JP5486854B2 - 情報入力装置、表示装置 - Google Patents

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Description

本発明は、情報入力装置、表示装置に関する。特に、被検知体が近接した位置を検知する静電容量式のタッチセンサが設けられているパネルを含む、情報入力装置、および、表示装置に関する。
液晶表示装置,有機EL表示装置などの表示装置は、薄型、軽量、低消費電力といった利点を有する。このため、表示装置は、携帯電話、デジタルカメラなどのモバイル用途の電子機器において、多く使用されている。
このような表示装置において、液晶表示装置は、一対の基板の間に液晶層が封入された液晶パネルを、表示パネルとして有している。液晶パネルは、たとえば、透過型であって、液晶パネルの背面に設けられたバックライトが出射した照明光を、液晶パネルが変調して透過させる。そして、その変調した照明光によって画像の表示が、液晶パネルの正面において、実施される。
この液晶パネルは、たとえば、アクティブマトリクス方式であり、画素スイッチング素子として機能する薄膜トランジスタ(TFT:Thin Film Transistor)が、複数形成されているTFTアレイ基板を含む。そして、液晶パネルにおいては、そのTFTアレイ基板に対向するように対向基板が配置されており、TFTアレイ基板および対向基板の間に液晶層が設けられている。このアクティブマトリクス方式の液晶パネルにおいては、画素スイッチング素子が画素電極に電位を入力することによって、液晶層に電圧を印加して、その画素を透過する光の透過率を制御することで、画像の表示が実施される。
上記のような表示装置においては、表示パネルの画面に表示されたアイコン等の画像を利用して、ユーザが操作データの入力を可能にするために、タッチパネルが情報入力装置として表示パネル上に設けられる場合がある。
また、タッチパネルが表示パネル上に外付けされる場合の他に、タッチパネル機能が表示パネルに内蔵されたものが提案されている。
たとえば、静電容量式のタッチセンサが設けられたものが提案されている(例えば、特許文献1、特許文献2,特許文献3参照)。
ここでは、静電容量式のタッチセンサは、検知面に被検知体が近接したときに静電容量が変化するように構成されており、この静電容量の変化に基づいて、検知面に被検知体が近接した位置が検出される。
特開2008−9750号公報 特開2009−3916号公報 特開2008−129708号公報
図33は、静電容量式のタッチセンサTSが駆動されたときの様子を示す図である。図33において、(a)は、タッチセンサTSの検知面に被検知体Fが近接していない場合を示している。一方で、(b)は、検知面に被検知体Fが近接した場合を示している。
図33に示すように、静電容量式のタッチセンサTSは、たとえば、走査電極23Jと検出電極24Jとの一対の電極が誘電体Yを挟んで対向しており、静電容量素子が構成される。
被検知体Fが検知面に近接していない場合において、駆動電極である走査電極23Jに共通電位Vcomが印加されたときは、図33(a)に示すように、走査電極23Jと検出電極24Jとの間に電界が生ずる。
これに対して、大きな静電容量を持った指などの被検知体Fが検知面に近接した場合においては、図33(b)に示すように、その被検知体Fによってフリンジ電界(図中の点線部分)が遮られる。
このため、走査電極23Jと検出電極24Jとによる静電容量は、被検知体Fの有無によって変動するので、この静電容量の変化に基づいて、検知面に被検知体Fが近接した位置が検出される。
上記のような静電容量式のタッチセンサにおいては、その検出感度が十分に高くない場合があり、タッチ位置の検出を高精度に実施することが困難な場合がある。このため、上記の特許文献3に示されているように、ダミー電極を検出電極等の電極とは別に設けることが提案されている。
検出器の寄生容量に対して走査電極と検出電極とによる静電容量が著しく小さいときは、検出が好適にできなくなる場合があるために、検出電極24Jの幅を太くする必要が生ずる。しかし、この場合には、その太い検出電極24Jによってフリンジ電界が遮られることになるので、検出感度の低下が生ずる場合がある。
また、検出電極24JをITO(Indium Tin Oxide)などの透明電極として形成する場合において、より高い透明度を確保しようとする場合には、検出電極の比抵抗が大きくなってしまうので、時定数の増加が生ずる。このため、検出時間が長くなる場合がある。
このように、タッチセンサにおいては、検出感度が十分でなく、検出時間が長くなる場合があるために、検出を高精度に実施することが困難な場合がある。
また、検出電極24Jを透明電極として形成した場合においても、検出電極24Jが検知面にて視認される場合がある。このため、検知面において表示する画像の画像品質が低下する場合がある。特に、上記のように、より太い配線にした場合には、この不具合の発生が顕在化する。
よって、本発明は、検出を高精度に実施可能であって、表示画像の画像品質を向上可能な表示装置、情報入力装置を提供する。
本発明にかかる情報入力装置は、被検知体が検知面に近接した位置を検知するタッチセンサが設けられているタッチパネルを具備しており、タッチセンサは、走査電極と、誘電体を介して走査電極から間を隔てて対面している検出電極とを有し、被検知体が検出電極に近接したときに静電容量が変化する静電容量型であり、走査電極は、検知面の面方向において、第1方向に延在しており、複数が第1方向に垂直な第2方向にて間を隔てて並ぶように配列されており、検出電極は、第2方向に延在しており、複数が前記第1方向に間を隔てて並ぶように配列され、走査電極に対面する当該検出電極内部の面にスリットが形成されており、当該スリット内にフローティング電極が設けられていると共に第2方向に延在する側端部において第1方向へ凸状に突出した凸部を含み、凸部は、第2方向において複数が間を隔てて設けられている
本発明にかかる表示装置は、画像を表示する表示面において被検知体が近接した位置を検知するタッチセンサが設けられている表示パネルを具備しており、タッチセンサは、走査電極と、誘電体を介して走査電極から間を隔てて対面している検出電極とを有し、被検知体が検出電極に近接したときに静電容量が変化する静電容量型であり、走査電極は、表示面の面方向において、第1方向に延在しており、複数が第1方向に垂直な第2方向にて間を隔てて並ぶように配列されており、検出電極は、第2方向に延在しており、複数が第1方向に間を隔てて並ぶように配列され、走査電極に対面する当該検出電極内部の面にスリットが形成されており、当該スリット内にフローティング電極が設けられていると共に第2方向に延在する側端部において第1方向へ凸状に突出した凸部を含み、凸部は、第2方向において複数が間を隔てて設けられている
本発明においては、静電容量型のタッチセンサの検出電極において、走査電極に対面する面にスリットを形成する。これにより、スリットを介するフリンジ電界を生じさせる。そして、そのスリット内にフローティング電極を設ける。これにより、タッチセンサにおける静電容量の変動を、指などの被検知体の有無において大きくする。
本発明によれば、検出を高精度に実施することが容易に実現可能な、表示装置、情報入力装置を提供することができる。
図1は、本発明にかかる実施形態1において、表示装置100の構成の概略を示す図である。 図2は、本発明にかかる実施形態1において、液晶パネル200の全体構成を示す図である。 図3は、本発明にかかる実施形態1において、液晶パネル200の詳細構成を示す図である。 図4は、本発明にかかる実施形態1において、液晶パネル200の詳細構成を示す図である。 図5は、本発明にかかる実施形態1において、液晶パネル200の詳細構成を示す図である。 図6は、本発明にかかる実施形態1において、対向電極23の詳細構成を示す図である。 図7は、本発明にかかる実施形態1において、検出電極24の詳細構成を示す図である。 図8は、本発明にかかる実施形態1において、センサ駆動部Sの詳細構成を示す図である。 図9は、本発明にかかる実施形態1において、検出器DETを示す回路図である。 図10は、本発明にかかる実施形態1において、タッチセンサTSの動作を説明するための図である。 図11は、本発明にかかる実施形態1において、タッチセンサTSの動作を説明するための図である。 図12は、本発明にかかる実施形態1において、駆動信号Sgと検出信号Vdetとを示す波形図である。 図13は、本発明にかかる実施形態1において、タッチセンサTSが駆動されたときの様子を模式的に示す図である。 図14は、本発明にかかる実施形態1において、静電容量式のタッチセンサTSが駆動された際に、被検知体Fが近接した場合に構成される等価回路を示す図である。 図15は、本発明にかかる実施形態1において、フリンジ容量とセンサ出力の関係についてシミュレーションを実施した結果を示している。 図16は、本発明にかかる実施形態2において、液晶パネル200bの要部を示す図である。 図17は、本発明にかかる実施形態2において、液晶パネル200bの要部を示す図である。 図18は、本発明にかかる実施形態2において、対向電極23bの詳細構成を示す図である。 図19は、本発明にかかる実施形態3において、表示装置100cの構成の概略を示す図である。 図20は、本発明にかかる実施形態3において、液晶パネル200cの構成を示す図である。 図21は、本発明にかかる実施形態3において、タッチパネル209の構成を示す図である。 図22は、本発明にかかる実施形態3において、対向電極23tの詳細構成を示す図である。 図23は、本発明にかかる実施形態3において、検出電極24tの詳細構成を示す図である。 図24は、本発明にかかる実施形態4において、検出電極24dの詳細構成を示す図である。 図25は、本発明にかかる実施形態5において、検出電極24eの詳細構成を示す図である。 図26は、本発明にかかる実施形態6において、検出電極24fの詳細構成を示す図である。 図27は、本発明にかかる実施形態の変形例において、検出電極の詳細構成を示す図である。 図28は、本発明にかかる実施形態の表示装置100を適用した電子機器を示す図である。 図29は、本発明にかかる実施形態の表示装置100を適用した電子機器を示す図である。 図30は、本発明にかかる実施形態の表示装置100を適用した電子機器を示す図である。 図31は、本発明にかかる実施形態の表示装置100を適用した電子機器を示す図である。 図32は、本発明にかかる実施形態の表示装置100を適用した電子機器を示す図である。 図33は、静電容量式のタッチセンサTSが駆動されたときの様子を示す図である。
