TWI564669B - 用於半導體元件微影製程中之投射曝光裝置 - Google Patents

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Description

用於半導體元件微影製程中之投射曝光裝置
本發明關於生產半導體元件之微影投射曝光裝置，其中至少一光學組件裝設於結構中，且具有可以機械控制方式致動之至少一光學元件，其中為了實施機械致動，提供控制訊號傳輸裝置及/或能量傳輸裝置。
於高性能物鏡(objective)用作為例如生產半導體元件之微影投射曝光裝置之投影物鏡案例中，尤其是在EUV範圍，其中所用的光學元件例如透鏡或鏡元件及類似者，必須具有非常高的定位精準性(例如在EUV範圍中小於100pm的程度等級)。此僅當未導入不利的或寄生的機械效應到光學元件及/或裝設光學元件之光學組件時，才可達到。不利的或寄生的機械效應為那些不是裝設光學元件所造成的機械效應。寄生機械效應包含質的機械摩擦與阻尼、機械應力、機械力及力矩，尤其是由於相對於結構(例如殼體、量測結構、或類似者)之機械短路(mechanical short circuit)，經由例如電纜連接，以及在高頻範圍(例如於EUV範圍為大於20Hz)之干涉激發或振動。
為了校正投影物鏡對半導體微影之像差，習知技術利用兩個基本型的操控器，如定位操控器及變形操控器。就定位操控器而言，利用光學元件對位置改變的光學效應靈敏度，來達到適當位移中對波前所需的校正。相對於此，就變形操控器而言，利用光學元件對機械變形的光學效應靈敏度，來獲得所需的校正效應。
微影投射曝光裝置之投影物鏡中光學元件的變形操控如US 2007/0036494 A1所知。
為了能實施此類機械致動或操控，光學元件或光學組件必須配備有對應的感測器、致動器、以及若適當的話，也有控制裝置。必須供應能量以及致動與量測訊號給這些裝置。此係關於實施能量及控制或調節訊號傳輸，而不會將不利或寄生的力及力矩與振動導到內部裝設的光學或機械元件的問題。在已知的電纜連接案例，對此卻並無法保證。
關於習知技術，進一步參考US 2005/0140955 A1及DE 10 2005 062 081 A1。
以此做為出發點，本發明目的在於提供前述類型的投射曝光裝置，其能使欲操控及/或變形且設置於投射曝光裝置之結構中的光學組件之光學元件，進行無寄生力的控制訊號及能量傳輸。
根據本發明實施例，藉由申請專利範圍第1項之特徵達成此目的。
根據本發明實施例，為了實現機械致動，投射曝光裝置具有控制訊號傳輸裝置及/或能量傳輸裝置，至少於投射曝光裝置的特定操作狀態期間控制訊號傳輸裝置及/或能量傳輸裝置不會導入寄生機械效應到光學組件。
因此可至少以大約無力(free of forces)或無額外力或力矩作用到光學元件的方式，導入用於光學元件之操控或變形的能量，亦即例如自投射曝光裝置之外部結構導入到設置於內部且欲操控或變形之光學或機械元件。類似地可進行系統針對量測及調節或控制之訊號的無力傳輸(force-free transmission)。如此優勢地導致投射曝光裝置中光學元件之高位置精確性或位置穩定性。至少在投射曝光裝置的特定操作狀態期間，不利或寄生的機械效應，即除了裝設造成的機械效應外的機械效應，不會藉由能量及/或訊號傳輸而導入光學元件。換言之，光學元件不會有這樣的寄生機械效應。
若控制訊號及/或能量是分別藉由控制訊號傳輸裝置及/或能量傳輸裝置的非接觸式傳輸，是非常有利的。
就缺乏直接機械連接而言，有利的是並不會有機械應力、機械力、或力矩施加到光學組件。
可藉由電感或電磁波，尤其是光或無線電波，來達成控制訊號及/或能量的非接觸式傳輸。因此，無機械連接之訊號傳輸及能量傳輸，可藉由光或無線電達成。
