JP5480404B2 - ヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料、その合成方法及び用途 - Google Patents

ヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料、その合成方法及び用途 Download PDF

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Description

本発明は、有機材料に関する。より詳細にはヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料、その製造方法及び用途に関する。
現在、世界経済は主に石炭、石油、天然ガスといった化石エネルギーにより成り立っている。しかし、これらの再生不可能な化石エネルギーは日に日に枯渇しつつある。特に21世紀の初めから環境汚染と気候温暖化を伴う世界的なエネルギー問題は悪化の一途をたどっており、そのため注目の度合いを増してきた。太陽エネルギーは、偏在しており、汚染がなく、クリーンで、安全で、簡便に入手できるといった利点のためもっとも有効な再生可能エネルギーの一つとして認識されている。そのため、太陽エネルギーを直接電気エネルギーに変換できる太陽電池は太陽エネルギー利用のための実用的で効率的な方法になりつつある。しかし、従来の商用太陽電池はシリカベースの非常に高額で人々の一般的な許容限度を超えている無機太陽電池に限られており、それゆえ商用太陽電池の適用範囲は非常に限られてきた。太陽電池のコスト削減と適用範囲の拡大のため、新たな太陽電池材料の探索が長年続けられてきた。
希少資源、高価、有害組成物、複雑な合成技術、高コストなどの特徴がある無機半導体材料と比較すると、新しい種類の太陽電池である有機太陽電池は、広範な原材料、構造の多様性と制御可能な特性、低コスト、安全で無汚染、単純な大量生産技術、製品が軽い、大きく柔軟な製品を作れるといった圧倒的な利点を有しており、それ故、建築、照明、発電領域で重要な発展途上かつ適用上の特性を有している。そのため、国内外の多くの研究所や企業が有機太陽電池に多大な注目と投資をしてきた。しかし、これまでのところ有機太陽電池の光電変換効率は未だ従来の無機太陽電池を大きく下回っている。したがって、有機太陽電池とその他の半導体デバイスの光電変換効率を向上させるための新たな有機可視光電材料の開発が非常に重要になっている。
このため広範囲なスペクトル応答と高い安定性を有するヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料を提供するとともに、その簡単な合成経路および低コストである合成方法を提供する。
太陽電池デバイス、有機電界効果トランジスタ、有機エレクトロルミネッセンスデバイス、有機光学メモリーデバイス、有機非線形材料または有機レーザーデバイスの製造におけるヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料の適用方法を提供する。
ヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料は、式(1)で表される化合物を含む:
Figure 0005480404
式中、R、R、R及びRは、同一でも異なってもよく、Hまたは炭素数1〜20のアルキルもしくはアルコキシであり;RおよびRは、同一であってもよく異なってもよく、炭素数1〜20のアルキル若しくはアルコキシであり;a及びbは、同一であっても異なってもよく、1〜12の整数から選択され;XがSiまたはCである。
ヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料の製造方法は、以下の工程を含む:
それぞれ次の化学式で表される、化合物A、化合物B及び化合物C、並びにマロノニトリルを準備する工程;
Figure 0005480404
式中、R、R、R及びRは同一でも異なってもよく、Hまたは炭素数1〜20のアルキルもしくはアルコキシであり;R及びRは同一であっても異なってもよく、炭素数1〜20のアルキルもしくはアルコキシであり;a及びbは同一であっても異なってもよく、1〜12の整数であり;XはSiまたはCであり、Anは炭素数1〜4のアルキルである、
溶媒及び触媒の存在下で、化合物A、化合物B及び化合物Cを用いてスティルカップリング反応を実施する工程;
スティルカップリング反応で得られた生成物を用いて臭素置換反応を実施して臭素化生成物を得る工程;
前記臭素化生成物およびマロノニトリルを用いて、溶媒、触媒及び縮合化剤の存在下で縮合反応を実施して下記化学式(1)で表される化合物を得る工程。
Figure 0005480404
また、上記ヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料は、太陽電池デバイス、有機電界効果トランジスタ、有機エレクトロルミネッセンスデバイス、有機光学座メモリーデバイス、有機非線形材料または有機レーザーデバイスの製造に用いられる。