本発明にかかる実施形態の一例について説明する。
説明は、下記の手順で行う。
1.実施形態1(タッチセンサを内蔵した場合)
2.実施形態2(FFS方式の液晶パネルにタッチセンサを内蔵した場合)
3.実施形態3(タッチセンサを外付けした場合)
4.実施形態4(タッチセンサ内蔵の場合にて、検出電極の形状が異なる場合)
5.実施形態5(タッチセンサ内蔵の場合にて、検出電極の形状が異なる場合)
6.実施形態6(タッチセンサ内蔵の場合にて、検出電極の形状が異なる場合)
7.その他
<1.実施形態1>
(A)表示装置の構成
図1は、本発明にかかる実施形態1において、表示装置100の構成の概略を示す図である。
本実施形態の表示装置100は、図1に示すように、液晶パネル200と、バックライト300と、データ処理部400とを有する。各部について順次説明する。
(A−1)液晶パネルについて
液晶パネル200は、たとえば、アクティブマトリクス方式であり、図1に示すように、TFTアレイ基板201と対向基板202と液晶層203とを有する。液晶パネル200においては、TFTアレイ基板201と対向基板202とが、互いに間を隔てて対向しており、その間に液晶層203が設けられている。
液晶パネル200は、図1に示すように、TFTアレイ基板201において、対向基板202に対向する上面に対して反対側の下面には、第1の偏光板206が配置されている。また、対向基板202において、TFTアレイ基板201に対向する下面に対して反対側の上面には、第2の偏光板207が配置されている。そして、第2の偏光板207の上面においては、カバーガラス208が配置されている。
液晶パネル200においては、図1に示すように、TFTアレイ基板201の下方に、バックライト300が配置されており、TFTアレイ基板201の下面に、バックライト300から出射されたtが照射される。
本実施形態の液晶パネル200は、透過型であって、表示領域PAにおいて照明光Rが透過し、画像の表示が実施される。
詳細については後述するが、表示領域PAにおいては、複数の画素(図示無し)が配置されている。そして、この表示領域PAでは、液晶パネル200の背面側に設置されたバックライト300が出射した照明光Rを、第1の偏光板206を介して背面から受け、その背面から受けた照明光Rを変調する。ここでは、TFTアレイ基板201においては、複数の画素に対応するように、複数のTFTが画素スイッチング素子(図示無し)として設けられており、その画素スイッチング素子が制御されることによって、背面から受けた照明光Rを変調する。そして、その変調された照明光Rが、第2の偏光板207を介して、正面側に出射し、表示領域PAにおいて画像が表示される。たとえば、液晶パネル200の正面の側においてカラー画像が表示される。
この他に、本実施形態において、液晶パネル200は、被検知体が検知面に近接した位置を検知するタッチセンサ(図示なし)が形成されている。このタッチセンサは、「静電容量型」であり、液晶パネル200においてバックライト300が設置された背面に対して反対側となる正面側に、ユーザーの指などの被検知体Fが近接または接触した位置に応じて異なる電位の信号を出力するように構成されている。すなわち、液晶パネル200は、表示パネルとして機能する他に、タッチパネルとして機能し、これにより、液晶表示装置である表示装置100が、情報入力装置として機能するように構成されている。
(A−2)バックライトについて
バックライト300は、図1に示すように、液晶パネル200の背面に対面しており、液晶パネル200の表示領域PAへ照明光Rを出射する。
具体的には、バックライト300は、TFTアレイ基板201と対向基板202とにおいて、TFTアレイ基板201の下方に位置するように配置されている。そして、TFTアレイ基板201において対向基板202に対面している面に対して反対側の面に、照明光Rを照射する。つまり、バックライト300は、TFTアレイ基板201の側から対向基板202の側へ向かうように照明光Rを照明する。ここでは、バックライト300は、液晶パネル200の面の法線方向zに沿うように照明光Rを出射する。
(A−3)データ処理部について
データ処理部400は、図1に示すように、制御部401と、位置検出部402とを有する。データ処理部400は、コンピュータを含み、プログラムによってコンピュータが制御部401と位置検出部402として動作するように構成されている。
データ処理部400において、制御部401は、液晶パネル200とバックライト300との動作を制御するように構成されている。制御部401は、液晶パネル200に制御信号を供給することによって、液晶パネル200に複数設けられた画素スイッチング素子(図示無し)の動作を制御する。たとえば、線順次駆動を実行させる。また、制御部401は、バックライト300に制御信号を供給することによって、バックライト300の動作を制御し、バックライト300から照明光Rを照射させる。このように、制御部401は、液晶パネル200とバックライト300との動作を制御することによって、液晶パネル200の表示領域PAにて、画像を表示させる。
このほかに、制御部401は、液晶パネル200に制御信号を供給することによって、液晶パネル200に設けられたタッチセンサの動作を制御し、タッチセンサから検出データを収集する。
データ処理部400の位置検出部402は、液晶パネル200の正面(表示面)側において、人体の指などの被検知体Fが表示領域PAに近接した座標位置を検出するように構成されている。本実施形態においては、位置検出部402は、液晶パネル200に設けられたタッチセンサによって得た検出データに基づいて、その座標位置の検出を実施する。
(B)液晶パネルの全体構成
液晶パネル200の全体構成について説明する。
図2は、本発明にかかる実施形態1において、液晶パネル200の全体構成を示す図である。図2は、液晶パネル200の平面図である。
図2に示すように、液晶パネル200は、表示領域PAと、周辺領域CAとを有する。
液晶パネル200において表示領域PAには、図2に示すように、複数の画素Pが面に沿って配置されている。具体的には、表示領域PAにおいては、複数の画素Pが水平方向xと垂直方向yとのそれぞれにマトリクス状に並ぶように配置されており、画像が表示される。
詳細については後述するが、画素Pは、上述した画素スイッチング素子(図示無し)を含む。また、この複数の画素Pに対応するように、複数のタッチセンサ(図示無し)が設けられている。
液晶パネル200において周辺領域CAは、図2に示すように、表示領域PAの周辺を囲うように位置している。この周辺領域CAにおいては、図2に示すように、垂直駆動回路11と、水平駆動回路12とが形成されている。たとえば、上記の画素スイッチング素子(図示無し)などと同様にして形成された半導体素子によって、この各回路が構成されている。
そして、画素Pに対応するように設けられた画素スイッチング素子を、垂直駆動回路11および水平駆動回路12が駆動し、表示領域PAにおいて画像表示を実行する。
これと共に、表示領域PAに設けられたタッチセンサ(図示なし)を駆動するように、垂直駆動回路11が構成されており、タッチセンサの駆動によって得られる検出データを検出するように、検出器(図示なし)が周辺領域CAに設けられている。そして、そのタッチセンサから取得した検出データに基づいて、液晶パネル200の表示領域PAにユーザーの指などの被検知体が接触した位置を、位置検出部402が検出する。
(C)液晶パネルの詳細構成
液晶パネル200の詳細な構成について説明する。
図3,図4,図5は、本発明にかかる実施形態1において、液晶パネル200の詳細構成を示す図である。
ここで、図3は、画素Pの概略を模式的に示す断面図である。図4は画素Pの概略を示す回路図である。図5は、タッチセンサTSの概略を示す回路図である。
液晶パネル200は、図3に示すように、TFTアレイ基板201と対向基板202とを有する。TFTアレイ基板201と対向基板202との間には、スペーサ(図示なし)が介在しており、シール材(図示無し)で貼り合わされている。そして、そのTFTアレイ基板201と対向基板202との間には、液晶層203が封入されている。
また、本実施形態においては、液晶パネル200は、図3に示すように、タッチセンサTSが設けられており、表示パネルのほかに、タッチパネルとしても機能するように構成されている。
ここでは、タッチセンサTSは、図5に示すように、対向電極23と検出電極24とによって構成される静電容量素子C1を含み、被検知体(図示なし)が検出電極24に近接したときに、その静電容量素子C1の静電容量が変化するように構成されている。
液晶パネル200を構成する各部について下記に説明する。
(C−1)TFTアレイ基板について
液晶パネル200を構成するTFTアレイ基板201について下記に示す。
TFTアレイ基板201は、光を透過する絶縁体の基板であり、たとえば、ガラスにより形成されている。このTFTアレイ基板201においては、図3に示すように、画素スイッチング素子31と、画素電極62pとが形成されている。
TFTアレイ基板201に設けられた各部について示す。