控制訊號傳輸裝置及/或能量傳輸裝置可具有至少一發射裝置及至少一接收裝置。結構及/或光學元件或光學組件可具有控制訊號傳輸裝置及/或能量傳輸裝置之至少一發射裝置及/或至少一接收裝置。
從結構到光學元件的能量傳輸需要至少一發射器在部分的結構上，以及至少一接收器在部分的光學元件或光學組件上。控制訊號或致動訊號的傳輸類似地需要發射器在結構上，以及接收器在光學元件上。量測值的回饋需要發射器在光學元件或光學組件上，以及接收器在投射曝光裝置上。控制訊號或致動訊號(所需值及量測值)可並行或連串地傳輸。
若控制訊號傳輸裝置及/或能量傳輸裝置具有至少一訊號處理裝置，是有利的。訊號處理電子元件可能需要在光學元件或光學組件上，而能夠對應地轉變所得的致動訊號，或能夠傳遞量測訊號。
根據本發明實施例，更可提供使光學元件及/光學組件具有從屬控制或調節裝置，以獨立地實施回饋狀態訊號之光學元件的機械致動。
因此，從屬或二級調節電路可較佳直接整合於光學元件或光學組件，其電路例如獨立地達成將致動調整到預定所需的值。結果，可明顯降低在光學組件及設置於結構或投射曝光裝置外之上級(尤其是中央)控制裝置之間的資料流量，藉此可節省能量。若從屬控制或調節裝置回饋狀態訊號，是有利的。狀態訊號可包含例如傳輸錯誤碼的訊號(例如不許可的調節偏差、致動器/感測器故障)或READY訊號(成功達到新的所需值)。訊號傳輸可以類比或數位方式達成。
此至少一發射裝置尤其可實施為可控制的光電致動器(optoelectronic actuator)或光源。
至少一接收器可實施為光電偵測器，尤其是光阻器、光二極體、太陽能或光伏電池、光電晶體、光電池、或類似者。因此，訊號傳輸可以可控制的光源及例如光耦合器之光元件施行。能量傳輸可以光源及做為光學組件或光學元件上之能量產生器之光電池來達成。
至少一發射裝置可實施為無線電發射器，尤其是RFID讀取裝置。對應地，至少一接收器可實施為無線電接收器或RFID詢答機(transponder)。因此，訊號傳輸及能量傳輸可經由無線電，以可與RFID(射頻識別)技術相匹配的方式施行。
光學組件或光學元件可自由地規劃(programmed)，就像利用控制訊號傳輸藉由從屬控制或調節裝置的自主光學元件。對應地，亦可傳遞新調節演算法、軟體更新、或類似者。利用改變軟體，可隨時施行新功能。
光學組件可具有至少一致動器及/或至少一感測器，分別用於光學元件的機械致動及/或感測。於此例中，根據致動器系統及感測器系統以及尤其是光學組件之訊號處理電子元件所需的電源，確保能量供應。因此，若光學組件之致動器及/或感測器佔據或輸出儘可能為低的功率損失，是有利的。因此，較佳是具有儘可能為低的功率損失的技術。列入考慮的致動器包含例如壓電致動器，尤其是主要在靜態操作狀況下、或機械及靜電驅動。
所需能量可在符合要求下提供，而不進行能量儲存。
根據本發明實施例，可選替或額外地使光學組件具有能量儲存器。因此，亦可藉由能量儲存器(可充電電池、電容、電池、燃料電池、或類似者)確保能量供應。
能量儲存器可藉由固定能量饋入來充電。再者，可於調整或致動期間，用以緩衝或緩和電源突峰(power spike)。在投射曝光裝置的整個壽命或直到預計的維修期間，電源供應亦可專門利用能量儲存器(例如電池)施行。
若能量儲存器可於特定操作狀態充電，是有利的，尤其是在投射曝光裝置的曝光間歇，尤其是利用機械接觸進行。
選替地，訊號及能量傳輸亦可藉由針對個別要求最佳化的機械連接來達成。
若在結構之光學組件之至少一既存機械連結，尤其是軸承、致動器、或重量補償裝置，是實施為控制訊號傳輸裝置及/或能量傳輸裝置，或此類裝置的一部分，是有利的。因此，訊號及/或能量傳遞可利用既存的機械連結達成。機械連結可為致動器、重力補償器、及光學元件的軸承。光學元件通常以靜態決定方式裝設於光學組件中。因此，不會有寄生機械效應導入光學元件，即除了那些藉由靜態決定裝設造成的機械效應。在製造光學元件時，一般而言，會將隨後發生於投射曝光裝置及因裝設或重量之力所造成的變形列入考慮，而對應地協調光學性質。
