１２８．５，１２９．５，１３０．０，１３０．６，１３６．８，１４７．３，１５３．３，２００．７。
メチル２−キノリイルケトンの製造
無水エーテル５０ｍＬに２−キノリンカルボニトリル２．０ｇ（１３．０ｍｍｏｌ）を溶解した溶液に、事前にマグネシウム０．３４３ｇ（１４．３ｍｍｏｌ）とヨウ化メチル２．０５ｇ（１４．３ｍｍｏｌ）を無水ジエチルエーテル３０ｍＬ中で反応させて得たヨウ化マグネシウムメチル溶液を０℃で冷やしながら滴下した。滴下終了後、反応液を室温まで戻し、一晩攪拌した。０℃に冷却し、反応液を水氷で反応を停止させ、かつ２モル硫酸（２５ｍＬ、５０ｍｍｏＬ）で完全に停止させた。反応液は室温にて５時間攪拌し、水酸化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層と水層を分離して、さらに水層をジエチルエーテル３０ｍＬで３回抽出した。これらの有機層は水で２回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。ろ過後有機層を留去して、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝２０／１）にて分離して目的物の無色固体のメチル２−キノリイルケトン１．２５ｇ（収率５６％）を得た。融点：５０−５１℃ ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）：νｍａｘ＝３０１２，１６９１，１５９２，１５０４，１３５５，１３０６，１２８７，１１２３，９４２，８３８，７５６，６５８ｃｍ−１；１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝２．８８（Ｓ，３Ｈ），７．６５（ｔｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１．２Ｈｚ，１Ｈ），７．７９（ｔｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，１．２Ｈｚ，１Ｈ），７．８７（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），８．１３（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ），８．２０（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ），８．２７（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ）；１３Ｃ ＮＭＲ（１００．６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝２５．５，１１７．９，１２７．６，１２８．５，１２９．５，１３０．０，１３０．６，１３６．８，１４７．３，１５３．３，２００．７。
（参考例４）
エチル２−キノリイルケトンの製造
ヨウ化マグネシウムエチル溶液（１．０Ｍテトラヒドロフラン）を用いる以外は参考例３のメチル２−キノリイルケトン製造と全く同様にして反応を実施した。
収率 ６２％；無色固体；融点；５６−５７℃；ＩＲ スペクトル（ＫＢｒ）：νｍａｘ＝２９７７，１６９２，１５６０，１４６０，１３９９，１３５８，１１１５，９６８，９３５，８０６，７８９，７５３，６２１ｃｍ−１；１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１．２８（ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，３Ｈ），３．４３（ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ），７．６４（ｔｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，０．８Ｈｚ，１Ｈ），７．７８（ｔｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，１．２Ｈｚ，１Ｈ），７．８７（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），８．１４（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），８．２０（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），８．２６（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ）；１３Ｃ ＮＭＲ（１００．６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝８．１，３０．９，１１８．２，１２７．７，１２８．４，１２９．６，１２９．９，１３０．５，１３６．９，１４７．２，１５３．１，２０３．２。
エチル２−キノリイルケトンの製造
ヨウ化マグネシウムエチル溶液（１．０Ｍテトラヒドロフラン）を用いる以外は参考例３のメチル２−キノリイルケトン製造と全く同様にして反応を実施した。
収率 ６２％；無色固体；融点；５６−５７℃；ＩＲ スペクトル（ＫＢｒ）：νｍａｘ＝２９７７，１６９２，１５６０，１４６０，１３９９，１３５８，１１１５，９６８，９３５，８０６，７８９，７５３，６２１ｃｍ−１；１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１．２８（ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，３Ｈ），３．４３（ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ），７．６４（ｔｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，０．８Ｈｚ，１Ｈ），７．７８（ｔｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，１．２Ｈｚ，１Ｈ），７．８７（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），８．１４（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），８．２０（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），８．２６（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ）；１３Ｃ ＮＭＲ（１００．６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝８．１，３０．９，１１８．２，１２７．７，１２８．４，１２９．６，１２９．９，１３０．５，１３６．９，１４７．２，１５３．１，２０３．２。