TFTアレイ基板201において、画素スイッチング素子31は、図3に示すように、TFTアレイ基板201にて対向基板202に対向する側の面に設けられている。画素スイッチング素子31は、たとえば、ポリシリコンを用いたボトムゲート型TFTである。
画素スイッチング素子31であるTFTにおいて、ゲート電極は、図4に示すように、ゲート線GLに電気的に接続されている。
ここでは、図4に示すように、ゲート線GLは、x方向に沿うように延在している。ゲート線GLは、図3では図示していないが、図3に示すTFTアレイ基板201の表面において、画素スイッチング素子31のゲート電極と一体になるように形成されている。たとえば、ゲート線GLは、モリブデンなどの金属材料を用いて形成されており、液晶パネル200において、光を透過せずに遮光する遮光領域を構成している。
また、ゲート線GLは、図4に示すように、垂直駆動回路11に電気的に接続されており、画素スイッチング素子31のゲート電極は、垂直駆動回路11からゲート線GLを介して、走査信号Vgateが垂直駆動回路11から供給される。
そして、画素スイッチング素子31であるTFTにおいて、一方のソース・ドレイン領域は、図4に示すように、信号線SLに電気的に接続されている。
ここでは、図4に示すように、信号線SLは、y方向に延在するように形成されており、水平駆動回路12に電気的に接続されている。信号線SLは、水平駆動回路12から入力された映像データ信号を、画素スイッチング素子31へ出力する。
図3では図示していないが、信号線SLは、画素スイッチング素子31を被覆するようにTFTアレイ基板201上に形成された層間絶縁膜Sz内に設けられている。信号線SLは、たとえば、光を遮光する導電性材料によって形成されている。具体的には、信号線SLは、金属材料を用いて形成されており、液晶パネル200において、光を透過せずに遮光する遮光領域を構成している。
一方で、画素スイッチング素子31において、他方のソース・ドレイン領域は、図4に示すように、画素電極62pに電気的に接続されている。
TFTアレイ基板201において、画素電極62pは、図3に示すように、TFTアレイ基板201にて対向基板202に対面する面上に、層間絶縁膜Szを介して設けられている。画素電極62pは、いわゆる透明電極であって、たとえば、ITOを用いて形成されている。
画素電極62pは、図4に示すように、画素スイッチング素子31に電気的に接続されており、画素スイッチング素子31がオン状態にされたときに、水平駆動回路12から入力された映像データ信号を受け、液晶層203に電圧を印加する。これにより、液晶層203を構成する液晶分子の配向方向が変化し、液晶層203を透過する光が変調されるので、画像表示が実行される。
(C−2)対向基板202について
液晶パネル200を構成する対向基板202について下記に示す。
対向基板202は、TFTアレイ基板201と同様に、光を透過する絶縁体の基板であり、たとえば、ガラスにより形成されている。この対向基板202は、図3に示すように、TFTアレイ基板201に対して間を隔てて対面している。そして、対向基板202には、カラーフィルタ層21と、対向電極23と、検出電極24と、フローティング電極25とが形成されている。
対向基板202に設けられた各部について示す。
対向基板202において、カラーフィルタ層21は、図3に示すように、対向基板202にてTFTアレイ基板201に対向する側の面に形成されている。カラーフィルタ層21は、赤フィルタ21Rと緑フィルタ21Gと青フィルタ21Bとを含み、それぞれが、x方向に並ぶように形成されている。つまり、カラーフィルタ層21は、赤と緑と青の3原色のフィルタを1組としており、各色のフィルタが画素Pごとに設けられている。カラーフィルタ層21は、たとえば、ポリイミド樹脂に、顔料や染料などの着色剤が各色に対応するように含有している。このカラーフィルタ層21においては、バックライト300から照射された白色光が着色されて出射される。
そして、図3に示すように、カラーフィルタ層21において、TFTアレイ基板201に対向する側の面には、平坦化膜22が被覆されている。この平坦化膜22は、光透過性の絶縁材料によって形成されており、対向基板202にてTFTアレイ基板201に対面する面側を平坦化している。
対向基板202において、対向電極23は、図3に示すように、対向基板202にてTFTアレイ基板201に対面する側の面に形成されている。ここで、対向電極23は、平坦化膜22を被覆するように形成されている。対向電極23は、可視光を透過する透明電極であって、たとえば、ITOを用いて形成されている。
図3に示すように、対向電極23は、画素電極62pとの間に液晶層203を挟むように設けられており、画素電極62pとの間に挟む液晶層203に電圧を印加する共通電極として機能するように構成されている。
これと共に、本実施形態において、対向電極23は、図3および図5に示すように、検出電極24との間に誘電体(図3では、対向基板202など)を挟んで静電容量素子C1を構成するように設けられている。つまり、対向電極23は、検出電極24と共に、静電容量型のタッチセンサTSを構成するように設けられている。ここでは、図5に示すように、対向電極23は、センサ駆動部Sに電気的に接続されており、センサ駆動部Sから出力される駆動信号Sgが入力される。
図6は、本発明にかかる実施形態1において、対向電極23の詳細構成を示す図である。ここで、図6は、対向電極23の上面図である。
図6に示すように、対向電極23は、ストライプ状であって、対向基板202の面において、水平方向xに延在している。そして、対向電極23は、複数が、垂直方向yにて間を隔てて並ぶように配置されている。つまり、上方から下方へ向かって、第1から第nの対向電極23_1〜23_nのn本が、対向電極23として設けられている。ここでは、対向電極23は、垂直方向yに並ぶ複数の画素電極62pのそれぞれに対面するように複数が等間隔で配置されている。
第1から第nの対向電極23_1〜23_nのそれぞれは、図6に示すように、センサ駆動部Sに電気的に接続されている。第1から第nの対向電極23_1〜23_nのそれぞれは、順次、選択されて、センサ駆動部Sから出力された駆動信号Sgが供給される。つまり、第1から第nの対向電極23_1〜23_nのそれぞれは、線順次走査駆動によって、駆動信号Sgが供給される。
上記の対向電極23については、たとえば、下記のような条件で、形成することが好適である。
・対向電極23の幅:1mm
・対向電極23の間の間隔:5mm
対向基板202において、検出電極24は、図3に示すように、対向基板202にてTFTアレイ基板201に対面する面に対して反対側の面に形成されている。検出電極24は、可視光を透過する透明電極であって、たとえば、ITOを用いて形成されている。
検出電極24は、図3および図5に示すように、対向電極23との間に誘電体(図3では、対向基板202など)を挟んでおり、静電容量型のタッチセンサTSを構成している。また、検出電極24は、図5に示すように、検出器DETに電気的に接続されていると共に、抵抗Rを介して接地されており、検出信号Vdetを検出器DETへ出力するように構成されている。
詳細については後述するが、指などのように大きな容量を持った導体である被検知体が、検出電極24に近接した場合には、駆動信号Sgが入力された対向電極23によるフリンジ電界が、その被検知体によって遮断される。このため、タッチセンサTSにおいては、被検知体の有無に応じて容量が変化し、検出電極24の電位が変化する。よって、検出器DETを介して、この電位変化を検出することで、接触位置を検知できる。
図7は、本発明にかかる実施形態1において、検出電極24の詳細構成を示す図である。ここで、図7は、検出電極24の上面図である。
図7に示すように、検出電極24は、ストライプ状であって、対向基板202の面において、垂直方向yに延在している。そして、検出電極24は、複数が、水平方向xにて間を隔てて並ぶように配置されている。つまり、左側から右側へ向かって、第1から第kの検出電極24_1〜24_kのk本が、検出電極24として設けられている。
第1から第nの検出電極24_1〜24_kのそれぞれは、図7に示すように、検出器DETに電気的に接続されている。詳細は後述するが、第1から第nの検出電極24_1〜24_kのそれぞれにおいては、検出信号Vdetが検出器DETへ出力される。
本実施形態においては、図7に示すように、検出電極24のそれぞれは、対向電極23に対面する面にスリットKKが形成されている。スリットKKは、正方形であり、各検出電極24の内部において、水平方向xと垂直方向yとのそれぞれにおいて、複数が間を隔てて並ぶように設けられている。
また、検出電極24のそれぞれは、図7に示すように、垂直方向yに延在する側端部に、凸部24Cが形成されている。凸部24Cは、水平方向xへ凸状に突出しており、垂直方向yにおいて複数が、間を隔てて設けられている。ここでは、複数の凸部24Cのそれぞれは、垂直方向yにおいて、一つのスリットKKを介在して、順次、並んでいる。
そして、図7に示すように、各スリットKKの内部においては、フローティング電極25が設けられている。ここでは、フローティング電極25は、複数のスリットKKのそれぞれに対応するように、複数が、水平方向xと垂直方向yとのそれぞれに並ぶように設けられている。フローティング電極25は、検出電極24と同様に、可視光を透過する透明電極であって、たとえば、ITOを用いて形成されている。本実施形態では、フローティング電極25は、スリットKKと同様に、正方形であり、一辺が、スリットKKの一辺よりも小さくなるように形成されている。
上記の検出電極24、フローティング電極25については、たとえば、下記のような条件で、形成することが好適である。
・検出電極24の幅:4〜8mm
・凸部24Cの幅:5μm
スリットKKの幅:30μm
・フローティング電極25の幅:20μm
(C−3)液晶層203について
液晶パネル200を構成する液晶層203について示す。