上記ヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料は複数のキノイドチオフェン環を有している。チオフェン環は5員環でHuckel則を満たしているため、チオフェン環は適度なバンドギャップ、広範なスペクトル応答、高い熱安定性、環境安定性という利点を有している。さらに、強い電子求引基であるジシアノエチレン(=C(CN))基を二つ分子鎖の両端に導入することにより、上記のヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料は、チオフェンと結合したバイチオフェンユニットを有するキノイドチオフェン構造に変換される。このような構造は、吸収バンド端を赤色および近赤外領域に押しやることにより材料の光電子特性と光電子変換効率を向上させ、太陽光スペクトルの吸収領域をさらに拡大する。上記のヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料の製造には、製造工程の容易化と製造コスト削減を可能とする、簡単な合成経路とスティルカップリング反応を使用する。上記のヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料を太陽電池デバイス、有機電界効果トランジスタ、有機エレクトロルミネッセンスデバイス、有機光学メモリーデバイス、有機非線形材料または有機レーザーデバイスに適用することにより、これらのデバイスの光電子、半導体特性が改良され、重量が減ることにより大量生産が容易になる。
本開示内容の詳細を以下の図と実施形態によって示す。
図1は、本開示の一実施形態に係るヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料の化学式1を示す。 図2は、本開示の一実施形態に係るヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料の製造方法のフローチャートを示す。 図3は、本開示の一実施形態に係るヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料を使用した太陽電池デバイスの回路図を示す。 図4は本開示の一実施形態に係るヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料を用いた有機エレクトロルミネッセンスデバイスの回路図である。 図5は本開示の一実施形態に係るヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料を用いた有機電界効果トランジスタの回路図である。
本発明の詳細を示す前に、本発明は特定の実施形態に限定されるものではないことを理解すべきである。また、ここで用いる特定の実施形態は特定の実施形態を示すことのみを目的とし、本発明を限定するものではないことを理解すべきである。
図1を参照すると、本開示の一実施形態に係るヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料が示されており、前記ヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料は下記化学式(1)で表される化合物を含む。
Figure 0005480404
式中、R、R、RおよびRは、同一でも異なってもよく、Hまたは炭素数1〜20のアルキルもしくはアルコキシであり;RおよびRは、同一であってもよく異なってもよく、炭素数1〜20のアルキル若しくはアルコキシであり;a及びbが同一であっても異なってもよく、1〜12の整数から選択され;XがSiまたはCである。
本開示の一実施形態中、ヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料は左右対称な分子構造を有する。例えば、aとbは1〜12の同一の整数、つまりa=bである。好適な実施形態では、a=b=1または2であり、こうしたヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料の分子量は小さく、当該材料で作られた製品は軽量である。本開示の一実施形態において、RおよびRは、同一であり、Hまたは炭素数1〜20のアルキルまたはアルコキシであり; RおよびRは、同一であり、炭素数1〜20のアルキルまたはアルコキシであり; RおよびRは同一であり、炭素数1〜20のアルキルまたはアルコキシである。こうした構造によって製造技術が単純になりコストが削減できる。本開示の好適な実施形態においては、R、R、RおよびRがH、RおよびRがCアルキルまたは炭素数6以上のアルキルである。
上記のヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料は複数のキノイドチオフェン環を有している。チオフェン環は5員環でHuckel則を満たしているため、チオフェン環は適度なバンドギャップ、可視光波長帯をほぼカバーする300〜750nmという波長帯における広範なスペクトル応答を有している。また、有機光電子材料は良好な寝る安定性及び環境安定性を有しており、良好な光電特性も有している。さらに、強い電子求引基ジシアノエチレン基(=C(CN))を二つ分子鎖の両端に導入することにより、上記のヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電子材料は、チオフェンと結合したバイチオフェンユニットを有するキノイドチオフェン構造に変換される。こうした構造によって共役構造が拡大し、分子の平面性が向上する。これにより材料のエネルギーギャップが低下し、吸収バンド端が赤色および近赤外領域に押しやられ、材料の光電子特性、光電子変換効率が向上する。加えて、RおよびRがアルキルまたはアルコキシルであるため、材料の溶解度と分子量が向上する。また、このような構造はフィルム成形に好適であり、当該材料の適用領域をさらに拡大させるものである。
図2を参照して、上記のヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料の製造方法は以下の工程を含む:
S01:それぞれ次の化学式で表される、化合物A、化合物B及び化合物C、並びにマロノニトリルを準備する;
Figure 0005480404
式中、R、R、RおよびRは、同一でも異なってもよく、Hまたは炭素数1〜20のアルキルまたはアルコキシであり;RおよびRは、同一であっても異なってもよく、炭素数1〜20のアルキル若しくはアルコキシであり; aおよびbが同一であっても異なってもよく、1〜12の整数であり;XがSiまたはCであり;Anが炭素数1〜4のアルキルである。