根據本發明實施例，可使控制訊號傳輸裝置及/或能量傳輸裝置、或此類裝置的一部分，實施為受控的主動追蹤線連接。
因此可提供對光學元件的線主動追蹤，該線的連結在結構以無寄生力或力矩作用到光學元件的方式，進行移動。
若控制訊號傳輸裝置及/或能量傳輸裝置、或此類裝置的一部分，實施為在結構之光學組件的額外機械連結，是有利的，其中機械連結具有至少一彈簧元件及至少一吸收塊。因此可容許機械連接，而可達成具有插入式吸收塊之彈簧實施例，可達到無阻尼連結(damping free link)目的，其作為機械式低通過濾器，並容許僅在低於預定頻率自結構發生的激發。
根據本發明實施例，可使實施為輻射源用於光學元件機械致動之能量傳輸裝置，以預定方式發射輻射到光學元件，尤其是熱輻射。因此，可藉由熱輻射或及利用熱膨脹效應的致動，達到能量輸入，藉此可達到光學元件的轉譯移動(translation movements)及變形。
可利用熱造影相機，干涉地或間接地量測光學元件藉由預定方式發射之輻射達到的機械致動，即利用於光學元件偵測到的熱分布。干涉量測可以掃描方式利用全影像或部分影像進行。
光學元件的機械制動可包含位置操控及/或變形操控。光學元件可實施為例如透鏡或鏡子。
本發明其他有利的組態及發展可由申請專利範圍附屬項得知。本發明例示實施例參考圖式說明如下。
圖1顯示EUV投射曝光裝置1，其包含光源2、EUV照射系統3，用以照射物件平面4設置有結構承載光罩(未顯示)之場、以及投影物鏡5，係具有作為結構之殼體6以及將設置於物件平面4之光罩造影到感光基板7以生產半導體元件之光束路徑。投影物鏡5具有光學元件，實施為用作光束塑形之鏡子8。鏡子8可在投影物鏡5之殼體6中設置或安裝成鏡子8a至8h的形式，如圖2、圖4至圖10所示，係裝設在光學組件9a至9h或托架或類似者。照射系統3亦具有對應的光學元件或組件，用以塑形光束或導引光束。然而，這些及照射系統3之殼體並未詳細繪示。除了投影物鏡5之殼體6，上述照射系統3之殼體及對應的托架或量測結構亦適當的用作結構。此類型的量測結構例如DE 101 34 387 A1所述。
以下基於EUV投射曝光裝置詳細說明本發明實施例。本發明當然也可用於操作在其他波長範圍的投射曝光裝置。
圖2顯示具有可以機械控制方式致動的鏡子8a之光學組件9a，其中光學組件利用致動器10或重量補償裝置(未顯示)裝設於投影物鏡5的殼體6中。於此例中，致動器可實施為洛倫茲(Lorentz)致動器10。然而於其他例示實施例，亦可提供其他致動器，例如壓電致動器。為實現機械致動，提供控制訊號傳輸裝置11及能量傳輸裝置12，控制訊號傳輸裝置11及能量傳輸裝置12並未導入額外或寄生機械效應到光學組件9a。藉由控制訊號傳輸裝置11及能量傳輸裝置12分別提供控制訊號的非接觸式傳輸。控制訊號傳輸裝置11及能量傳輸裝置12之控制訊號的非接觸式傳輸，分別藉由電磁波達成。於其他實施例中，亦可藉由電感達成。控制訊號傳輸裝置11具有發射裝置13及接收裝置14。控制訊號傳輸裝置11的控制訊號傳輸利用無線電波達成，因此發射裝置實施為無線電發射器13。接收裝置相應地實施為無線電接收器14。所需的天線裝置並未詳細繪示。控制訊號傳輸裝置11具有訊號處理裝置15，設置於殼體6區域內，且連接到投射曝光裝置1之控制或調節裝置17(如虛線所示)。再者，提供光學組件9a之訊號處理裝置16，其連接到光學組件9a之控制裝置18。控制裝置18連接到壓電致動器19及感測器20。鏡子8a的機械致動可利用壓電致動器19及感測器20來實現。壓電致動器19於靜態操作(static operation)輸出低功率耗損。為了使光學組件9a之控制裝置18與投射曝光裝置1之控制裝置17間達到雙向通訊，無線電發射器13可額外地具有接收功能，而無線電接收器14可額外地具有發射功能。