（参考例５）
各種Ｎ，Ｎ−二座型光学活性シッフ塩基配位子の製造
（Ｓ）−３，３−ジメチル−Ｎ−｛１−（キノリンル−２−イル）エチルイデン｝ブタン−２−アミンの製造
対応するケトン化合物（２．０ｍｍｏｌ）及びキラルアミン化合物（３．２ｍｍｏｌ）及びトリエチルアミン４０４．８ｍｇ（４．０ｍｍｏｌ）をトルエン２０ｍＬに溶解した。この溶液に３ｍＬのトルエンに溶解したテトラクロロチタン（１３５μｌ，１．２ｍｍｏｌ）を滴下した。室温にてさらに一時間攪拌後、反応液を９０℃にて２４時間攪拌した。この溶液を０℃まで冷却し、１Ｍの水酸化ナトリウム水溶液１０ｍＬを加えて反応を停止した。酢酸エチル２０ｍＬで３回抽出した。有機層は１Ｍの水酸化ナトリウム水溶液１０ｍＬ及び水１０ｍＬで３回洗浄後、硫酸ナトリムで乾燥した。ろ過後溶媒を留去して、Ｎ，Ｎ−二座型光学活性シッフ塩基配位子を合成した。
（Ｓ）−３，３−ジメチル−Ｎ−｛１−（キノリンル−２−イル）エチルイデン｝ブタン−２−アミン 収率：９２％；無色の針状結晶（再結晶溶媒；アセトニトリル）；融点；９７−９９℃；［α］Ｄ ２７：＋１０５（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３）；ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）：νｍａｘ＝２９７０，２８６７，１６３３，１５９６，１５５８，１４９９，１３６６，１１２７，８４２，７６３，６２０ｃｍ−１；１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝０．９８（Ｓ，９Ｈ），１．０８（ｄ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，３Ｈ），２．４９（Ｓ，３Ｈ），３．５０（ｑ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，１Ｈ），７．５２（ｔｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，０．８Ｈｚ，１Ｈ），７．６８（ｔｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，０．８Ｈｚ，１Ｈ），７．８０（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），８．０−８．１（Ｍ，２Ｈ），８．３３（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ）．１３Ｃ ＮＭＲ（１００．６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１２．９，１５．５，２６．５，３４．８，６５．０，１１９．０，１２６．７，１２７．５，１２８．３，１２９．１，１２９．８，１３５．７，１４７．２，１５８．２，１６３．４；ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ＝２５５．３（Ｍ＋Ｈ）＋，２７７．３（Ｍ＋Ｎａ）＋；計算値 Ｃ１７Ｈ２２Ｎ２：Ｃ ８０．２７，Ｈ ８．７２，Ｎ １１．０１；実測値：Ｃ ７９．９７，Ｈ ８．８９，Ｎ １１．０１．
（Ｓ）−１−（ナフタレン−１−イル）−Ｎ−｛１−（キノリンル−２−イル）エチルイデン｝エチルアミン
収率：８０％；黄色の針状結晶（再結晶溶媒；メタノール）；融点 ：１１１−１１２℃；［α］Ｄ ２６：＋２１５．４（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３）；ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）：νｍａｘ＝２９７１，１６４０，１５９３，１５５９，１５０１，１４４５，１３５３，１１２９，８３７，８００，７８１，７５８，７３６，６２４ｃｍ−１；１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１．７６（ｄ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，３Ｈ），２．５３（Ｓ，３Ｈ），５．７０（ｑ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，１Ｈ），７．５−７．６（Ｍ，４Ｈ），７．７０（ｑｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，１Ｈ），７．７５（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），７．８２（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），７．８−７．９（Ｍ，２Ｈ），８．１１（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），８．１６（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ），８．３４（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），８．４９（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ）；１３Ｃ ＮＭＲ（１００．６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１４．０，２４．３，５７．３，１１９．１，１２３．６，１２４．１、１２５．３，１２５．８，１２６．９，１２７．２，１２７．５，１２８．５，１２９．０，１２９．２，１２９．９，１３４．１，１３５．９，１４２．０，１４７．２，１６５．９；ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ＝３２５．３（Ｍ＋Ｈ）＋，３４７．３（Ｍ＋Ｎａ）＋
