JP5486003B2 - 半導体部品を製造するためのマイクロリソグラフィ用の投影露光装置 - Google Patents
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Description
Claims (32)
- 半導体部品を製造するためのマイクロリソグラフィ用の投影露光装置(1)であり、機械的に制御された形式で作動可能な少なくとも1つの光学素子(8a〜8k)と、前記光学素子(8a、8b、8d)の前記機械的作動を得るための少なくとも1つのアクチュエータ(19)とを有する少なくとも1つの光学アセンブリ(9a〜9k)が構造体(6)内に取り付けられ、変形操作を含む前記機械的作動を実行するために、少なくとも前記投影露光装置(1)が特定の動作状態にある間は前記光学アセンブリ(9a〜9k)に寄生的な機械的効果を及ぼさない制御信号伝達デバイス(10、11、23、30、31、32)および/またはエネルギー伝達デバイス(10、12、23、26、29、30、31、32、35、42、45)が設けられ、前記エネルギー伝達デバイス(12、23、35)によりエネルギーの非接触伝達が実現され、前記構造体(6)における前記光学アセンブリ(9e)の少なくとも1つの既存の機械的連結部(10、10’、30)、特にベアリング(10’)、アクチュエータ(19)または自重補償デバイス(30)は、前記制御信号伝達デバイス(10、10’、30)として、または前記制御信号伝達デバイスの一部(10、10’、30)として実施されることを特徴とする、投影露光装置。
- 請求項1に記載の投影露光装置であり、前記制御信号伝達デバイス(11、23)により制御信号の非接触伝達が実現されることを特徴とする、投影露光装置。
- 請求項2に記載の投影露光装置であり、前記制御信号および/または前記エネルギーの前記非接触伝達は電磁誘導または電磁波を利用して、特に光波または電波を利用して達成されることを特徴とする、投影露光装置。
- 請求項1、2または3のいずれか一項に記載の投影露光装置であり、前記制御信号伝達デバイス(11、23)は少なくとも1つの送信デバイス(13、24、25)と、少なくとも1つの受信デバイス(14、24、25)とを有することを特徴とする、投影露光装置。
- 請求項1〜4のいずれか一項に記載の投影露光装置であり、前記エネルギー伝達デバイス(12、24、29、35)は少なくとも1つの送信デバイス(21、24、25、35)と、少なくとも1つの受信デバイス(22、24、25)とを有することを特徴とする、投影露光装置。
- 請求項4または5に記載の投影露光装置であり、前記構造体(6)は、前記制御信号伝達デバイス(11、23)および/または前記エネルギー伝達デバイス(12、23、35)の少なくとも1つの送信デバイス(13、21、24)および/または少なくとも1つの受信デバイス(14、24、25、29)を有することを特徴とする、投影露光装置。
- 請求項4、5または6のいずれか一項に記載の投影露光装置であり、前記光学素子(8a〜8h)または前記光学アセンブリ(9a〜9h)は、前記制御信号伝達デバイス(11、23)および/または前記エネルギー伝達デバイス(12、23、25)の少なくとも1つの送信デバイス(14、25)および/または少なくとも1つの受信デバイス(22、25)を有することを特徴とする、投影露光装置。
- 請求項1〜7のいずれか一項に記載の投影露光装置であり、前記制御信号伝達デバイス(11)および/または前記エネルギー伝達デバイス(12)は少なくとも1つの信号処理デバイス(15、16)を有することを特徴とする、投影露光装置。
- 請求項1〜8のいずれか一項に記載の投影露光装置であり、前記光学アセンブリ(9a、9b、9d)は、前記光学素子(8a、8b、8d)の感知のための少なくとも1つのセンサ(20)を有することを特徴とする、投影露光装置。
- 請求項1〜9のいずれか一項に記載の投影露光装置であり、前記光学素子(8b)および/または前記光学アセンブリ(9b)は、前記光学素子(8b)の前記機械的作動を独立して実行する下位制御/調節デバイス(27)を有することを特徴とする、投影露光装置。