無線電發射器13及無線電接收器14亦可實現為RFID(射頻識別)系統，其中資料儲存於電子資料載體，所謂的詢答機(transponder、例如無線電接收器14)。詢答機的能量供應以及在詢答機與RFID發射器或讀取裝置(例如無線電發射器13)間的資料交換，係利用磁場或電磁場達成。原則上，RFID系統包含兩個元件，例如詢答機以及讀取裝置或根據所使用的技術，為讀取或寫/讀裝置。讀取裝置或RFID發射器具有射頻模組(發射器與接收器)、控制單元、相對於答詢機之天線、以及用於與其他系統資料交換之介面。答詢機為RFID系統的實際資料載體，並具有天線，若有需要時還有微晶片。
能量供應裝置12具有發射裝置，實施為可控光電致動器或光源21，以及接收裝置實施為光電偵測器或太陽能電池22，其能利用光輻射進行無接觸傳輸。利用光輻射能量傳輸的原理進一步顯示於圖3。太陽能電池22將所接收的光輻射轉變成電能，用以操作壓電致動器19以及感測器20，以進行鏡子8a的受控機械致動。鏡子8a的機械致動可包含位置操控及/或變形操控。於其他實施例中(未顯示)，亦可提供透鏡，而不是鏡子。於其他實施例中，亦可光學地施行控制訊號傳輸裝置11以及將能量傳輸裝置12實施為無線電連結或RFID系統。也可利用兩個系統其中一種，實現控制訊號傳輸及能量傳輸兩者。
圖4顯示具有鏡子8b之光學組件9b。鏡子8b可利用壓電致動器19與感測器20以受控方式變形。非接觸控制訊號與能量傳輸裝置23具有發射及接收裝置24，係具有光源及光電偵測器，以及還有對應的發射及接收裝置25。發射及接收裝置24、25間的通訊利用光輻射達成。再者，光學組件具有能量儲存器26以及從屬控制或調節裝置27(由虛線所示)，藉此可實施鏡子8b機械制動的裝置獨立效能。控制或調節裝置27將關於控制訊號及能量傳輸裝置23的狀態訊號回饋到投射曝光裝置1之控制裝置17。於較佳的方法中，可經由光學連接23，導入或更新控制或調節裝置27之調節演算法或軟體。能量儲存器26可藉由控制訊號及能量傳輸裝置23固定能量饋入來充電。能量儲存器26亦於鏡子8b調整期間用以緩衝電源突峰，且可實施為可充電電池、電容、燃料電池、或類似者。壓電致動器19及感測器20可藉由能量儲存器26來操作。
如圖5以極度簡化方式所示，能量儲存器26可於投射曝光裝置1之曝光間歇期間(即於特定操作狀態下)，利用裝置28來充電，而僅於這些曝光間歇期間將額外的機械寄生效應導入光學組件9c或鏡子8c。
圖6顯示具有鏡子8d之組件9d，其中組件具有電池作為組件整個壽命期間或直到預設維修週期的能量供應，藉此可操作壓電致動器19及感測器20而無須從外面提供另外的能源供應。能量儲存器或電池29應對應地視為能量傳輸裝置。
為簡化而言，訊號處理單元或所需的類比/數位轉換器並未詳細繪示於圖4至圖10。
圖7顯示具有鏡子8e之光學組件9e的實施例，其中光學組件9e到殼體6已存在的機械連結，即軸承10’、或洛倫茲致動器10、重量補償裝置30，實施為控制訊號傳輸裝置即/或能量傳輸裝置。因此，並無額外或寄生的機械效應導入光學組件9e。
圖8顯示具有鏡子8f之光學組件9f，其中組件裝設於殼體6中。控制訊號傳輸裝置及能量傳輸裝置實施為受控主動追蹤線連接31。於結構6之連結31’以不將不要的力或力矩作用於鏡子8f之方式移動。
圖9顯示具有鏡子8g之光學組件9g之另一實施例。提供額外的機械連結32用於控制訊號傳輸及/或能量傳輸。機械連結32具有彈簧元件33及吸收塊34。
圖10顯示具有鏡子8h之光學組件9h之另一變化，其中作為能量傳輸裝置而言，幅射光源35發射熱輻射到鏡子8h，供進行機械致動。於鏡子8h之區域36達成熱輻射的高吸收，藉此可利用熱膨脹效應，實施鏡子8h的轉譯移動(translation movement)及變形。