（Ｓ）−３，３−ジメチル−Ｎ−｛１−（キノリンル−２−イル）プロピルイデン｝ブタン−２−アミン
収率：８９％；無色の針状結晶（再結晶溶媒；アセトニトリル）；融点；６４−６５℃；［α］Ｄ ２１：＋１０８（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３）；ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）：νｍａｘ＝２９６７，２８６６，１６３０，１５５８，１５００，１４５５，１３６１，１１３０，８３５，７６１，６２０ｃｍ−１；１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝０．９９（Ｓ，９Ｈ），１．１０（ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，３Ｈ），１．１５（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），２．９−３．０（Ｍ，１Ｈ），３．２−３．３（Ｍ，１Ｈ），３．５４（ｑ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，１Ｈ），７．５２（ｔｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，０．８Ｈｚ，１Ｈ），７．６９（ｔｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，１．２Ｈｚ，１Ｈ），７．８０（ｄｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，０．８Ｈｚ，１Ｈ），８．１０（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），８．２８（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ）；１３Ｃ ＮＭＲ（１００．６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１２．４，１６．５，１９．６，２６．５，３４．６，６４．２，１１９．６，１２６．６，１２７．４，１２８．３，１２９．０，１２９．９，１３５．６，１４７．３，１５７．３，１６８．２；ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ＝２６９．４（Ｍ＋Ｈ）＋，２９１．３（Ｍ＋Ｎａ）＋；計算値 Ｃ１８Ｈ２４Ｎ２：Ｃ ８０．５５，Ｈ ９．０１，Ｎ １０．４４；実測値：Ｃ ８０．２３，Ｈ ９．００，Ｎ １０．６４。
各種Ｎ，Ｎ−二座型光学活性シッフ塩基配位子の製造
（Ｓ）−３，３−ジメチル−Ｎ−｛１−（キノリンル−２−イル）エチルイデン｝ブタン−２−アミンの製造
対応するケトン化合物（２．０ｍｍｏｌ）及びキラルアミン化合物（３．２ｍｍｏｌ）及びトリエチルアミン４０４．８ｍｇ（４．０ｍｍｏｌ）をトルエン２０ｍＬに溶解した。この溶液に３ｍＬのトルエンに溶解したテトラクロロチタン（１３５μｌ，１．２ｍｍｏｌ）を滴下した。室温にてさらに一時間攪拌後、反応液を９０℃にて２４時間攪拌した。この溶液を０℃まで冷却し、１Ｍの水酸化ナトリウム水溶液１０ｍＬを加えて反応を停止した。酢酸エチル２０ｍＬで３回抽出した。有機層は１Ｍの水酸化ナトリウム水溶液１０ｍＬ及び水１０ｍＬで３回洗浄後、硫酸ナトリムで乾燥した。ろ過後溶媒を留去して、Ｎ，Ｎ−二座型光学活性シッフ塩基配位子を合成した。
（Ｓ）−３，３−ジメチル−Ｎ−｛１−（キノリンル−２−イル）エチルイデン｝ブタン−２−アミン 収率：９２％；無色の針状結晶（再結晶溶媒；アセトニトリル）；融点；９７−９９℃；［α］Ｄ ２７：＋１０５（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３）；ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）：νｍａｘ＝２９７０，２８６７，１６３３，１５９６，１５５８，１４９９，１３６６，１１２７，８４２，７６３，６２０ｃｍ−１；１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝０．９８（Ｓ，９Ｈ），１．０８（ｄ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，３Ｈ），２．４９（Ｓ，３Ｈ），３．５０（ｑ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，１Ｈ），７．５２（ｔｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，０．８Ｈｚ，１Ｈ），７．６８（ｔｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，０．８Ｈｚ，１Ｈ），７．８０（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），８．０−８．１（Ｍ，２Ｈ），８．３３（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ）．１３Ｃ ＮＭＲ（１００．６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１２．９，１５．５，２６．５，３４．８，６５．０，１１９．０，１２６．７，１２７．５，１２８．３，１２９．１，１２９．８，１３５．７，１４７．２，１５８．２，１６３．４；ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ＝２５５．３（Ｍ＋Ｈ）＋，２７７．３（Ｍ＋Ｎａ）＋；計算値 Ｃ１７Ｈ２２Ｎ２：Ｃ ８０．２７，Ｈ ８．７２，Ｎ １１．０１；実測値：Ｃ ７９．９７，Ｈ ８．８９，Ｎ １１．０１．
（Ｓ）−１−（ナフタレン−１−イル）−Ｎ−｛１−（キノリンル−２−イル）エチルイデン｝エチルアミン