S02:溶媒及び触媒の存在下で、化合物A、化合物B及び化合物Cを用いてスティルカップリング反応を実施する;
S03:スティルカップリング反応で得られた生成物を用いて臭素置換反応を実施して臭素化生成物を得る;
S04:前記臭素化生成物およびマロノニトリルを用いて、溶媒、触媒及び縮合化剤の存在下で縮合反応を実施して下記化学式(1)で表される化合物を得る:
Figure 0005480404
工程S01において、化合物A、B及びC並びにマロノニトリルは直接市場で購入してもよいし、ここに詳細は示さないが慣用の方法で合成してもよい。化合物A、B及びCの構造は、ここに詳細は示さないが上述したヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料に対応したものである。なお、AnはN−ブチルまたはT−ブチルなどの炭素数1〜4のアルキルということに注意すべきである。
工程S02において、スティルカップリング反応の触媒は、Pd(dba)/P(o−Tol)、Pd(PPh、またはPd(PPhClなどを例とする有機パラジウム触媒であり、Pd(dba)/P(o−Tol)が好ましい。溶媒はテトラヒドロフラン(THF)、ジクロロメタン、グリコールジメチルエーテル、ベンゼン、またはトルオールであってよく、THFが好ましい。化合物A、B及びCの量は化学反応の規模に合わせてもよいし、化合物A及びBのモル重量を1%〜20%過剰にしてもよく、これに限定されるものではない。反応式は以下のように表される:
Figure 0005480404
工程S02の具体的な実行工程には以下の工程が含まれる:無水THFをN雰囲気下の加圧管に注ぎ、化合物A、B及びCを素早く加える。反応系全体を10分間バブリングし、パラジウム触媒を加えた後、加圧管をシールし、80℃に加熱、24時間還流する。反応終了後、一連の精製工程を次のように行う:KF水溶液(例として濃度1.00M)を反応生成物に加え、溶液を10分間撹拌した後、飽和塩化ナトリウム水溶液を加える。生成物を酢酸エチルで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、ロータリーエバポレータで処理し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより分離する。
スティルカップリング反応において、aおよびbが異なるとき、化合物A及びB自体は化合物Cとスティルカップリング反応し(2a+2)チオフェン環を有する化合物と(2b+2)チオフェン環を有する化合物をそれぞれ生成する。上述の反応式における目的生成物の収率は比較的低く、化学式(1)で表される目的生成物を上記の精製工程に続いて精製してもよい。(2a+2)チオフェン環を有する化合物と(2b+2)チオフェン環を有する化合物もそれぞれ精製できることを理解すべきであり、これらはヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料を用いた有機可視光電材料として本開示の請求項記載の構造において保護されていることを理解すべきである。aおよびbが同一であるとき、化合物A及び化合物Bは同一であり、目的化合物の収率は比較的高い。
工程S03において、溶媒は、ジメチルホルムアミド(DMF)、THF、四塩化炭素(CCl)、クロロホルム、ジクロロメタンまたはアセトニトリルにN−ブロモスクシンイミド(NBS)、Br、HBrまたはPBr、好ましくはNBSを加えたものがよい。反応は次の反応式によって表される:
Figure 0005480404
具体的な実行工程には次の工程が含まれる:氷浴及び遮光条件において、工程S02で得られた生成物とDMFが入った反応容器にNBSを何回かに分けて加え、室温で12時間撹拌する。反応終了後、反応溶液を氷水に注いで反応を止め、クロロホルムで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、ロータリーエバポレータに掛け、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより分離して生成物を得る。
工程S04において、触媒は、Pd(dba)/P(o−Tol)、Pd(PPh、またはPd(PPhClなどを例とする有機パラジウム触媒であり、Pd(PPhClが好ましい。溶媒は、ジメトキシエタン(DME)、エタノール、ジクロロメタン、クロロホルム、THF、酢酸エチル、DMF、トルオールまたはアセトンでよく、ジメトキシエタンが好ましい。縮合化剤は、水素化ナトリウムまたは、ナトリウムメトキシド若しくはナトリウムtert−ブトキシドといったナトリウムアルコキシドでよく、水素化ナトリウムが好ましい。反応式は次のように表される:
Figure 0005480404
具体的な実行工程には次の工程が含まれる:氷浴条件下で水素化ナトリウム(60%が油相に存在)およびDMEが入った懸濁液にマロノニトリルを加えた後、反応系を室温に戻し、30分間撹拌する。工程S03で得られた臭素化生成物と有機パラジウム触媒を加え、加熱しながら12時間還流した後、0℃に冷却する。引き続き、飽和Br/HO溶液と水を加え、反応溶液を吸引濾過し、水洗し、乾燥し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離して生成物を得る。
上記のヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料に関する方法において、モノマーA、B及びCの合成ルートは比較的単純であり、成熟している。したがって、工程及びコストを削減できる。さらに、スティルカップリング反応は、高い収率、温和な条件および制御が容易であることに加え、アルキルまたはアルコキシ基の導入により材料の加工可能性の拡大に有利な生成物の溶解性の向上が可能という利点を有する確立されたカップリング反応である。