利用以預定方式發射之輻射達到的鏡子8h機械致動，可利用干涉計37量測，或利用熱造影相機38間接地量測，亦即利用光學元件中所偵測的熱分布。
圖11顯示具有鏡子8i之光學組件9i之另一實施例，其係具有光學作用層39。光學元件8i亦視為鏡子一體成型的一部份。光學組件9i或光學元件8i如同壓電致動器具有形成單件之部分元件，係由壓電材料構成之單石部分元件40，用於光學元件8i之機械致動，其中層系統亦視為單石部分元件40，如形成為單件之部份元件。於此案例中，利用縱向或橫向相應的壓電效應。於其他例示實施例中，鏡子8i亦可完全由壓電材料構成。舉例而言，石英(約5pm/V、TC=570℃)或二氧化矽(SiO2)、鋯鈦酸鉛(PZT，約700pm/V、TC=400℃)或類似者，為適當的壓電材料。再者，單石部分層40或形成單件之部分元件提供有複數個別矩形體形狀或平行六面體的突出41。作為能量傳輸裝置，單石部分層40之突出41具有電極42，且因此可獨立地驅動而達到預定的機械致動及/或變形，尤其是光學元件8i的部分區域或光學作用層39位於平行六面體突出41上的預定機械致動及/或變形。致動及/或變形的強度可藉由施加電壓的程度來建立。致動器系統較佳整合成單石地(monolithically)整合到鏡子8i。
致動器平行六面體陣列(parallelepiped array)及電極42可利用精準機械或微機械(微機電系統/MEMS)方法建構。於此案例中，亦可應用複數的層系統。也可提供溫度感測器43。
圖12顯示具有鏡子8k之光學組件9k之另一實施例。針對鏡子8k之預定機械致動及/或變形而言，複數的平行六面體壓電致動器44設置於鏡子8k下方或在其後側。
作為能量傳輸裝置而言，提供電子槍45，其發射電子作為以預定方式到壓電致動器44的粒子輻射。於其他實施例中(未顯示)，此類電子槍45亦可提供作為圖11之光學組件9i之能量傳輸裝置，作為粒子輻射的電子發射到單石部分層40或形成為單件之部分元件之突出41，而以預定方式進行光學元件8i的機械致動。利用電子槍45的電荷應用可藉由將發射的電子以預定方式導向到壓電致動器44的所選區域，以電子充電該區域而達成。於此例中，於掃描方法類型中，電子槍45可掃描壓電致動器44的整個陣列，例如以線接著線(line by line)的形式或曲折形式，而施加電荷。
為了放電壓電致動器44或單石部分層40之突出41(未顯示)，可提供微細放電纜線46(虛線所示)、UV輻射源47(例如UV雷射掃瞄器)，其例如根據掃瞄原則以預定方式發射UV輻射到壓電致動器44、或UV輻射源48(如虛線所示)，其區域地發射UV輻射到壓電致動器44。因此，放電及充電的均等化是利用UV輻射之光電效應非接觸式的達成，亦即利用光入射結果導致導電的pn接面(pn junction)。可於格柵電極(grid electrode)達到電子的發射及吸收。
鏡子8a-8k之預定機械致動及/或變形的結果，有利於可於投射曝光裝置1中，有效地補償加熱投影物鏡5之光學元件或鏡子8a-8k或投影物鏡5本身之光學性質的改變，以及補償製造公差造成的起伏。亦可類似地以預定方式設定像差及波前。
在不脫離本發明精神或必要特性的情況下，可以其他特定形式來體現本發明。應將所述具體實施例各方面僅視為解說性而非限制性。因此，本發明的範疇如隨附申請專利範圍所示而非如前述說明所示。所有落在申請專利範圍之等效意義及範圍內的變更應視為落在申請專利範圍的範疇內。
1．．．投射曝光裝置
2．．．光源
3．．．照射系統
4．．．物件平面
5．．．投影物鏡
6．．．殼體
7．．．感光基板
8、8a、8b、8c、8d、8e、8f、8g、8h、8i、8k．．．鏡子