液晶層203は、図3に示すように、TFTアレイ基板201と対向基板202とが対面する間にて挟持されている。
ここでは、液晶層203は、TFTアレイ基板201に形成された液晶配向膜(図示なし)と、対向基板202に形成された液晶配向膜(図示なし)とによって、液晶分子(図示なし)が配向されている。たとえば、液晶分子が垂直配向するように液晶層203が形成されている。液晶層203は、画素電極62pと対向電極23とによって、電圧が印加されることによって、液晶分子の配向方向が変化するように構成されている。なお、液晶層203は、VAモードのほか、TNモード、ECBモードに対応するように形成しても良い。
(C−4)センサ駆動部Sについて
対向電極23に電気的に接続しているセンサ駆動部Sの詳細な構成について、下記に説明する。
図8は、本発明にかかる実施形態1において、センサ駆動部Sの詳細構成を示す図である。
センサ駆動部Sは、図8に示すように、制御部91と、第1スイッチSW1と、第2スイッチSW2と、ラッチ回路92と、バッファ回路93と、第3スイッチSW3とを有しており、交流電流源として機能するように構成されている。センサ駆動部Sは、たとえば、数kHz〜数十kHzの周波数の交流矩形波であって、共通電位Vcomである駆動信号Sgを、対向電極23へ印加する。
センサ駆動部Sを構成する各部について順次説明する。
センサ駆動部Sにおいて、制御部91は、図8に示すように、第1スイッチSW1と、第2スイッチSW2と、第3スイッチSW3とのそれぞれのスイッチング動作を制御する回路として構成されている。
センサ駆動部Sにおいて、第1スイッチSW1は、図8に示すように、一方の端子がラッチ回路92に電気的に接続されている。そして、第1スイッチSW1は、制御部91によるスイッチング制御によってオン状態にされたときに、プラス電圧V(+)をラッチ回路92に印加するように構成されている。
センサ駆動部Sにおいて、第2スイッチSW2は、図8に示すように、一方の端子がラッチ回路92に電気的に接続されている。そして、第2スイッチSW2は、制御部91による制御によってオン状態にされたときに、マイナス電圧V(−)をラッチ回路92に印加するように構成されている。
センサ駆動部Sにおいて、ラッチ回路92は、入力端子が、第1スイッチSW1と第2のスイッチSW2とのそれぞれに電気的に接続されている。また、ラッチ回路92は、出力端子が、バッファ回路93を介して、第3スイッチSW3に電気的に接続されている。
センサ駆動部Sにおいて、バッファ回路93は、波形整形部であって、プラス電圧V(+)とマイナス電圧V(−)に、入力電位を電位補償して出力する回路として設けられている。
センサ駆動部Sにおいて、第3スイッチSW3は、制御部91によってスイッチング動作が制御される。ここでは、第3スイッチSW3は、オン状態にされたときには、対向電極23に電気的に接続される。一方で、オフ状態にされたときには、非活性のGND接続となる。
このように構成されたセンサ駆動部Sは、複数の対向電極23のそれぞれに対応するように設けられている。
上記のようなセンサ駆動部Sは、たとえば、TFTアレイ基板201において表示領域PAの周辺に位置する周辺領域CAにて、垂直駆動回路11(図2参照)を構成するように設けられている。この他に、対向基板202の周辺領域CAに設けてもよい。
(C−5)検出器DETについて
検出電極24に電気的に接続している検出器DETの詳細な構成について、下記に説明する。
図9は、本発明にかかる実施形態1において、検出器DETを示す回路図である。
検出器DETは、図9に示すように、OPアンプ回路81と、整流回路82と、出力回路83とを含む。
検出器DETを構成する各部について順次説明する。
検出器DETにおいて、OPアンプ回路81は、図9に示すように、OPアンプ84と、抵抗R,R1,R2と、キャパシタC3とを含み、信号増幅回路のほか、フィルタ回路として機能するように構成されている。つまり、OPアンプ回路81は、検出電極24から出力された検出信号Vdetを増幅後、その検出信号Vdetにおいて所定の周波数成分を除去して、整流回路82へ出力する。
具体的には、図9に示すように、OPアンプ回路81においては、OPアンプ84の正入力端子(+)に、検出電極24が電気的に接続され、検出電極24から出力された検出信号Vdetが入力される。ここでは、検出電極24は、電位のDCレベルを電気的に固定するために、抵抗Rを介して接地電位に接続されている。また、OPアンプ84の負入力端子(−)と出力端子との間においては、抵抗R2とキャパシタC3とが並列に接続されており、OPアンプ84の負入力端子(−)と接地電位との間に抵抗R1が接続されている。
検出器DETにおいて、整流回路82は、図9に示すように、ダイオードD1と、充電キャパシタC4と、放電抵抗R0とを有する。この整流回路82は、OPアンプ回路81から出力された信号をダイオードD1が半波整流した後に、充電キャパシタC4と放電抵抗R0とによって構成される平滑回路によって、その信号を平滑化して、出力回路83へするように構成されている。
具体的には、整流回路82においては、図9に示すように、ダイオードD1のアノードが、OPアンプ回路81の出力端子に電気的に接続されている。そして、ダイオードD1のカソードと接地電位との間に、充電キャパシタC4と放電抵抗R0とのそれぞれが電気的に接続されている。
検出器DETにおいて、出力回路83は、図9に示すように、コンパレータ85を含み、整流回路82から出力されるアナログ信号をデジタル信号に変換するADコンバータとして機能するように構成されている。
具体的には、図9に示すように、コンパレータ85において、正入力端子(+)は、整流回路82に電気的に接続されている。また、コンパレータ85において、負入力端子(−)には、閾値電圧Vthが入力されている。そして、コンパレータ85においては、整流回路82から出力されるアナログ信号について、閾値電圧Vthとの間で比較処理し、その結果に基づいて、デジタル信号を出力する。
上記のような検出器DETは、たとえば、対向基板202において、表示領域PAの周辺に位置する周辺領域CAに設けられている。この他に、TFTアレイ基板201の周辺領域CAに設けてもよい。
(D)動作
以下より、上記の表示装置100の動作について説明する。
上記の表示装置100において、画像を表示する際の動作について示す。
画像表示を実施する際には、制御部401が液晶パネル200の動作を制御する(図1参照)。また、制御部401がバックライト300に制御信号を供給することによって、バックライト300の動作を制御し、バックライト300から照明光Rを照射させる(図1参照)。
この場合には、液晶パネル200に制御部401が制御信号を供給することによって、液晶パネル200に設けられた複数の画素Pを駆動させる(図2参照)。ここでは、垂直駆動回路11と水平駆動回路12とが、表示領域PAに配置した複数の画素Pを駆動させる。
具体的には、垂直駆動回路11がゲート線GLを介して画素スイッチング素子31のゲートに駆動信号を供給して、画素スイッチング素子31をオン状態にする(図4参照)。
これと共に、垂直駆動回路11は、複数の対向電極23のそれぞれに駆動信号Sgを供給する。ここでは、垂直方向yに並ぶ複数の対向電極23を、線順次で選択して駆動信号Sgを供給する。つまり、第1から第nの対向電極23_1〜23_nのそれぞれは、線順次走査駆動によって、駆動信号Sgが供給され、共通電位Vcomとなる。つまり、垂直駆動回路11は、上述したセンサ駆動部S(図8など参照)として機能する。
そして、このとき、水平駆動回路12が信号線SLから画素スイッチング素子31を介して画素電極62pへ映像信号を供給する。
このため、画素電極62pと対向電極23との間の液晶層203に電界が印加されて、液晶層203の液晶分子の配向が変化し、液晶層203を透過する光が変調されるので、画像が表示領域PAにて実施される。
上記の画像表示動作は、Vcom反転駆動方式によって行われる。
上記の表示装置100において、ユーザーの指などの被検知体Fが液晶パネル200の表示領域PAに接触した位置を検出する際の動作について示す。
図10と図11は、本発明にかかる実施形態1において、タッチセンサTSの動作を説明するための図である。図10と図11は、対向電極23と検出電極24とを示す上面図である。図10と図11においては、上述した画像表示動作にて複数の対向電極23のうち、垂直駆動回路11が駆動信号Sgを供給し、共通電位Vcomとした対向電極23について、斜線を付して表示している。
上述した画像表示動作が実施される際には、図10と図11とにて斜線を付して示しているように、複数の対向電極23のうち、一部の対向電極23が選択されて駆動信号Sgが供給される。
本実施形態においては、図10と図11とに示すように、n本の対向電極23_1〜nのうち、m本の対向電極(23_1〜m,23_2〜23_m+1,・・・)(2<m<n)を選択して、駆動信号Sgが供給される。つまり、m本の対向電極23が同時に共通電位Vcomになる。
そして、このm本の対向電極23が垂直方向yにおいてシフトして選択されて、上記の駆動信号Sgの供給が実施される。
たとえば、図10にて斜線を付して示しているように、第1の対向電極23_1から第mの対向電極23_mを選択する。そして、この選択した第1の対向電極23_1から第mの対向電極23_mのm本のそれぞれに、駆動信号Sgの供給を行う。
つぎに、図11にて斜線を付して示しているように、第2の対向電極23_2から第(m+1)の対向電極23_m+1を選択する。そして、この選択した第2の対向電極23_2から第(m+1)の対向電極23_m+1のm本それぞれに、駆動信号Sgの供給を行う。このように、最上部から最下部へ向かって、対向電極23を順次選択して、駆動信号Sgの供給を行う。そして、最下部まで選択した後には、たとえば、再度、最上部へ戻り、同様な動作が繰り返される。