この実施例に係るヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料は太陽電池デバイス、有機電界効果トランジスタ、有機エレクトロルミネッセンスデバイス、有機光学メモリーデバイス、有機非線形材料または有機レーザーデバイスといった様々な光電子または半導体デバイスに適用しうる。次に、太陽電池デバイス、有機電界効果トランジスタおよび有機エレクトロルミネッセンスデバイスはそれぞれ前記材料の用途をより詳しく説明するものの例として挙げられるものであり、当該実施形態に係るヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料を光学メモリー材料、非線形材料、レーザー材料、半導体材料等として用いた光学メモリーデバイス、有機非線形材料および有機メモリーデバイスといった他のデバイスは以下のデバイスに類似するものである。
図3を参照すると、上記実施形態におけるヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料を用いた太陽電池デバイスが示されており、前記太陽電池デバイスは、この順に積層された、ガラス基板11、透明アノード12、中間補助層13、活性層14及びカソード15を有する。中間補助層13としてはポリエチレン−ジオキシチオフェンおよびポリスチレン−スルホン酸複合材(以下PEDOT:PSSと表記)を使用する。活性層14は、電子供与材料および電子受容材料を有する。電子供与材料としては前記のヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料を用い、電子受容材料としては[6,6]フェニル―C61−メチルブチレン(以下PCBMと表記)を使用してもよい。透明アノード12としては、酸化インジウムスズ(以下ITOと表記)を使用してもよく、抵抗値10〜20Ω/□の酸化インジウムスズであることが好ましい。カソード15はアルミニウム電極である。ガラス基板11を基底層として使用し、ITO電極を前記ガラス基板11上に被覆した後、酸化プラズマスプレー技術を用いて中間補助層13をITO電極上に形成し、活性層14を形成するために真空蒸着技術を用いてヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料と電子受容材料を中間補助層13上に被覆し、さらに上記の太陽電池デバイスを得るために真空蒸着技術を用いてカソード15を活性層14上に被覆する。
図3を参照して、照明の下では、光はガラス基板11とITO電極12を透過し、活性層14のヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電子材料に吸収され、励起子を生成する。前記の励起子は電子供与材および電子受容材間の界面に移動し、PCBMといった電子受容材に電子を移動させて電荷分離を起こし、自由電流キャリア(自由電子およびホール)が形成される。前記の自由電子は電子受容材に沿ったカソードに移動し、カソードに回収される。また、前記のホールは電子供与材に沿ったアノードに移動し、アノードに吸収される。このようにして光と電気の変換を行う光電流及び光電圧が形成される。負荷16と接合した際には、前記太陽電池デバイスは負荷16に電力を供給することが可能である。こうした過程では、ヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料が広範なスペクトル応答範囲を有しているため、前記材料は高い光電変換効率を得るために光エネルギーを完全に利用することができ、太陽電池デバイスの発電能力を高めることができる。さらに、前記のような有機材料により太陽電池デバイスの軽量化も可能であり、真空蒸着技術等を使用することにより大量生産が可能かもしれない。
図4を参照して、前記実施形態の前記ヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料を使用した有機エレクトロルミネッセントデバイスは、この順に積層された、ガラス基板21、透明アノード22、発光層23、緩衝層24およびカソード25を有する。透明アノード22はITO、好ましくは10〜20Ω/□の抵抗を有するITOを使用してよい。発光層23は前記実施例に係るヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料が含まれる。緩衝層24にはLiFを使用してもよいが、これに限定するものではない。カソード25はAlまたはBaでよいが、これらの材料に限定するものではない。したがって、詳しい実施形態では、前記有機エレクトロルミネッセントデバイスの構造はITO/前記ヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料/LiF/Alで表される。発光層が真空蒸着技術を用いてITO上に形成されることを除き、各層は慣用の方法により形成される。