収率：８０％；黄色の針状結晶（再結晶溶媒；メタノール）；融点 ：１１１−１１２℃；［α］Ｄ ２６：＋２１５．４（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３）；ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）：νｍａｘ＝２９７１，１６４０，１５９３，１５５９，１５０１，１４４５，１３５３，１１２９，８３７，８００，７８１，７５８，７３６，６２４ｃｍ−１；１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１．７６（ｄ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，３Ｈ），２．５３（Ｓ，３Ｈ），５．７０（ｑ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，１Ｈ），７．５−７．６（Ｍ，４Ｈ），７．７０（ｑｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，１Ｈ），７．７５（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），７．８２（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），７．８−７．９（Ｍ，２Ｈ），８．１１（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），８．１６（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ），８．３４（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），８．４９（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ）；１３Ｃ ＮＭＲ（１００．６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１４．０，２４．３，５７．３，１１９．１，１２３．６，１２４．１、１２５．３，１２５．８，１２６．９，１２７．２，１２７．５，１２８．５，１２９．０，１２９．２，１２９．９，１３４．１，１３５．９，１４２．０，１４７．２，１６５．９；ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ＝３２５．３（Ｍ＋Ｈ）＋，３４７．３（Ｍ＋Ｎａ）＋
（Ｓ）−３，３−ジメチル−Ｎ−｛１−（キノリンル−２−イル）プロピルイデン｝ブタン−２−アミン
収率：８９％；無色の針状結晶（再結晶溶媒；アセトニトリル）；融点；６４−６５℃；［α］Ｄ ２１：＋１０８（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３）；ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）：νｍａｘ＝２９６７，２８６６，１６３０，１５５８，１５００，１４５５，１３６１，１１３０，８３５，７６１，６２０ｃｍ−１；１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝０．９９（Ｓ，９Ｈ），１．１０（ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，３Ｈ），１．１５（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），２．９−３．０（Ｍ，１Ｈ），３．２−３．３（Ｍ，１Ｈ），３．５４（ｑ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，１Ｈ），７．５２（ｔｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，０．８Ｈｚ，１Ｈ），７．６９（ｔｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，１．２Ｈｚ，１Ｈ），７．８０（ｄｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，０．８Ｈｚ，１Ｈ），８．１０（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），８．２８（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ）；１３Ｃ ＮＭＲ（１００．６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１２．４，１６．５，１９．６，２６．５，３４．６，６４．２，１１９．６，１２６．６，１２７．４，１２８．３，１２９．０，１２９．９，１３５．６，１４７．３，１５７．３，１６８．２；ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ＝２６９．４（Ｍ＋Ｈ）＋，２９１．３（Ｍ＋Ｎａ）＋；計算値 Ｃ１８Ｈ２４Ｎ２：Ｃ ８０．５５，Ｈ ９．０１，Ｎ １０．４４；実測値：Ｃ ８０．２３，Ｈ ９．００，Ｎ １０．６４。
（実施例１）
４，５−エポキシーシクロヘキセンの合成
水１５０ｍＬに水溶性炭酸水素ナトリウム（２５．２ｇ、３００ｍＬ）溶液に、１，４−シクロヘキサジエン１６．０ｇ（２００ｍｍｏｌ）及びメタクロロ過安息香酸５０．５ｇ（１９０ｍｍｏｌ）を溶解した塩化メチレン２５０ｍＬを数回に分けて、氷で冷やしながら加えた。０℃で１時間及び室温で３時間反応液を攪拌した。その後、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液を加えて、１時間室温で反応液を攪拌した。有機層を分液し、水層は塩化メチレン５０ｍＬで２回抽出した。先程の有機層とこの抽出した塩化メチレンを合わせて、この有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリムで乾燥した。塩化メチレンを減圧下（４０ＫＰａ、５５℃）で留去し、素生成物の無色液体の４,５−エポキシーシクロヘキセン１５．３ｇ（１６０ｍｍｍｏｌ）を得た。収率８０％。１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝２．４２−２．５９（ｍ、４Ｈ）、３．２４（ｍ、２Ｈ）、５．４３（ｓ、２Ｈ） １３Ｃ ＮＭＲ（１００．６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝２５．０，５１，０，１２１．６.