- 請求項4〜10のいずれか一項に記載の投影露光装置であり、前記少なくとも1つの送信デバイスは特に制御可能な光電アクチュエータまたは光源(21、24、25)として実施されることを特徴とする、投影露光装置。
- 請求項4〜11のいずれか一項に記載の投影露光装置であり、少なくとも1つの受信デバイスは光電検出器(22、24、25)として実施されることを特徴とする、投影露光装置。
- 請求項4〜12のいずれか一項に記載の投影露光装置であり、少なくとも1つの送信デバイスは無線送信機(13)として実施されることを特徴とする、投影露光装置。
- 請求項4〜13のいずれか一項に記載の投影露光装置であり、少なくとも1つの受信デバイスは無線受信機(14)として実施されることを特徴とする、投影露光装置。
- 請求項9〜14のいずれか一項に記載の投影露光装置であり、前記光学アセンブリ(9a、9b、9d)の前記アクチュエータ(19)は低電力損失を出力することを特徴とする、投影露光装置。
- 請求項9〜15のいずれか一項に記載の投影露光装置であり、少なくとも1つのアクチュエータはピエゾアクチュエータ(19)として実施されることを特徴とする、投影露光装置。
- 請求項1〜16のいずれか一項に記載の投影露光装置であり、前記光学アセンブリ(9b、9c、9d)はエネルギー貯蔵部(26、29)を有することを特徴とする、投影露光装置。
- 請求項17に記載の投影露光装置であり、前記エネルギー貯蔵部(26)はエネルギーを供給することによって給電することができることを特徴とする、投影露光装置。
- 請求項17または18に記載の投影露光装置であり、前記エネルギー貯蔵部(26)は前記投影露光装置(1)の特定の動作状態、特に露光停止時に給電することができることを特徴とする、投影露光装置。
- 請求項1に記載の投影露光装置であり、前記制御信号伝達デバイスおよび/もしくは前記エネルギー伝達デバイス、または前記制御信号伝達デバイスおよび/もしくは前記エネルギー伝達デバイスの一部は、制御された能動追跡型回線接続(31)として実施されることを特徴とする、投影露光装置。
- 半導体部品を製造するためのマイクロリソグラフィ用の投影露光装置(1)であり、機械的に制御された形式で作動可能な少なくとも1つの光学素子(8a〜8k)と、前記光学素子(8a、8b、8d)の前記機械的作動を得るための少なくとも1つのアクチュエータ(19)とを有する少なくとも1つの光学アセンブリ(9a〜9k)が構造体(6)内に取り付けられ、変形操作を含む前記機械的作動を実行するために、少なくとも前記投影露光装置(1)が特定の動作状態にある間は前記光学アセンブリ(9a〜9k)に寄生的な機械的効果を及ぼさない制御信号伝達デバイス(10、11、23、30、31、32)および/またはエネルギー伝達デバイス(10、12、23、26、29、30、31、32、35、42、45)が設けられ、前記エネルギー伝達デバイス(12、23、35)によりエネルギーの非接触伝達が実現され、前記制御信号伝達デバイスまたは前記制御信号伝達デバイスの一部は、前記構造体(6)における前記光学アセンブリ(9g)の付加的な機械的連結部(32)として実施され、前記機械的連結部(32)は、少なくとも1つのばね要素(33)および少なくとも1つの吸収体(34)を有することを特徴とする、投影露光装置。
- 半導体部品を製造するためのマイクロリソグラフィ用の投影露光装置(1)であり、機械的に制御された形式で作動可能な少なくとも1つの光学素子(8a〜8k)と、前記光学素子(8a、8b、8d)の前記機械的作動を得るための少なくとも1つのアクチュエータ(19)とを有する少なくとも1つの光学アセンブリ(9a〜9k)が構造体(6)内に取り付けられ、変形操作を含む前記機械的作動を実行するために、少なくとも前記投影露光装置(1)が特定の動作状態にある間は前記光学アセンブリ(9a〜9k)に寄生的な機械的効果を及ぼさない制御信号伝達デバイス(10、11、23、30、31、32)および/またはエネルギー伝達デバイス(10、12、23、26、29、30、31、32、35、42、45)が設けられ、前記エネルギー伝達デバイス(12、23、35)によりエネルギーの非接触伝達が実現され、前記光学アセンブリ(9i、9k)および/または前記光学素子(8i、8k)は、前記光学素子(8i、8k)の前記機械的作動を得るための少なくとも1つのピエゾアクチュエータ(40、44)を有し、前記エネルギー伝達デバイスは、前記光学素子(8h、8k)の前記機械的作動を得るために、前記少なくとも1つのピエゾアクチュエータ(44)に対して粒子放射を所期の形式で放出する放射源(35、45)として実施されることを特徴とする、投影露光装置。