図5を参照して、前記実施形態の前記ヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料を使用した有機電界効果トランジスタは、この順に積層された、基板31、絶縁層32、修飾層33、有機半導体層34およびソース電極35、並びに、有機半導体層34上に形成されたドレイン電極36を含む。基板31は高度にドープされたシリコンでもよいが、これに限定されるものではない。絶縁層32は、マイクロ〜ナノレベルの厚さ、例えば450nm、を有するSiOでもよいが、これに限定するものではない。有機半導体層34は前記ヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料を使用する。ソース電極およびドレイン電極はAuを使用してもよいが、これに限定するものではない。修飾層33はオクタデシルトリクロロシランでもよいが、これに限定するものではない。基板31、絶縁層32、修飾層33およびソース電極35その他ドレイン層36は慣用の方法により形成してもよい。有機半導体層34は、修飾層33により修飾された絶縁層32上に真空度10−4Pa近くで真空蒸着された前記実施形態の前記ヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料を用いて形成される。
前記ヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料の製造方法および特性を後述の詳しい実施例により示す。後述の実施例における原料は慣用の合成方法で製造されうる。例えば、原料である4,4’−ジヘキシル−4H−シクロペンタン[2,1−b:3,4−b’]ジチオフェンは4H−シクロペンタン[2,1−b:3、4−b’]ジチオフェンおよび1−ブロモヘキサンを用いて参考文献:Macromolecules, 2007, 40, 1981に基づいて調製されうる;4,4’−ビス(2−エチル−ヘキシル)−5,5’ビス(トリメチルシリル)−ジチオフェン[3,2−b:2’,3’−d]シランは3,3’−ジブロモ−5,5’ビス(トリメリルシリル)−2,2’−ジチオフェンおよびブチルリチウム、並びにジクロロジ(2−エチル−ヘキシル)−シランを用いて参考文献:J. Am. Chem. Soc., 2008, 130, 16144;に基づき調製されうる。2、2’−ジチオフェンは2−Ni(dppp)Cl触媒とともに2−ブロモチオフェンを用いて参考文献:J. Am. Chem. Soc., 1997, 119, 12568.に基づいて調製される。
実施例1
実施例1のヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料の構造は以下のとおりである:
Figure 0005480404
化学式によれば、実施例1のヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料はキノイドチオフェン四つとシアノ基四つとを有する対称的な構造を有する。R、R、RおよびRはHであり、RおよびRはヘキシルであり、a=b=1である。シアノ基は、電子求引基としてはたらく。このような対称的な構造は、良好な光吸収特性、光電子特性および低分子量の前記ヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料につながり、前記材料を含む製品を軽量化できる。
実施例1のヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料の詳しい合成方法を以下に示す:
1)下記の式で表される4,4’−ヘキシル−2,6−ジブロモ−4H−シクロペンタ[2,1−b:3,4−b’]ジチオフェンを合成した:
Figure 0005480404
具体的な製造工程を以下に示す:氷浴および遮光4,4’−ヘキシル−4H−シクロペンタ[2,1−b:3,4−b’]ジチオフェン3.47gとDMF50mlを含む反応フラスコにNBS3.92gを何回かに分けて加え、室温で12時間撹拌した。反応終了後、反応溶液を氷水に注いで反応を停止させ、酢酸エチルで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、ロータリーエバポレータにかけ、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより分離して生成物を得た。
生成物の試験結果:MALDI−TOF−MS(m/z):504.4(M
2)この実施例の化合物Cとして、下記の化学式を有する4,4’−ヘキシル−2,2’−ビス(トリメチル−スズ−ラジカル)−4H−シクロペンタ[2,1−b:3,4−b’]ジチオフェンを調製した:
Figure 0005480404
具体的な合成手順は次の通りである:4,4’−ヘキシル−2,6−ジブロモ−4H−シクロペンタ[2,1−b:3,4−b’]ジチオフェン2.25gと無水THF40.0mLを反応容器に加え、ここにn−ブチルリチウム溶液(2.9Mヘキサン溶液)4.13mLを−25℃で滴下した。2時間撹拌後、前記反応容器に塩化トリメチルスズ2.38gを加え、6時間撹拌した。反応終了後、反応溶液を室温に戻し、飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、ジエチルエーテルで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ロータリーエバポレータにかけ、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離して生成物を得た。
生成物の試験結果:MALDI−TOF−MS(m/z):672.2(M
3)下記の化学式を有する4,4’−ヘキシル−2,6−ビス(チオフェンチオフェン2−イル)−4H−シクロペンタ[2,1−b:3,4−b’]ジチオフェンを調製した:
Figure 0005480404
この工程は、前述の工程S02であるが、ひとつには、原料の供給源が単純になり、これによって合成経路が単純になるのに加えて、化合物Aと化合物Bが同一であるためコストが削減される。もう一点においては、異なる化合物Aと化合物Bを使用した場合に比べ生成物の収率が高くなる。