上記のように、画像表示動作の実施時には、複数の対向電極23から所定の対向電極23を選択し、その選択した対向電極23に駆動信号を供給するタッチセンサ駆動動作を繰り返し実施することによって、制御部401が、タッチセンサTSを駆動させる。
具体的には、n本の対向電極23において連続して並ぶm本の対向電極23(m<n)を選択して、Vcom反転駆動(交流駆動)をする。そして、この選択対象を垂直方向yにおいて変更するシフト動作を、各シフト動作の前後において少なくとも1つの対向電極23が共通するように実施する。そして、そのシフト動作によって選択したm本の対向電極23について、Vcom反転駆動をする。
つまり、上記のタッチセンサ駆動動作の実施の際には、n本の対向電極23のうち、垂直方向yにて連続して並ぶ、m本(2<m<n)の対向電極23を、走査電極群として選択する。そして、連続するタッチセンサ駆動動作の間にて、異なる対向電極と、共通する対向電極とが含まれるように、この走査電極群を選択する。
上記の動作の実施によって、駆動信号Sgが供給されて対向電極23が共通電位Vcomになったときには、図10に示すように、検出電極24との交差部分の容量素子において電荷の蓄積が行われる。そして、上記のようにシフト動作が実施されたときには、対向電極23と検出電極24との交差部分の容量素子において充放電が行われる。ここでは、駆動信号Sgの走査に伴って、充放電の対象となる容量素子の列が、線順次に移動する。よって、その容量素子の容量値に応じた信号強度で検出信号Vdetが、各検出電極24から各検出器DETへ出力される。
そして、検出器DETから出力された検出信号Vdetに基づいて、データ処理部400の位置検出部402(図1参照)が、位置検出を行う。
図12は、本発明にかかる実施形態1において、駆動信号Sgと検出信号Vdetとを示す波形図である。
図12に示すように、矩形波の駆動信号Sgが対向電極23へ出力されると、検出電極24から検出信号Vdetが出力される。
被検知体が検出電極24に近接していない場合には、図12に示すように、検出信号Vdet0が、閾値Vthよりも大きい信号強度で出力される。この場合において、複数の検出電極24から出力される検出信号Vdet0のそれぞれは、ほぼ一定の信号強度となる。
これに対して、大きな静電容量を持った指などの被検知体が近接した場合においては、その被検知体によってフリンジ電界が遮られる(図33参照)ので、対向電極23と検出電極24とによる静電容量は、被検知体の有無によって変動する。このため、図11に示すように、上記の閾値Vthよりも信号強度が低い検出信号Vdet1が出力される。よって、複数の検出電極24から出力される各検出信号Vdetのそれぞれは、被検知体の有無によって、その信号強度が変化するので、検知面に被検知体Fが近接した位置が検出される。ここでは、駆動信号Sgの印加のタイミングと、検出器DETの検出のタイミングとに基づいて、そのタッチ位置座標を求めることができる。
上記のようにタッチセンサTSを動作させることによって、センサ電圧の低下の防止と、電極駆動の切り替えによる画像品質の低下を防止することができる。
図13は、本発明にかかる実施形態1において、タッチセンサTSが駆動されたときの様子を模式的に示す図である。(a)は、タッチセンサTSの検知面に被検知体Fが近接していない場合を示している。一方で、(b)は、検知面に被検知体Fが近接した場合を示している。
図13に示すように、検出電極24は、対向電極23に対面する面にスリットKKが形成されている。
図13(a)に示すように、被検知体Fが検知面(表示面)に近接していない場合において、対向電極23に共通電位Vcomが印加されたときは、対向電極23と検出電極24との間に電界が生ずる。本実施形態においては、対向電極23と検出電極24との間の電界に加えて、検出電極24に設けられたスリットKKを介したフリンジ電界も生ずる。
これに対して、指などの被検知体Fが検知面(表示面)に近接した場合においては、図13(b)に示すように、その被検知体Fによってフリンジ電界(図中の点線部分)が遮られる。本実施形態においては、検出電極24に設けられたスリットKKを介したフリンジ電界についても、遮断されて発生しない。
このため、検出電極24にスリットKKを設けた場合には、スリットKKを設けない場合と比較して、被検知体Fの有無による静電容量の変動が大きくなる。
よって、本実施形態は、検出電極24にスリットKKを設けることで、タッチセンサTSの検出感度を向上させることができる。また、検出電極24においてスリットKKが設けられた部分以外の幅の合計値を保持することで、検出電極24の全体の幅が太くなっても抵抗値を維持できるので、検出電極24にて時定数が増加することを防止できる。このため、検出時間が長くなることを防止できる。なお、スリットKKについては、スリット幅を、より広くすることが好適である。
図14は、本発明にかかる実施形態1において、静電容量式のタッチセンサTSが駆動された際に、被検知体Fが近接した場合に構成される等価回路を示す図である。
図14に示すように、被検知体Fが近接した場合には、対向電極23と検出電極24とフローティング電極25と被検知体Fとの間のそれぞれにおいては、静電容量C34,C35,C45,C4F,C5Fが生ずる。このうち、検出電極24とフローティング電極25との間にて発生するフリンジ容量C45が、タッチセンサTSのセンサ感度に大きく寄与する。なお、フリンジ容量C45は、検出電極24とフローティング電極25との側面の間で生ずる電界によるもの以外に、検出電極24とフローティング電極25との上面間や下面間等において回り込む電界によるものも含む。
図15は、本発明にかかる実施形態1において、フリンジ容量とセンサ出力の関係についてシミュレーションを実施した結果を示している。図15では、横軸が、フリンジ容量C45(F)を示しており、縦軸が、検出電極24から出力される検出信号の強度(V)(センサ出力)を示している。この図15においては、「指なし」,「指あり場所不一致」,「指あり場所一致」の場合について、示している。
ここで、「指なし」とは、被検知体Fである指が、検知面に近接していない場合を示している。つまり、図14では、被検知体Fが無く、容量C34,C35,C45以外の容量が生じない状態を示している。
また、「指あり場所不一致」とは、被検知体Fである指が検知面に近接した位置が、複数の対向電極23において駆動信号Sgが印加されていない場所にある場合を示している(図14参照)。つまり、指が検出電極24上に移動されたが、その検出電極24の下方に位置する対向電極23が共通電位になっていない場合を示している。
また、「指あり場所一致」とは、被検知体Fである指が検知面に近接した位置が、複数の対向電極23において駆動信号Sgが印加された場所にある場合を示している(図14参照)。つまり、指が検出電極24上に移動されており、その検出電極24の下方に位置する対向電極23が共通電位になっている場合を示している。
なお、本シミュレーションは、下記の条件にて実施した。
・容量C34,C35,C4F,C5F:1pF
・駆動信号Sgの電位:5V
・検出電極24に交差する対向電極23の数:10本(指の大きさに合わせて)
図15に示すように、フリンジ容量C45を大きくすることによって、「指あり場所不一致」の場合におけるセンサ出力値と、「指あり場所一致」の場合におけるセンサ出力値とを、大きく変化させることができる。
本実施形態では、図7に示したように、検出電極24の各スリットKKの内部にフローティング電極25を設けている。フローティング電極25は、図7に示すように、検出電極24によって、周辺の少なくとも一部が囲われている。このため、検出電極24とフローティング電極25との間におけるフリンジ容量C45を、大きくすることができる(たとえば、C45=1pF)。
よって、本実施形態においては、タッチセンサTSの感度を向上させることができる。
なお、フリンジ容量が大きすぎると、図14に示すように、検出電極24とフローティング電極25が接続状態と同意になるため、見かけ上、太いセンサ線があることと同じになる。また、図14に示す容量C45が、他の容量C4F,C5F,C34,C35と同程度になるのがセンサ出力にとって好適である。
(E)まとめ
以上のように、本実施形態の表示装置100においては、液晶パネル200にて画像を表示する表示面において、被検知体Fが近接した位置を検知する静電容量式のタッチセンサTSが設けられている(図3参照)。このタッチセンサTSは、対向電極23と、検出電極24とを有し、検出電極24が誘電体を介して対向電極23から間を隔てて対面しており、被検知体Fが検出電極24に近接したときに静電容量が変化する。ここでは、検出電極24は、対向電極23に対面する面にスリットKKが形成されている。このため、上述したように、本実施形態のタッチセンサTSは、検出電極24にスリットKKを設けない場合と比較して、被検知体Fの有無による静電容量の変動を大きくすることができる。
さらに、本実施形態においては、検出電極24のスリットKKの内部に、フローティング電極25が設けられている。このため、上述したように、本実施形態では、タッチセンサTSのセンサ感度に大きく寄与するフリンジ容量を、大きくすることができる。
したがって、本実施形態においては、タッチセンサの検出感度を向上することが可能であり、被検知体Fのタッチ位置の検出を高精度に実施することができる。
また、本実施形態において、複数の対向電極23は、タッチセンサTSにて誘電体を介して複数の検出電極24に対向する走査電極として機能する。また、これと共に、複数の対向電極23は、画像表示を行う画素Pにおいて液晶層203を介して複数の画素電極62pに対向する共通電極として機能する。これにより、画像表示用のコモン駆動信号を、位置検出用の駆動信号としても利用し、タッチセンサTSの検出信号を得ることができる。つまり、対向電極23は、画像表示のために液晶層203に電圧を印加する共通電極、および、タッチセンサTSを構成する走査電極として、兼用されるように構成されている。さらに、別途、タッチパネルを外付けしていないので、全体を薄型化することができる。