- 請求項22に記載の投影露光装置であり、前記光学素子(8i)は、ピエゾアクチュエータとして、圧電材料で構成された少なくとも1つのモノリシック部分層(40)すなわち1ピースとして形成される少なくとも1つの部分層を有することを特徴とする、投影露光装置。
- 請求項22または23に記載の投影露光装置であり、前記少なくとも1つのピエゾアクチュエータ(44)は平行六面体の形式で実施され、前記モノリシック部分層(40)すなわち1ピースとして形成される前記部分層は少なくとも1つの、特に平行六面体状の突起(41)を有することを特徴とする、投影露光装置。
- 半導体部品を製造するためのマイクロリソグラフィ用の投影露光装置(1)であり、機械的に制御された形式で作動可能な少なくとも1つの光学素子(8a〜8k)と、前記光学素子(8a、8b、8d)の前記機械的作動を得るための少なくとも1つのアクチュエータ(19)とを有する少なくとも1つの光学アセンブリ(9a〜9k)が構造体(6)内に取り付けられ、変形操作を含む前記機械的作動を実行するために、少なくとも前記投影露光装置(1)が特定の動作状態にある間は前記光学アセンブリ(9a〜9k)に寄生的な機械的効果を及ぼさない制御信号伝達デバイス(10、11、23、30、31、32)および/またはエネルギー伝達デバイス(10、12、23、26、29、30、31、32、35、42、45)が設けられ、前記エネルギー伝達デバイス(12、23、35)によりエネルギーの非接触伝達が実現され、前記エネルギー伝達デバイスは、前記光学素子(8h、8k)の前記機械的作動を得るために、前記光学素子(8h、8k)に対して熱放射を所期の形式で放出する放射源(35、45)として実施されることを特徴とする、投影露光装置。
- 請求項22、23または24のいずれか一項に記載の投影露光装置であり、前記放射源(35)は粒子放射として電子を放出する電子銃として実施されることを特徴とする、投影露光装置。
- 請求項22、23または24のいずれか一項に記載の投影露光装置であり、前記少なくとも1つのピエゾアクチュエータ(44)または前記モノリシック部分層(40)の前記少なくとも1つの突起(41)を放電するために、前記少なくとも1つのピエゾアクチュエータ(44)または前記少なくとも1つの突起(41)に対してUV放射を所期の形式で放出する少なくとも1本の放電ケーブル(46)またはUV放射源(47、48)が設けられることを特徴とする、投影露光装置。
- 請求項22、23または24のいずれか一項に記載の投影露光装置であり、
前記少なくとも1つのピエゾアクチュエータ(44)または前記少なくとも1つの突起(41)はエネルギー伝達デバイスとして電極(42)を備えることを特徴とする、投影露光装置。 - 請求項22、23または24のいずれか一項に記載の投影露光装置であり、所期の形式で放出された前記放射によって達成される前記光学素子(8h、8k)の前記機械的作動は干渉計を利用して測定することができ、または熱画像カメラ(38)を利用して間接的に測定することができることを特徴とする、投影露光装置。
- 請求項1〜29のいずれか一項に記載の投影露光装置であり、前記光学素子(8a〜8k)の前記機械的作動は位置操作を含むことを特徴とする、投影露光装置。
- 請求項1〜30のいずれか一項に記載の投影露光装置であり、前記光学素子はミラー(8a〜8k)として実施されることを特徴とする、投影露光装置。
- 請求項1〜31のいずれか一項に記載の投影露光装置であり、前記光学アセンブリ(9a〜9k)はローレンツアクチュエータ(10)を利用して前記構造体(6)内に取り付けられることを特徴とする、投影露光装置。
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