詳しい合成経路は次の通りである:無水THF25mLをN雰囲気下の加圧管に注ぎ、4,4’−ヘキシル−2,2’−ビス(トリメチル−スズ−ラジカル)−4H−シクロペンタ[2,1−b:3,4−b’]ジチオフェン2.20gと2−ブロモチオフェン1.08gを素早く加え、Pd(dba)0.056gとP(o‐Tol)を30分間のバブリング後に加えた。加圧管を密閉し、80℃に加熱し、26時間還流した。反応終了後、KF(1.00M)水溶液15.0mLを加え、30分撹拌した後、飽和塩化ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで系全体を抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、ロータリーエバポレータ―にかけ、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離して生成物を得た。
生成物の試験結果:MALDI−TOF−MS(m/z):510.9(M
4)下記の化学式を有する4,4’−ヘキシル−2,6−ビス(5−ブロモ−チオフェン−2−イル)−4H−シクロペンタ[2,1−b:3,4−b’]ジチオフェンを調製した:
Figure 0005480404
詳しい合成経路は次の通りである:氷浴および遮光条件においてNBS0.78gを4,4’−ヘキシル−2,6−ビス(チオフェン−2−イル)−4H−シクロペンタ[2,1−b:3,4−b’]ジチオフェン1.02gおよびDMF20mLを含む反応フラスコに何回かに分けて加え、室温で12時間撹拌した。反応終了後、反応溶液を氷水に注いで反応を停止させ、クロロホルムで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、ロータリーエバポレータに掛け、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより分離して生成物を得た。
生成物の試験結果:MALDI−TOF−MS(m/z):668.6(M
5)構造式を上記で示した最終生成物を調製した。
詳しい合成経路は次の通りである:氷浴下においてマロノニトリル0.20gを水素化ナトリウム(60%が油相に存在)0.24gとジメトキシエタン20mLを含む懸濁液に加え、系全体を室温に戻し、30分撹拌した後、2,6−ビス(5−ブロモ−チオフェン−2−イル)−ジチエノ[3,2−b:2’,3’−d]チオフェン0.72gとPdCl(PPh0.038gを加えた。系全体を加熱し14時間還流後、0℃に冷却し、飽和Br/HO溶液を加えた。反応系に水を加え、系全体を吸引濾過し、水洗し、乾燥させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより分離して生成物を得た。
生成物の試験結果:MALDI−TOF−MS(m/z):638.9(M
実施例2
実施例2のヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料の構造は以下のとおりである:
Figure 0005480404
前記のヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料の式は実施例1と似ており、R、R、RおよびRがHであり、RおよびRが実施例1と異なる2−エチル−ヘキシルであり、XがSiである六つのキノイドチオフェン環(a=b=2)を有する対称的な構造を有する。シアノ基は電子求引基としてはたらく。こうした対称的な構造によって前記のヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料等の良好な吸光特性、良好な光電特性が実現される。
本実施例に係る前記のヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料の詳しい合成方法の詳しい工程を以下に示す:
1)この実施例に係る化合物Aおよび化合物Bとして、下記の化学式を有する5−ブロモ−2,2’−バイチオフェンを調製した:
Figure 0005480404
化合物Aおよび化合物Bの構造が同一であるため、化合物Aおよび化合物Bは工程2)のみによって合成してもよく、これにより合成経路が単純になり、コストが削減できる。さらに、前記のヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料の構造が非対称である場合、化合物Aおよび化合物Bの構造は異なり、このとき異なる原料についてそれぞれ2度の工程2)が必要となる。
詳しい合成工程は次の通りである:氷浴中、遮光下においてNBS17.80gを2,2’−バイチオフェン16.60gとDMF200mLを含む反応フラスコに何回かに分けて加え、室温で12時間撹拌した。反応終了後、反応溶液を氷水に注いで反応を停止させ、クロロホルムで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、ロータリーエバポレータに掛け、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより分離して生成物を得た。
生成物の試験結果:MALDI−TOF‐MS(m/z):245.2(M
2)下記の化学式を有する4,4’−ビス(2−エチル−ヘキシル)−5,5’−ジブロモ−ジチエノ[3,2−b:2’,3’−d]シランを調製した:
Figure 0005480404
詳しい合成工程は次の通りである:THF200mLに4,4’−ビス(2−エチル−ヘキシル)−5,5’−ビス(トリメチルシリル)−ジチエノ[3,2−b:2’,3’−d]シラン16.90gを加え溶解し、NBS11.00gを何回かに分けて加え、室温で6時間撹拌した。反応終了後、反応溶液を氷水に注いで反応を停止させ、クロロホルムで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、ロータリーエバポレータに掛け、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより分離して生成物を得た。