9a、9b、9c、9d、9e、9f、9g、9h、9i、9k．．．光學組件
10．．．致動器
10’．．．軸承
11．．．控制訊號傳輸裝置
12．．．能量傳輸裝置
13．．．發射裝置
14．．．接收裝置
15．．．訊號處理裝置
16．．．訊號處理裝置
17．．．控制調節裝置
18．．．控制裝置
19．．．壓電致動器
20．．．感測器
21．．．光源
22．．．太陽能電池
23．．．控制訊號與能量傳輸裝置
24．．．發射及接收裝置
25．．．發射及接收裝置
26．．．能量儲存器
27．．．控制或調節裝置
28．．．裝置
29．．．電池
30．．．重量補償裝置
31．．．主動追蹤線連接
31’．．．連結
32．．．機械連結
33．．．彈簧元件
34．．．吸收塊
35．．．幅射光源
36．．．區域
37．．．干涉計
38．．．熱造影相機
39．．．光學作用層
40．．．單石部分元件
41．．．突出
42．．．電極
43．．．溫度感測器
44．．．壓電致動器
45．．．電子槍
46．．．放電纜線
47．．．輻射源
48．．．輻射源
於圖式中：
圖1顯示具有光源、照射系統、以及投影物鏡之EUV投射曝光裝置之基本架構；
圖2顯示根據本發明投射曝光裝置中光學組件之示意圖，係具有非接觸式控制訊號傳輸裝置及能量傳輸裝置；
圖3顯示根據本發明投射曝光裝置之控制傳輸裝置及/或能量傳輸裝置之光學傳輸及接收裝置之示意圖；
圖4顯示根據本發明投射曝光裝置中光學組件之示意圖，係具有非接觸式控制訊號傳輸裝置及/或能量傳輸裝置及能量儲存器；
圖5顯示根據本發明投射曝光裝置中光學組件之示意圖，係具有於曝光間歇充電之能量儲存器；
圖6顯示根據本發明投射曝光裝置中光學組件之示意圖，係具有能量儲存器之另一實施例；
圖7顯示根據本發明投射曝光裝置中光學組件之示意圖，係具有經由既存機械連接之能量輸送；
圖8顯示根據本發明投射曝光裝置中光學組件之示意圖，係具有經由主動追蹤線連接之能量及控制訊號傳輸；
圖9顯示根據本發明投射曝光裝置中光學組件之示意圖，係具有經由額外機械連接之能量及/或控制訊號傳輸；
圖10顯示根據本發明投射曝光裝置中光學組件之示意圖，係具有利用熱輻射之能量輸入；
圖11顯示根據本發明投射曝光裝置中光學組件之示意圖，係具有壓電材料構成之單石部分層以及利用電極之能量輸入；以及
圖12顯示根據本發明投射曝光裝置中光學組件之示意圖，係具有壓電致動器以及利用電子槍之能量輸入。
1．．．投射曝光裝置
6．．．殼體
8a．．．鏡子
9a．．．光學組件
10．．．致動器
11．．．控制訊號傳輸裝置
12．．．能量傳輸裝置
13．．．發射裝置
14．．．接收裝置
15．．．訊號處理裝置
16．．．訊號處理裝置
17．．．控制調節裝置
18．．．控制裝置
19．．．壓電致動器
20．．．感測器
21．．．光源
22．．．太陽能電池

Claims (26)

  1. 一種微影投影物鏡，包含：一光學組件，包含：一光學元件；以及一致動器，用以變形該光學元件；一第一構件，用以提供多個第一訊號，使得該致動器變形該光學元件；一第二構件，用以提供多個第二訊號，使得該致動器獨立於來自該第一構件之該等第一訊號而變形該光學元件；其中，該第一構件選自由以下所組成之群組：一控制訊號傳輸裝置、一能量傳輸裝置及其組合；若該第一構件包含該能量傳輸裝置，則該能量傳輸裝置用以提供能量的非接觸式傳輸；該第一構件用以至少在該微影投影物鏡之特定操作狀態期間並未導入寄生機械效應到該光學組件。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之微影投影物鏡，其中該第一構件包含該能量傳輸裝置，且該能量傳輸裝置用以提供能量的非接觸式傳輸。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之微影投影物鏡，其中能量的非接觸式傳輸是經由電感或電磁波達成。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之微影投影物鏡，其中該第一構件包含該控制訊號傳輸裝置。