ｔｒａｎｓ−４−ニトローベンゾイックアッシド−７−オキサービシクロ［４．１．０］ヘプタ−３−エンー２−イルエステルの合成
（Ｓ）−３，３−ジメチル−Ｎ−｛１−（キノリンル−２−イル）エチルイデン｝ブタン−２−アミン６１０ｍｇ（２．４０ｍｍｏｌ）と六フッ化リン銅テトラアセトニトリル７６０ｍｇ（０．２０ｍｍｏｌ）をアセトン１００ｍＬに溶解し、室温で１時間攪拌後、反応液は暗赤色の反応液に変化した。次にアルゴン気流下で４，５−エポキシーシクロヘキセン１５．４ｇ（１６０ｍｍｏｌ）を滴下した。過安息香酸ｔｅｒｔ−ブチル１５．６ｇ（８０．０ｍｍｏｌ）をアセトン２０ｍＬに溶解し滴下した。反応液は緑色に変化した。反応温度を２５℃、１２０分間放置した。アセトンを減圧留去し、残渣に酢酸エチル２００ｍＬを加えた。この有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水３０ｍＬで２回洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後溶媒を留去し、この残渣を短いシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝８／１）にて精製を行うと、オイル状の素（１Ｓ，２Ｓ，６Ｓ）−７−オキサービシクロ［４．１．０］ヘプタ−３−エンー２−イルベンゾエイト（(1S, 2S, 6S)-7-oxa-bicyclo[4.1.0]hept-3-en-2-yl benzoate）１２．５ｇを得た。この化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー及び再結晶で精製した。Ｒｆ＝０．４（ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）；融点 ６０−６２℃；［α］Ｄ ２１：＋２０１（ｃ ０．３，ＣＨＣｌ３）８５％ｅ．ｅ；１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝２．６０−２．７１（ｍ、２Ｈ）、３．３８（ｍ、２Ｈ）、５．７０−５．８０（ｍ、３Ｈ）、７．４０−７．５０（ｍ、２Ｈ）、７．５０−７．６０（ｍ、１Ｈ）、８．００−８．１０（ｍ、２Ｈ）；１３Ｃ ＮＭＲ（１００．６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝２５．０，５０．０,５１．４，６５．５,１２０．９、１２６．９、１２８．４、１２９．７、１３０．０、１３３．２、１６５．９；ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ＝２１７．２（Ｍ＋Ｈ）＋；計算値 Ｃ１３Ｈ１２Ｏ３：Ｃ ７２．２１，Ｈ ５．５９，；実測値：Ｃ７２．２１，Ｈ ５．５９．
このオイル状化合物にメタノール１００ｍＬ、ナトリム６５ｍｇ（２．８２ｍｍｏｌ）及びメタノール６ｍＬで合成したナトリウムメトキシド溶液を加え、室温で２時間攪拌した。原料は無くなった事をＴＬＣで確認し、酢酸０．１８ｇ（３．０ｍｍｏｌ）を含むメタノールで反応を停止した。（１Ｓ，２Ｓ，６Ｓ）−７−オキサービシクロ［４．１．０］ヘプタ−３−エンー２−オール（(1S, 2S, 6S)-7-oxa-bicyclo[4.1.0]hept-3-en-2-ol）をシリカゲルカラムクロマトグラフィー及び再結晶で精製した。無色液体; Ｒｆ＝０．１８（ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）；；融点 ６０−６２℃；［α］Ｄ ２１：＋１１９（ｃ ０．５，ＣＨＣｌ３）９９．１％ｅ．ｅ．｛ガスクロマトグラフィーで光学純度を決定。測定条件：カラム β-ＤＥＸ−２２５（ＳＵＰＥＬＣＯＲ） カラムオーブン温度（１５０℃） （１Ｒ，２Ｓ，６Ｓ）異性体（主要化合物）の保持時間：７．１７分, （１Ｓ，２Ｒ，６Ｒ）異性体（副化合物）の保持時間：８．５７分 ；１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝２．０３（ｂｒｓ １Ｈ）,２．５５−２．５９（ｍ、２Ｈ），３．２５（ｂｒｓ １Ｈ），３．３２（ｂｒｓ １Ｈ），４．４８（ｂｒｓ １Ｈ）,５．５８−５．６２（ｍ、１Ｈ）、５．６７−５．７１（ｍ、１Ｈ）；１３Ｃ ＮＭＲ（１００．６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝２５．０，５０．２,５３．６，６２．８,１２４．６、１２４．７；ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ＝１１３．０（Ｍ＋Ｈ）＋