よって、本実施形態は、装置の薄型化が可能であって、製造効率が向上し、コストダウンを実現可能である。
<2.実施形態2>
以下より、本発明にかかる実施形態2について説明する。
(A)液晶パネルの詳細構成
本実施形態における液晶パネル200bの詳細構成について説明する。
図16と図17は、本発明にかかる実施形態2において、液晶パネル200bの要部を示す図である。
ここで、図16は、本発明の実施形態2にかかる液晶パネル200bにおいて、表示領域PAに設けられた画素Pの概略を模式的に示す断面図である。
また、図17は、本発明にかかる実施形態2において、液晶パネル200bの表示領域PAに設けられた画素Pの概略を模式的に示す上面図である。
図16,図17に示すように、本実施形態の液晶パネル200bは、FFS(Fringe Field Switching)方式に対応するように、画素電極62pbと対向電極23bとが形成されている。この点、および、これに関連する点を除き、実施形態1と同様である。このため、重複する個所については、説明を省略する。
画素電極62pbは、図16に示すように、TFTアレイ基板201において対向基板202に対面する面の側に形成されている。
ここでは、画素電極62pbは、図16に示すように、TFTアレイ基板201において対向電極23bを被覆するように、絶縁材料で形成された層間絶縁膜61の上に設けられている。たとえば、シリコン窒化膜として形成された層間絶縁膜61上に設けられている。
本実施形態においては、液晶パネル200bがFFS方式であるので、画素電極62pbは、図17に示すように、xy面においては、櫛歯状になるようにパターン加工されている。
具体的には、図17に示すように、画素電極62pbは、基幹部62bkと、枝部62beとを有する。
画素電極62pbにおいて、基幹部62bkは、図17に示すように、x方向に延在している。
そして、画素電極62pbにおいて、枝部62beは、図17に示すように、基幹部62bkに接続されており、y方向に延在している。この枝部62beは、図17に示すように、x方向において、複数がスペースを隔てて並ぶように配置されている。そして、その複数のそれぞれは、両端部が基幹部62bkに接続され、互いに平行に延在するように並んでいる。
対向電極23bは、図16に示すように、TFTアレイ基板201において対向基板202に対面する面の側に形成されている。ここでは、対向電極23bは、TFTアレイ基板201に形成された層間絶縁膜61上に設けられている。
図18は、本発明にかかる実施形態2において、対向電極23bの詳細構成を示す図である。ここで、図18は、対向電極23bの上面図である。
図18に示すように、対向電極23bは、実施形態1の場合と同様に、ストライプ状であって、水平方向xに延在している。そして、対向電極23bは、複数が、垂直方向yにて間を隔てて並ぶように配置されている。つまり、上方から下方へ向かって、第1から第nの対向電極23b_1〜23b_nのn本が、対向電極23bとして設けられている。ここでは、対向電極23bは、垂直方向yに並ぶ複数の画素電極62pのそれぞれに対面するように複数が等間隔に配置されている。
第1から第nの対向電極23b_1〜23b_nのそれぞれは、図18に示すように、実施形態1の場合と同様に、センサ駆動部Sに電気的に接続されている。第1から第nの対向電極23b_1〜23b_nのそれぞれは、順次、選択されて、センサ駆動部Sから出力された駆動信号Sgが供給される。つまり、第1から第nの対向電極23b_1〜23b_nのそれぞれは、線順次走査駆動によって、駆動信号Sgが供給される。
また、図示を省略しているが、液晶層203は、TFTアレイ基板201と対向基板202とが対面するxy面の方向に、液晶分子の長手方向が沿うように、配向処理されている。つまり、液晶分子が水平配向するように形成されている。
上記の表示装置100において、画像表示が実施される際には、画素電極62pと対向電極23bとによって、液晶層203に横電界が印加されて、液晶層203の液晶分子の配向が変化し、液晶層203を透過する光が変調される。
そして、ユーザーの指などの被検知体Fが液晶パネル200bの表示領域PAに接触した位置を検出する動作は、実施形態1の場合と同様にして実施される。
(B)まとめ
以上のように、本実施形態の液晶パネル200bは、FFS方式であって、横電界が液晶層203に印加されて、画像表示が実施される。また、上述したように、タッチ位置の検出動作は、実施形態1の場合と同様にして実施される。
本実施形態において、検出電極24は、実施形態1と同様に、構成されている。つまり、検出電極24は、対向電極23bに対面する面にスリットKKが形成されている。このため、実施形態1の場合と同様に、タッチセンサTSの検出感度を向上することが可能であり、被検知体のタッチ位置の検出を高精度に実施することができる。
さらに、本実施形態においては、実施形態1と同様に、検出電極24のスリットKKの内部に、フローティング電極25が設けられている。このため、本実施形態では、タッチセンサTSのセンサ感度に大きく寄与するフリンジ容量を、大きくすることができる。
したがって、本実施形態は、被検知体のタッチ位置の検出を高精度に実施することができる。
なお、FFS方式以外に、IPS(In−Plane−Swiching)方式などのように、横電界を液晶層203に印加するモードにおいて、同様に、構成した場合であっても、同様な効果を得ることができる。
<3.実施形態3>
以下より、本発明にかかる実施形態3について説明する。
図19は、本発明にかかる実施形態3において、表示装置100cの構成の概略を示す図である。
図19に示すように、本実施形態の表示装置100cは、液晶パネル200cが実施形態1の場合と異なる。また、液晶パネル200c上に、タッチパネル209がさらに配置されている。この点、および、これに関連する点を除き、実施形態1と同様である。このため、重複する個所については、説明を省略する。
(A)液晶パネルの構成
液晶パネル200cの構成について説明する。
図20は、本発明にかかる実施形態3において、液晶パネル200cの構成を示す図である。図20は、画素Pの概略を模式的に示す断面図である。
液晶パネル200cは、図20に示すように、実施形態1の場合と異なり、タッチセンサTSが設けられていない。
このため、液晶パネル200cを構成する対向基板202においては、タッチセンサTSを構成する検出電極24(図3参照)が設けられていない。
また、対向電極23cは、実施形態1のように、複数に分割されて形成されていない。図示していないが、本実施形態においては、対向電極23cは、複数の画素電極62pが配列された表示領域PAの全面を一体的に被覆するように、平坦化膜22上にベタ状に形成されている。そして、対向電極23cは、画像表示が実施される際には、共通電位Vcomが印加される。
(B)タッチパネルの構成
タッチパネル209の構成について説明する。
図21は、本発明にかかる実施形態3において、タッチパネル209の構成を示す図である。図21は、タッチパネル209の断面を模式的に示している。
タッチパネル209は、図21に示すように、タッチパネル基板209sを含む。
タッチパネル209において、タッチパネル基板209sは、光を透過する絶縁体の基板であり、たとえば、ガラスにより形成されている。そして、タッチパネル基板209sにおいては、図21に示すように、タッチセンサTSが設けられている。
タッチセンサTSは、図21に示すように、対向電極23tと検出電極24tとが誘電体であるタッチパネル基板209sを挟んで設けられており、静電容量型のタッチパネル209を構成している。つまり、タッチセンサTSは、被検知体(図示なし)が検出電極24tに近接したときに静電容量が変化するように構成されている。
タッチセンサTSにおいて、対向電極23tは、図21に示すように、タッチパネル基板209sの下面に形成されている。対向電極23tは、実施形態1の場合と同様に、可視光を透過する透明電極であって、たとえば、ITOを用いて形成されている。
図22は、本発明にかかる実施形態3において、対向電極23tの詳細構成を示す図である。ここで、図22は、対向電極23tの上面図である。
図22に示すように、対向電極23tは、実施形態1の場合と同様に、ストライプ状であって、タッチパネル基板209sの面において、水平方向xに延在している。そして、対向電極23tは、複数が、垂直方向yにて間を隔てて並ぶように配置されている。つまり、上方から下方へ向かって、第1から第nの対向電極23t_1〜23t_nのn本が、対向電極23tとして設けられている。
第1から第nの対向電極23t_1〜23t_nのそれぞれは、図22に示すように、実施形態1の場合と同様に、センサ駆動部Sに電気的に接続されており、順次、選択されて、センサ駆動部Sから出力された駆動信号Sgが供給される。つまり、第1から第nの対向電極23t_1〜23_nのそれぞれは、線順次走査駆動によって、駆動信号Sgが供給される。ここでは、実施形態1と同様に、共通電位Vcomの駆動信号Sgが供給される。
タッチセンサTSにおいて、検出電極24tは、図21に示すように、タッチパネル基板209sの上面に形成されている。検出電極24tは、可視光を透過する透明電極であって、たとえば、ITOを用いて形成されている。
図23は、本発明にかかる実施形態3において、検出電極24tの詳細構成を示す図である。ここで、図23は、検出電極24tの上面図である。
図23に示すように、検出電極24tは、実施形態1の場合と同様に、ストライプ状であって、タッチパネル基板209sの面において、垂直方向yに延在している。そして、検出電極24tは、複数が、水平方向xにて間を隔てて並ぶように配置されている。つまり、左側から右側へ向かって、第1から第kの検出電極24t_1〜24t_kのk本が、検出電極24tとして設けられている。