  5. 如申請專利範圍第4項所述之微影投影物鏡，其中該控制訊號傳輸裝置用以提供控制訊號的非接觸式傳輸。
  6. 如申請專利範圍第5項所述之微影投影物鏡，其中控制訊號的非接觸式傳輸是經由電成或電磁波達成。
  7. 如申請專利範圍第1項所述之微影投影物鏡，其中該第一構件包含一發射裝置及一接收裝置。
  8. 如申請專利範圍第7項所述之微影投影物鏡，包含一殼體，其中該殼體包含該發射裝置及/或該接收裝置。
  9. 如申請專利範圍第7項所述之微影投影物鏡，其中該光學元件或該光學組件包含該發射裝置及/或該接收裝置。
  10. 如申請專利範圍第1項所述之微影投影物鏡，其中該第一構件包含一訊號處理裝置。
  11. 如申請專利範圍第1項所述之微影投影物鏡，其中該光學組件包含用於感測該光學元件之一感測器。
  12. 如申請專利範圍第1項所述之微影投影物鏡，其中該致動器包含一壓電致動器。
  13. 如申請專利範圍第1項所述之微影投影物鏡，其中該光學組件更包含一能量儲存器。
  14. 如申請專利範圍第1項所述之微影投影物鏡，更包含一殼體，其中該第一構件包含一機械連結於該殼體與該光學組件之間。
  15. 如申請專利範圍第1項所述之微影投影物鏡，其中該第一構件包含一彈簧元件以及一吸收塊(absorber mass)。
  16. 如申請專利範圍第1項所述之微影投影物鏡，其中該光學元件包含一鏡子。
  17. 如申請專利範圍第1項所述之微影投影物鏡，更包含一殼體與多個洛倫茲致動器，其中該光學組件經由該等洛倫茲致動器配置於該殼體內。
  18. 如申請專利範圍第1項所述之微影投影物鏡，更包含一控制單元，與該第一構件及該第二構件作訊號溝通。
  19. 如申請專利範圍第18項所述之微影投影物鏡，其中該第二構件提供多個第三訊號至該控制單元，且該等第三訊號含有關於該第一構件之資訊。
  20. 如申請專利範圍第18項所述之微影投影物鏡，其中該第一構件用於導入及/或更新該第二構件上之軟體。
  21. 一種微影投射曝光裝置，包含： 如申請專利範圍第1至20項中之任一項所述之微影投影物鏡。
  22. 一種微影投影物鏡，包含：一光學組件，包含：一光學元件；以及一致動器，用以機械地致動該光學元件；一第一構件，用以提供多個第一訊號，使得在該微影投影物鏡的使用期間，該致動器變形該光學元件及/或操控該光學元件之一位置；以及一第二構件，用以提供多個第二訊號，使得在該微影投影物鏡的使用期間，該致動器獨立於該等第一訊號而變形該光學元件；其中，該第一構件選自由以下所組成之群組：一控制訊號傳輸裝置、一能量傳輸裝置及其組合；若該第一構件包含該能量傳輸裝置，則該能量傳輸裝置用以提供能量的非接觸式傳輸；該第一構件用以至少在該微影投影物鏡之特定操作狀態期間並未導入寄生機械效應到該光學組件。
  23. 如申請專利範圍第22項所述之微影投影物鏡，更包含一控制單元，與該第一構件及該第二構件作訊號溝通。
  24. 如申請專利範圍第23項所述之微影投影物鏡，其中該第二構件提供多個第三訊號至該控制單元，且該等第三訊號含有關於該第一構件之資訊。
  25. 如申請專利範圍第23項所述之微影投影物鏡，其中該第一構件用於導入及/或更新該第二構件上之軟體。
  26. 一種微影投射曝光裝置，包含：如申請專利範圍第22至25項中之任一項所述之微影投影物鏡。
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