メタノールを完全に留去し、残渣を塩化メチレン１５０ｍＬ及びトリエチルアミン１０ｍＬ（７１ｍｍｏｌ）を加えた。その後、塩化メチレン５０ｍＬの４−ニトロ塩化ベンゾイル１０．８ｇ（５７ｍｍｍｏｌ）を３０分間で滴下した。反応液を一晩室温にて放置して、飽和炭酸水素ナトリウム水を反応液に加え、反応を停止した。有機層を分液し、水層は塩化メチレン３０ｍＬで２回抽出した。先程の有機層とこの抽出した塩化メチレンを合わせて、この有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリムで乾燥した。塩化メチレンを減圧下で留去し、濾過後溶媒を留去し、この残渣を短いシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝８／１）にて精製を行い、白色固体を得た。熱したヘキサン／酢酸エチル（１２０ｍＬ／３０ｍＬ）でこの白色固体を再結晶すると無色結晶のｔｒａｎｓ−４−ニトローベンゾイックアッシド−７−オキサービシクロ［４．１．０］ヘプタ−３−エンー２−イルエステル４．８ｇ（２３％）得た。融点；１２５−１２７℃；［α］Ｄ ２１：＋２０９（ｃ ０．５，ＣＨＣｌ３）；９９．０％ｅｅ｛ＨＰＬＣ測定で決定 ＨＰＬＣ条件 Ｃｈｉｒａｐａｋ ＡＳカラム（展開溶媒 ヘキサン：２−プロパノール＝９０：１０）、流速 １．０ｍＬ／ｍｉｎ｝１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝２．６０−２．７０（ｍ、２Ｈ）、３．３０−３．３４（ｍ、２Ｈ）、５．７０−５．８０（ｍ、３Ｈ）、８．２４（ｄ、Ｊ＝９．６Ｈｚ、２Ｈ）、８．３１（ｄ、Ｊ＝９．６Ｈｚ）１３Ｃ ＮＭＲ（１００．６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝２５．０，４９．９，５１．２，１２０．３、１２３．６、１２７．７、１３０．９、１３５．３、１５０．７、１６４．１；ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ＝２６２．０（Ｍ＋Ｈ）＋；計算値 Ｃ１３Ｈ１１ＮＯ５：Ｃ ５９．７７，Ｈ ４．２４，Ｎ ５．３６；実測値：Ｃ ５９．７２，Ｈ ４．２７，Ｎ ５．３７．
４，５−エポキシーシクロヘキセンの合成
水１５０ｍＬに水溶性炭酸水素ナトリウム（２５．２ｇ、３００ｍＬ）溶液に、１，４−シクロヘキサジエン１６．０ｇ（２００ｍｍｏｌ）及びメタクロロ過安息香酸５０．５ｇ（１９０ｍｍｏｌ）を溶解した塩化メチレン２５０ｍＬを数回に分けて、氷で冷やしながら加えた。０℃で１時間及び室温で３時間反応液を攪拌した。その後、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液を加えて、１時間室温で反応液を攪拌した。有機層を分液し、水層は塩化メチレン５０ｍＬで２回抽出した。先程の有機層とこの抽出した塩化メチレンを合わせて、この有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリムで乾燥した。塩化メチレンを減圧下（４０ＫＰａ、５５℃）で留去し、素生成物の無色液体の４,５−エポキシーシクロヘキセン１５．３ｇ（１６０ｍｍｍｏｌ）を得た。収率８０％。１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝２．４２−２．５９（ｍ、４Ｈ）、３．２４（ｍ、２Ｈ）、５．４３（ｓ、２Ｈ） １３Ｃ ＮＭＲ（１００．６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝２５．０，５１，０，１２１．６.