第1から第kの検出電極24t_1〜24t_kのそれぞれは、図23に示すように、検出器DETに電気的に接続されており、検出信号Vdetが検出器DETへ出力される。
また、図23に示すように、検出電極24tのそれぞれは、実施形態1の場合と同様に、対向電極23tに対面する面にスリットKKが形成されている。
そして、図23に示すように、各スリットKKの内部においては、実施形態1の場合と同様に、フローティング電極25tが設けられている。ここでは、フローティング電極25tは、複数のスリットKKのそれぞれに対応するように、複数が、水平方向xと垂直方向yとのそれぞれに並ぶように設けられている。
本実施形態のタッチパネル209においては、実施形態1の場合と同様にして、タッチセンサTSが駆動されて、タッチ位置の検出が実施される。
具体的には、複数の対向電極23tのうち、一部の対向電極23tが選択されて駆動信号Sgが供給される。そして、その複数の対向電極23tが垂直方向yにおいてシフトして選択されて、同様に、駆動信号Sgの供給が実施される。この動作が繰り返し実施されて、タッチ位置の検出が実施される。
(C)まとめ
以上のように、本実施形態のタッチパネル209は、上述したように、タッチ位置の検出動作が、実施形態1の場合と同様にして実施される。
本実施形態において、検出電極24tは、対向電極23tに対面する面にスリットKKが形成されている。このため、実施形態1の場合と同様に、タッチセンサTSの検出感度を向上することが可能であり、被検知体のタッチ位置の検出を高精度に実施することができる。
さらに、本実施形態においては、実施形態1と同様に、検出電極24tのスリットKKの内部に、フローティング電極25tが設けられている。このため、本実施形態では、タッチセンサTSのセンサ感度に大きく寄与するフリンジ容量を、大きくすることができる。
したがって、本実施形態は、被検知体のタッチ位置の検出を高精度に実施することができる。
<4.実施形態4>
以下より、本発明にかかる実施形態4について説明する。
図24は、本発明にかかる実施形態4において、検出電極24dの詳細構成を示す図である。ここで、図24は、検出電極24dの上面図である。
図24に示すように、本実施形態においては、検出電極24dが、実施形態1の場合と異なる。この点、および、これに関連する点を除き、実施形態1と同様である。このため、重複する個所については、説明を省略する。
(A)検出電極について
図24に示すように、検出電極24dは、複数が、水平方向xにて間を隔てて並ぶように配置されている。つまり、左側から右側へ向かって、第1から第kの検出電極24d_1〜24d_kのk本が、検出電極24dとして設けられている。
そして、図24に示すように、検出電極24dにおいて、垂直方向yに並ぶ複数の凸部24Cdは、実施形態1の場合と異なり、水平方向xにおける端部の位置が、垂直方向yにおいてランダムになるように形成されている。
(B)まとめ
以上のように、本実施形態において、複数の凸部24Cdは、水平方向xにおける端部の位置が、垂直方向yにおいてランダムになるように形成されている。つまり、検出電極24dの端部の位置が、直線状でなく、さまざまな位置になるように形成されている。
このため、本実施形態は、検出電極24dが視認されにくい。
したがって、本実施形態は、検知面において表示する画像の画像品質を、さらに向上させることができる。
<5.実施形態5>
以下より、本発明にかかる実施形態5について説明する。
図25は、本発明にかかる実施形態5において、検出電極24eの詳細構成を示す図である。ここで、図25は、検出電極24eの上面図である。
図25に示すように、本実施形態においては、検出電極24eが、実施形態1の場合と異なる。この点、および、これに関連する点を除き、実施形態1と同様である。このため、重複する個所については、説明を省略する。
(A)検出電極について
図25に示すように、検出電極24eは、ストライプ状であって、垂直方向yに延在している。そして、検出電極24eは、複数が、水平方向xにて間を隔てて並ぶように配置されている。つまり、左側から右側へ向かって、第1から第kの検出電極24e_1〜24e_kのk本が、検出電極24eとして設けられている。
この検出電極24eには、スリットKKeが形成されている。スリットKKeは、各検出電極24eの内部において、円形状で形成されており、複数が垂直方向yおよび水平方向xにおいて、間を隔てて並ぶように設けられている。
そして、図25に示すように、各スリットKKeの内部においては、フローティング電極25eが設けられている。ここでは、フローティング電極25eは、複数のスリットKKeのそれぞれに対応するように、複数が、水平方向xと垂直方向yとのそれぞれに並ぶように設けられている。フローティング電極25eは、円形状であって、スリットKKeよりも直径が小さくなるように形成されている。
(B)まとめ
以上のように、本実施形態において、検出電極24eは、円形状のスリットKKeが形成されている。このため、対向電極23と検出電極24eとの間でフリンジ電界が、より均一に発生する。
したがって、本実施形態は、被検知体のタッチ位置の検出を高精度に実施することができる。
<6.実施形態6>
以下より、本発明にかかる実施形態6について説明する。
図26は、本発明にかかる実施形態6において、検出電極24fの詳細構成を示す図である。ここで、図26は、検出電極24fの上面図である。
図26に示すように、本実施形態においては、検出電極24fが、実施形態1の場合と異なる。この点、および、これに関連する点を除き、実施形態1と同様である。このため、重複する個所については、説明を省略する。
(A)検出電極について
図26に示すように、検出電極24fは、全体として、垂直方向yに延在している。そして、検出電極24fは、複数が、水平方向xにて間を隔てて並ぶように配置されている。つまり、左側から右側へ向かって、第1から第kの検出電極24f_1〜24f_kのk本が、検出電極24fとして設けられている。
検出電極24fにおいては、図26に示すように、スリットKKfが形成されている。スリットKKfは、各検出電極24dの内部において、ストライプ状に形成されており、垂直方向yへ延在している。スリットKKfは、検出電極24fにおいて、複数が水平方向xにおいて、間を隔てて並ぶように設けられている。
また、検出電極24fのそれぞれは、図26に示すように、垂直方向yに延在する側端部に、凸部24Cfが形成されている。凸部24Cfは、水平方向xへ凸状に突出しており、垂直方向yにおいて複数が、間を隔てて設けられている。ここでは、複数の凸部24Cfのそれぞれは、垂直方向yにおいて、一つのスリットKKfを挟むように設けられている。
そして、図26に示すように、各スリットKKfの内部においては、フローティング電極25fが設けられている。ここでは、フローティング電極25fは、正方形になるように形成されている。そして、フローティング電極25fは、一のスリットKKeの内部において、複数が、垂直方向yに並ぶように設けられている。
(B)まとめ
以上のように、本実施形態において、検出電極24fは、実施形態1に対して形状が異なっているが、実施形態1の場合と同様に、スリットKKfが形成されている。このため、実施形態1の場合と同様に、本実施形態は、タッチセンサにおいて、被検知体Fの有無による静電容量の変動を大きくすることができる。
さらに、本実施形態においては、検出電極24fのスリットKKfの内部に、フローティング電極25fが設けられている。このため、本実施形態では、実施形態1と同様に、タッチセンサのセンサ感度に大きく寄与するフリンジ容量を、大きくすることができる。
したがって、本実施形態においては、タッチセンサの検出感度を向上することが可能であり、被検知体Fのタッチ位置の検出を高精度に実施することができる。
<7.その他>
本発明の実施に際しては、上記の実施形態に限定されるものではなく、各実施形態の事項を組み合わせる等、種々の変形形態を採用することができる。
たとえば、検出電極に設けるスリットの形状、および、フローティング電極の形状については、上記の実施形態のほかに、さまざまな形状が適用できる。
図27は、本発明にかかる実施形態の変形例において、検出電極の詳細構成を示す図である。ここで、図27は、検出電極の上面図である。
図27(a)に示すように、矩形状のスリットKKにおいて、垂直方向yにおける端部が、水平方向xにおいて互いに異なる位置の部分を含むように形成しても良い。
図27(b)に示すように、六角形状のスリットKKがハニカム状に配列するように設けても良い。そして、スリットKKの内部に、そのスリットKKの形状と同様に、六角形状のフローティング電極25を形成しても良い。
また、図27(c)に示すように、三角形状のスリットKKを水平方向xにおいて上下が順次反対になるように配置するともに、この正三角形状のスリットKKのグループを、垂直方向yにおいて、順次、対称になるように配置してもよい。そして、スリットKKの内部に、そのスリットKKの形状と同様に、三角形状のフローティング電極25を形成しても良い。
また、図27(d)に示すように、ひし形のスリットKKを、垂直方向yと水平方向xとに配置するように形成してもよい。そして、そして、スリットKKの内部に、そのスリットKKの形状と同様に、ひし形状のフローティング電極25を形成しても良い。
上記の実施形態においては、タッチセンサを駆動する際には、対向電極を交流駆動する動作を、複数(n本)の対向電極が並ぶ垂直方向にてシフトさせて、繰り返し実施している。この交流駆動動作では、連続して並ぶ複数(m本(m<n))の対向電極を選択して、同時に交流駆動している。ここでは、画素駆動動作の実施にて用いる対向電極を含むように、複数(m本(m<n))の対向電極が選択される。そして、連続する交流駆動動作の実施においては、少なくとも1本の対向電極を連続的に交流駆動するように、上記のシフトを実施している。しかしながら、タッチセンサを駆動する際には、この動作に限定されない。たとえば、1本の対向電極ごとに、上記の交流駆動を実施するように、動作させてもよい。