生成物の試験結果:MALDI−TOF−MS(m/z):576.6(M
3)本実施例に係る化合物Cとして、下記の化学式を有する4,4’−ビス(2−エチル−ヘキシル)−5,5’−ビス(トリメチルスズ)−ジチエノ[3,2−b:2’,3’−d]シランを調製した:
Figure 0005480404
詳しい合成工程は次の通りである:4,4’−ビス(2−エチル−ヘキシル)−5,5’−ジブロモ−ジチエノ[3,2−b:2’,3’−d]シラン11.52gおよび無水THF100mL溶液を反応フラスコに入れ、n−ブチルリチウム溶液(2.7M n−ヘキサン溶液)17.8mLを滴下した。2時間撹拌後、塩化トリメチルスズ9.71gを滴下し、6時間撹拌した。反応終了後、反応溶液を室温に戻し、飽和NHCl溶液を加え、ジエチルエーテルで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、ロータリーエバポレータにかけた。この工程の最後において生成物を精製する必要はなく、直接次の工程に進んでよい。
生成物の試験結果:MALDI−TOF−MS(m/z):744.4(M
4)下記の化学式を有する2,6−ビス(2,2’−バイチオフェン−5)−4,4’−ビス(2−エチル−ヘキシル)−ジチエノ[3,2−b:2’,3’−d]シランを調製した:
Figure 0005480404
化合物Aの構造および化合物Bの構造が、実施例1と同様に同一であるため、ひとつには、原料の供給源が単純になり、これによって合成経路が単純になるのに加えて、化合物Aと化合物Bが同一であるためコストが削減される。もう一点においては、異なる化合物Aと化合物Bを使用した場合に比べ生成物の収率が高くなる。
詳しい合成工程は次の通りである:無水のTHF80mLを窒素の保護雰囲気下で加圧管に加え、4,4’−ビス(2−エチル−ヘキシル)−5,5’−ビス(トリメチル−スズ)−ジチエノ[3,2−b:2’,3’−d]シランおよび5−ブロモ−2,2’−バイチオフェン5.40gを素早く加え、30分間のバブリング後、Pd(dba)0.19gとP(o‐Tol)0.14gを加えた。加圧管を密閉し、80℃に加熱し、24時間還流した。反応終了後、KF(1.00M)水溶液30.0mLを加え、40分撹拌した後、飽和塩化ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで系全体を抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、ロータリーエバポレータ―にかけ、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離して生成物を得た。
生成物の試験結果:MALDI−TOF−MS(m/z):747.3(M
5)下記の化学式を有する2,6−ビス(5’−ブロモ−2,2’−バイチオフェン−5)−4,4’−ビス(2−エチル−ヘキシル)−ジチエノ[3,2−b:2’,3’−d]シランを調製した:
Figure 0005480404
詳しい合成工程は次の通りである:氷浴および遮光条件においてNBS3.91gを2,6−ビス(2,2’−バイチオフェン−5−イル)−4,4’−ビス(2−エチル−ヘキシル)−ジチエノ[3,2−b:2’,3’−d]シラン3.74gおよびDMF50mLを含む反応フラスコに何回かに分けて加え、室温で12時間撹拌した。反応終了後、反応溶液を氷水に注いで反応を停止させ、クロロホルムで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、ロータリーエバポレータに掛け、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより分離して生成物を得た。
生成物の試験結果:MALDI−TOF−MS(m/z):905.1(M
6)構造式を上記で示した最終生成物を調製した。
詳しい合成工程は次の通りである:氷浴条件において水素化ナトリウム(60%が油相に存在)0.20g及びジメトキシエタン30mLが入った懸濁液にマロノニトリル0.16gを加えた後、反応系を室温に戻し、40分間撹拌した。2,6−ビス(5’−ブロモ−2,2’−バイチオフェン−5)−4,4’−ビス(2−エチル−ヘキシル)−ジチエノ[3,2−b:2’,3’−d]シラン1.81gおよびPdCl(PPh0.070gを加えた。系全体を加熱しながら12時間還流した後、0℃に冷却し、飽和Br/HO溶液を加えた。反応系に水を加えた後、系全体を吸引濾過し、水洗し、乾燥し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離して生成物を得た。収率は61%である。
生成物の試験結果:MALDI−TOF−MS(m/z):873.4(M
上記の開示において、ヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料は複数のキノイドチオフェン環構造を有している。チオフェン環は5員環でHuckel則を満たしているため、前記チオフェン環は適度なバンドギャップ、広範なスペクトル応答、高い熱安定性、環境安定性という利点を有している。さらに、強い電子求引基であるジシアノエチレン(=C(CN))基を二つ分子鎖の両端に導入することにより、上記のヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料は、チオフェンからなるバイチオフェンユニットを有するキノイドチオフェン構造に変換される。このような構造は、吸収バンド端を赤色および近赤外領域に押しやることにより材料の光電特性と光電変換効率を向上させ、太陽光スペクトルの吸収領域をさらに拡大する。上記のヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料の製造には、製造工程の容易化と製造コスト削減を可能とする簡単な合成経路とスティルカップリング反応を使用する。上記のヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料を太陽電池デバイス、有機電界効果トランジスタ、有機エレクトロルミネッセンスデバイス、有機光学座メモリーデバイス、有機非線形材料または有機レーザーデバイスに適用すれば、これらのデバイスの光電子、半導体特性が改良され、重量が減ることにより大量生産の容易になる。