ｔｒａｎｓ−４−ニトローベンゾイックアッシド−７−オキサービシクロ［４．１．０］ヘプタ−３−エンー２−イルエステルの合成
（Ｓ）−３，３−ジメチル−Ｎ−｛１−（キノリンル−２−イル）エチルイデン｝ブタン−２−アミン６１０ｍｇ（２．４０ｍｍｏｌ）と六フッ化リン銅テトラアセトニトリル７６０ｍｇ（０．２０ｍｍｏｌ）をアセトン１００ｍＬに溶解し、室温で１時間攪拌後、反応液は暗赤色の反応液に変化した。次にアルゴン気流下で４，５−エポキシーシクロヘキセン１５．４ｇ（１６０ｍｍｏｌ）を滴下した。過安息香酸ｔｅｒｔ−ブチル１５．６ｇ（８０．０ｍｍｏｌ）をアセトン２０ｍＬに溶解し滴下した。反応液は緑色に変化した。反応温度を２５℃、１２０分間放置した。アセトンを減圧留去し、残渣に酢酸エチル２００ｍＬを加えた。この有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水３０ｍＬで２回洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後溶媒を留去し、この残渣を短いシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝８／１）にて精製を行うと、オイル状の素（１Ｓ，２Ｓ，６Ｓ）−７−オキサービシクロ［４．１．０］ヘプタ−３−エンー２−イルベンゾエイト（(1S, 2S, 6S)-7-oxa-bicyclo[4.1.0]hept-3-en-2-yl benzoate）１２．５ｇを得た。この化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー及び再結晶で精製した。Ｒｆ＝０．４（ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）；融点 ６０−６２℃；［α］Ｄ ２１：＋２０１（ｃ ０．３，ＣＨＣｌ３）８５％ｅ．ｅ；１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝２．６０−２．７１（ｍ、２Ｈ）、３．３８（ｍ、２Ｈ）、５．７０−５．８０（ｍ、３Ｈ）、７．４０−７．５０（ｍ、２Ｈ）、７．５０−７．６０（ｍ、１Ｈ）、８．００−８．１０（ｍ、２Ｈ）；１３Ｃ ＮＭＲ（１００．６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝２５．０，５０．０,５１．４，６５．５,１２０．９、１２６．９、１２８．４、１２９．７、１３０．０、１３３．２、１６５．９；ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ＝２１７．２（Ｍ＋Ｈ）＋；計算値 Ｃ１３Ｈ１２Ｏ３：Ｃ ７２．２１，Ｈ ５．５９，；実測値：Ｃ７２．２１，Ｈ ５．５９．
このオイル状化合物にメタノール１００ｍＬ、ナトリム６５ｍｇ（２．８２ｍｍｏｌ）及びメタノール６ｍＬで合成したナトリウムメトキシド溶液を加え、室温で２時間攪拌した。原料は無くなった事をＴＬＣで確認し、酢酸０．１８ｇ（３．０ｍｍｏｌ）を含むメタノールで反応を停止した。（１Ｓ，２Ｓ，６Ｓ）−７−オキサービシクロ［４．１．０］ヘプタ−３−エンー２−オール（(1S, 2S, 6S)-7-oxa-bicyclo[4.1.0]hept-3-en-2-ol）をシリカゲルカラムクロマトグラフィー及び再結晶で精製した。無色液体; Ｒｆ＝０．１８（ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）；；融点 ６０−６２℃；［α］Ｄ ２１：＋１１９（ｃ ０．５，ＣＨＣｌ３）９９．１％ｅ．ｅ．｛ガスクロマトグラフィーで光学純度を決定。測定条件：カラム β-ＤＥＸ−２２５（ＳＵＰＥＬＣＯＲ） カラムオーブン温度（１５０℃） （１Ｒ，２Ｓ，６Ｓ）異性体（主要化合物）の保持時間：７．１７分, （１Ｓ，２Ｒ，６Ｒ）異性体（副化合物）の保持時間：８．５７分 ；１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝２．０３（ｂｒｓ １Ｈ）,２．５５−２．５９（ｍ、２Ｈ），３．２５（ｂｒｓ １Ｈ），３．３２（ｂｒｓ １Ｈ），４．４８（ｂｒｓ １Ｈ）,５．５８−５．６２（ｍ、１Ｈ）、５．６７−５．７１（ｍ、１Ｈ）；１３Ｃ ＮＭＲ（１００．６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝２５．０，５０．２,５３．６，６２．８,１２４．６、１２４．７；ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ＝１１３．０（Ｍ＋Ｈ）＋