上記の実施形態においては、液晶パネルの表示領域にタッチセンサを形成する場合について説明したが、これに限定されない。液晶パネルの周辺領域にタッチセンサを形成する場合に本発明を適用してもよい。
上記の実施形態においては、液晶パネルが透過型である場合について説明したが、これに限定されない。反射型や、透過型と反射型とを併用可能な半透過型として、液晶パネルを構成する場合に適用しても良い。
また、有機ELディスプレイなどのように、液晶パネル以外の表示パネルにおいて本発明を適用しても良い。
また、本実施形態の表示装置100等は、さまざまな電子機器の部品として適用することができる。
図28から図32は、本発明にかかる実施形態の表示装置100を適用した電子機器を示す図である。
図28に示すように、テレビジョン放送を受信し表示するテレビにおいて、その受信した画像を表示画面に表示すると共に、オペレータの操作指令が入力される表示装置として表示装置100を適用することができる。
また、図29に示すように、デジタルスチルカメラにおいて、その撮像画像などの画像を表示画面に表示すると共に、オペレータの操作指令が入力される表示装置として表示装置100を適用することができる。
また、図30に示すように、ノート型パーソナルコンピュータにおいて、操作画像などを表示画面に表示すると共に、オペレータの操作指令が入力される表示装置として表示装置100を適用することができる。
また、図31に示すように、携帯電話端末において、操作画像などを表示画面に表示すると共に、オペレータの操作指令が入力される表示装置として表示装置100を適用することができる。
また、図32に示すように、ビデオカメラにおいて、操作画像などを表示画面に表示すると共に、オペレータの操作指令が入力される表示装置として表示装置100を適用することができる。
なお、上記の実施形態において、対向電極23,23b,23c,23tは、本発明の走査電極,共通電極に相当する。また、上記の実施形態において、検出電極24,24d,24e,24f,24tは、本発明の検出電極に相当する。また、上記の実施形態において、凸部24C,24Cd,24Cfは、本発明の凸部に相当する。また、上記の実施形態において、フローティング電極25,25e,25f,25tは、本発明のフローティング電極に相当する。また、上記の実施形態において、画素電極62p,62pbは、本発明の画素電極に相当する。また、上記の実施形態において、表示装置100,100cは、本発明の表示装置および情報入力装置に相当する。また、上記の実施形態において、液晶パネル200,200b,200cは、本発明の表示パネルに相当する。また、上記の実施形態において、TFTアレイ基板201は、本発明の第2基板に相当する。また、上記の実施形態において、対向基板202は、本発明の第1基板に相当する。また、上記の実施形態において、液晶層203は、本発明の液晶層に相当する。また、上記の実施形態において、タッチパネル209は、本発明のタッチパネルに相当する。また、上記の実施形態において、スリットKK,KKe,KKfは、本発明のスリットに相当する。また、上記の実施形態において、タッチセンサTSは、本発明のタッチセンサに相当する。
11:垂直駆動回路、12:水平駆動回路、21:カラーフィルタ層、22:平坦化膜、23,23b,23c,23t:対向電極、24,24d,24e,24f,24t:検出電極、24C,24Cd,24Cf:凸部、25,25e,25f,25t:フローティング電極、31:画素スイッチング素子、61:層間絶縁膜、62be:枝部、62bk:基幹部、62p,62pb:画素電極、81:OPアンプ回路、82:整流回路、83:出力回路、84:OPアンプ、85:コンパレータ、91:制御部、92:ラッチ回路、93:バッファ回路、100,100c:表示装置、200,200b,200c:液晶パネル、201:TFTアレイ基板、202:対向基板、203:液晶層、206:第1の偏光板、207:第2の偏光板、208:カバーガラス、209:タッチパネル、209s:タッチパネル基板、300:バックライト、400:データ処理部、401:制御部、402:位置検出部、CA:周辺領域、DET:検出器、F:被検知体、GL:ゲート線、KK,KKe,KKf:スリット、P:画素、PA:表示領域、R:照明光、S:センサ駆動部、SL:信号線、Sz:層間絶縁膜、TS:タッチセンサ、Vdet:検出信号、Y:誘電体

Claims (13)

  1. 被検知体が検知面に近接した位置を検知するタッチセンサが設けられているタッチパネルを具備しており、
    前記タッチセンサは、
    走査電極と、
    誘電体を介して前記走査電極から間を隔てて対面している検出電極と、
    を有し、前記被検知体が前記検出電極に近接したときに静電容量が変化する静電容量型であり、
    前記走査電極は、前記検知面の面方向において、第1方向に延在しており、複数が前記第1方向に垂直な第2方向にて間を隔てて並ぶように配列されており、
    前記検出電極は、前記第2方向に延在しており、複数が前記第1方向に間を隔てて並ぶように配列され、前記走査電極に対面する当該検出電極内部の面にスリットが形成されており、当該スリット内にフローティング電極が設けられていると共に前記第2方向に延在する側端部において前記第1方向へ凸状に突出した凸部を含み、前記凸部は、前記第2方向において複数が間を隔てて設けられている、
    情報入力装置。
  2. 前記フローティング電極は、前記スリット内に島状に設けられている、
    請求項1に記載の情報入力装置。
  3. 前記検出電極と前記フローティング電極は、可視光を透過する透明電極である、
    請求項1または2に記載の情報入力装置。
  4. 前記検出電極は、前記スリットが複数設けられている、
    請求項1からのいずれかに記載の情報入力装置。
  5. 前記検出電極は、複数の前記スリットが、前記第1方向と前記第2方向とのそれぞれに並ぶように設けられており、
    前記フローティング電極は、複数の前記スリットのそれぞれに対応するように複数が前記第1方向と前記第2方向とのそれぞれに並ぶように設けられている、
    請求項1から4のいずれかに記載の情報入力装置。
  6. 前記第2方向に並ぶ複数の凸部は、前記第1方向における端部の位置が、前記第2方向においてランダムになるように形成されている、
    請求項からのいずれかに記載の情報入力装置。
  7. 前記検出電極は、前記スリットが円形である、
    請求項1からのいずれかに記載の情報入力装置。
  8. 複数の前記走査電極から走査電極を選択し、当該選択した走査電極に駆動信号を供給するタッチセンサ駆動動作を繰り返し実施することによって、前記タッチセンサを駆動させる制御部を有し、
    前記制御部は、前記タッチセンサ駆動動作の実施の際には、前記複数(n個)の走査電極のうち、第2方向にて連続して並ぶ複数(m個,2<m<n)の走査電極を走査電極群として選択すると共に、連続する当該タッチセンサ駆動動作の間にて、異なる走査電極と、共通する走査電極とが含まれるように、前記走査電極群を前記第2方向にてシフトさせて選択する、
    請求項1からのいずれかに記載の情報入力装置。
  9. 画像を表示する表示面において被検知体が近接した位置を検知するタッチセンサが設けられている表示パネルを具備しており、
    前記タッチセンサは、
    走査電極と、
    誘電体を介して前記走査電極から間を隔てて対面している検出電極と、
    を有し、前記被検知体が前記検出電極に近接したときに静電容量が変化する静電容量型であり、
    前記走査電極は、前記表示面の面方向において、第1方向に延在しており、複数が前記第1方向に垂直な第2方向にて間を隔てて並ぶように配列されており、
    前記検出電極は、前記第2方向に延在しており、複数が前記第1方向に間を隔てて並ぶように配列され、前記走査電極に対面する当該検出電極内部の面にスリットが形成されており、当該スリット内にフローティング電極が設けられていると共に前記第2方向に延在する側端部において前記第1方向へ凸状に突出した凸部を含み、前記凸部は、前記第2方向において複数が間を隔てて設けられている、
    表示装置。
  10. 前記表示パネルは、
    第1基板と、
    前記第1基板から間を隔てて対面している第2基板と、
    前記第1基板と前記第2基板との間に設けられた液晶層と、
    を含む液晶パネルである、
    請求項に記載の表示装置。
  11. 前記検出電極は、前記第1基板において前記第2基板に対向する面に対して反対側に設けられており、
    前記走査電極は、前記第1基板を介して前記検出電極に対面するように、前記第1基板と前記第2基板との間に設けられている、
    請求項10に記載の表示装置。
  12. 前記走査電極は、前記第1基板と前記第2基板とが対面する面において、第1方向に延在しており、複数が前記第1方向に垂直な第2方向に間を隔てて並ぶように配列されており、
    前記検出電極は、前記第2方向に延在しており、複数が前記第1方向に間を隔てて並ぶように配列されている、
    請求項10または11に記載の表示装置。
  13. 前記表示パネルは、
    表示領域に並ぶ複数の画素電極と、
    前記表示領域において前記複数の画素電極から間を隔てて設けられている共通電極と、
    を含み、
    前記複数の走査電極が、前記共通電極として兼用される、
    請求項から12のいずれかに記載の表示装置。
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