以上、本発明を構造上の特徴および/または方法論的な作業に特有な表現によって説明したが、添付の請求項において定義される発明は必ずしも表記の特徴に限定されるものではないことを理解すべきである。むしろ、上記の特徴および作業は請求項に係る発明を実施するための例示的な実施形態として開示されるものである。

Claims (10)

  1. 下記化学式(1):
    Figure 0005480404
    式中、R、R、R及びRは同一でも異なってもよく、Hまたは炭素数1〜20のアルキルもしくはアルコキシであり;R及びRは同一であっても異なってもよく、炭素数1〜20のアルキルもしくはアルコキシであり;a及びbは同一であっても異なってもよく、1〜12の整数であり;XはSiまたはCである、
    で表される化合物を含む、ヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料。
  2. 及びRが同一であり、Hまたは炭素数1〜20のアルキルもしくはアルコキシであり;R及びRが同一であり、Hまたは炭素数1〜20のアルキルもしくはアルコキシであり;R及びRが同一であり、炭素数1〜20のアルキルもしくはアルコキシである、請求項1に記載のヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料。
  3. a及びbが、1〜12の同一の整数である、請求項1に記載のヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料。
  4. a及びbが1または2である、請求項1に記載のヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料。
  5. 次の工程を含む、ヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料の製造方法:
    それぞれ次の化学式で表される、化合物A、化合物B及び化合物C、並びにマロノニトリルを準備する工程;
    Figure 0005480404
    式中、R、R、R及びRは同一でも異なってもよく、Hまたは炭素数1〜20のアルキルもしくはアルコキシであり;R及びRは同一であっても異なってもよく、炭素数1〜20のアルキルもしくはアルコキシであり;a及びbは同一であっても異なってもよく、1〜12の整数であり;XはSiまたはCであり、Anは炭素数1〜4のアルキルである、
    溶媒及び触媒の存在下で、化合物A、化合物B及び化合物Cを用いてスティルカップリング反応を実施する工程;
    スティルカップリング反応で得られた生成物を用いて臭素置換反応を実施して臭素化生成物を得る工程;
    前記臭素化生成物およびマロノニトリルを用いて、溶媒、触媒及び縮合化剤の存在下で縮合反応を実施して下記化学式(1)で表される化合物を得る工程。
    Figure 0005480404
  6. 前記スティルカップリング反応、前記臭素置換反応および前記縮合反応の後に、それぞれの生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーを用いて精製してカップリング反応生成物、臭素化生成物および化学式(1)で表される化合物を得る工程をさらに含む、請求項5に記載のヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料の製造方法。
  7. 前記臭素置換反応を、ジメチルホルムアミド、THF、CCl、クロロホルム、ジクロロメタンまたはアセトニトリルの溶媒の存在下で、スティルカップリング反応の生成物を用いてN−ブロモスクシンイミド、Br2、HBrまたはPBrと置換反応させることにより行う、請求項5に記載のヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料の製造方法。
  8. 縮合反応の触媒が有機パラジウム触媒であり、溶媒がジメトキシエタン、エタノール、メタノール、ジクロロメタン、クロロホルム、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、DMF、トルエンまたはアセトンである、請求項5に記載のヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料の製造方法。
  9. スティルカップリング反応の触媒が有機パラジウム触媒であり、溶媒がテトラヒドロフラン、ジクロロメタン、ジメトキシエタン、エーテルまたはトルエンであり、縮合化剤が水素化ナトリウムまたはナトリウムアルコキシドである、請求項5に記載のヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料の製造方法。
  10. 請求項1〜4のいずれか1項に記載のヘテロ環状キノイドチオフェン有機光電材料を太陽電池デバイス、有機電界効果トランジスタ、有機エレクトロルミネッセンスデバイス、有機光学メモリーデバイス、有機非線形材料または有機レーザーデバイスの製造に適用する方法。
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