メタノールを完全に留去し、残渣を塩化メチレン１５０ｍＬ及びトリエチルアミン１０ｍＬ（７１ｍｍｏｌ）を加えた。その後、塩化メチレン５０ｍＬの４−ニトロ塩化ベンゾイル１０．８ｇ（５７ｍｍｍｏｌ）を３０分間で滴下した。反応液を一晩室温にて放置して、飽和炭酸水素ナトリウム水を反応液に加え、反応を停止した。有機層を分液し、水層は塩化メチレン３０ｍＬで２回抽出した。先程の有機層とこの抽出した塩化メチレンを合わせて、この有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリムで乾燥した。塩化メチレンを減圧下で留去し、濾過後溶媒を留去し、この残渣を短いシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝８／１）にて精製を行い、白色固体を得た。熱したヘキサン／酢酸エチル（１２０ｍＬ／３０ｍＬ）でこの白色固体を再結晶すると無色結晶のｔｒａｎｓ−４−ニトローベンゾイックアッシド−７−オキサービシクロ［４．１．０］ヘプタ−３−エンー２−イルエステル４．８ｇ（２３％）得た。融点；１２５−１２７℃；［α］Ｄ ２１：＋２０９（ｃ ０．５，ＣＨＣｌ３）；９９．０％ｅｅ｛ＨＰＬＣ測定で決定 ＨＰＬＣ条件 Ｃｈｉｒａｐａｋ ＡＳカラム（展開溶媒 ヘキサン：２−プロパノール＝９０：１０）、流速 １．０ｍＬ／ｍｉｎ｝１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝２．６０−２．７０（ｍ、２Ｈ）、３．３０−３．３４（ｍ、２Ｈ）、５．７０−５．８０（ｍ、３Ｈ）、８．２４（ｄ、Ｊ＝９．６Ｈｚ、２Ｈ）、８．３１（ｄ、Ｊ＝９．６Ｈｚ）１３Ｃ ＮＭＲ（１００．６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝２５．０，４９．９，５１．２，１２０．３、１２３．６、１２７．７、１３０．９、１３５．３、１５０．７、１６４．１；ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ＝２６２．０（Ｍ＋Ｈ）＋；計算値 Ｃ１３Ｈ１１ＮＯ５：Ｃ ５９．７７，Ｈ ４．２４，Ｎ ５．３６；実測値：Ｃ ５９．７２，Ｈ ４．２７，Ｎ ５．３７．
Claims (7)
- 下記式（１）で示される環状エポキシオレフィン化合物を、下記式（２）で示されるＮ，Ｎ−二座型光学活性シッフ塩基配位子及び銅化合物を触媒として用いて、有機過酸化物と反応させ、選択的不斉酸化反応を行うことを特徴とする下記式（３）で示される光学活性な不斉環状エポキシアリールエステル誘導体の製造法：
上記式（２）において、Ｒ１は水素原子、メチル基、エチル基及びプロピル基からなる群から選ばれる低級アルキル基であり、Ｒ２はフェニル基；ｐ−メチル及びｐ−メトキシからなる群から選ばれる置換基を有するフェニル基；α若しくはβのナフチル基；ｐ−メチル及びｐ−メトキシからなる群から選ばれる置換基を有するα若しくはβのナフチル基；又はエチル基、プロピル基、ブチル基、及びｔｅｒｔ−ブチル基からなる群から選ばれる低級アルキル基を示す。上記式（３）において、Ｒは水素原子、ニトロ基、又はエステル基である。 - 前記有機過酸化物が、下記式（４）で表される、過安息香酸ｔｅｒｔ−ブチルである、請求項１記載の製造法。
- 前記銅化合物が、下記式（５）で示される六フッ化リン銅テトラアセトニトリル又は下記式（６）で示される銅（Ｉ）トリフルオロメタンスルホネートである、請求項１又は２記載の製造法。
- 前記銅化合物が、下記式（７）で示される銅（ＩＩ）トリフルオロメタンスルホネートであり、反応時にフェニルヒドラジンを添加する、請求項１又は２記載の製造法。
- 前記式（２）のＲ１は水素原子、メチル基又はエチル基であり、Ｒ２はフェニル基、α若しくはβのナフチル基又はｔｅｒｔ−ブチル基である、請求項１〜４のいずれか一項記載の製造法。
- 前記式（２）のＲ１はメチル基であり、Ｒ２はｔｅｒｔ−ブチル基である、請求項１〜５のいずれか一項記載の製造法。
- アセトン及びメチルエチルケトンから成る群から選択される脂肪族ケトン系溶媒；アセトニトリル、プロピオニトリル及びブチロニトリルから成る群から選択される脂肪族ニトリル系溶媒；塩化メチレン及びクロロホルムから成る群から選択されるハロゲン系溶媒；ジメチルエーテル、ジエチルエーテルから成る群から選択される脂肪族エーテル系溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレンから成る群から選択される芳香族炭化水素系溶媒；酢酸エチル、酢酸プロピルから成る群から選択される脂肪族炭化水素系エステル溶媒；又はジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドから成る群から選択される水溶性極性溶媒を反応溶媒として用いる、請求項１〜６のいずれか一項記載の製造法。
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