JP5478145B2 - ポリマー除去装置およびポリマー除去方法 - Google Patents
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Description
図1は本発明の一実施形態に係るポリマー除去装置を示す断面図である。
このようにウエハWの周縁部にリング状のレーザー光を照射する場合には、ウエハW表面(デバイス面)の温度の上昇が問題となる場合がある。本実施形態では、このような場合に対処可能な例について示す。
2;BSP
11;チャンバ
12、12′;載置台
15;オゾンガス吐出孔
19;オゾンガス供給源
20、20′;レーザー照射ユニット
22;ミラー部材(反射部材)
22a;ミラー面(反射面)
23;排気ユニット
24;排気配管
40;制御部
50、50′;ウエハ冷却機構
L;リング状レーザー光
W;ウエハ
Claims (4)
- 円形の被処理基板の裏面の周縁部に環状に付着したポリマーを除去するポリマー除去装置であって、
裏面の周縁部に環状にポリマーが付着した被処理基板を収容する処理容器と、
前記被処理基板の裏面の周縁部を除く部分を載置する載置台と、
前記載置台の中央上方に設けられ、被処理基板の外縁よりも外側部分を通過するように放射状に広がるリング状のレーザー光を射出するレーザー照射部と、
前記レーザー照射部から射出されたレーザー光を反射させて、前記被処理基板の裏面に付着したポリマーに向けて反射させる反射部材と、
前記被処理基板の裏面の周縁部に環状に付着した前記ポリマーにオゾンガスを供給するオゾンガス供給機構と、
オゾンガスを排気する排気機構と
を具備し、
前記反射部材は、前記載置台を囲繞するように円筒状に設けられ、その上面にすり鉢状の反射面が形成されており、
前記載置台は、前記被処理基板の周縁部に対応する部分にテーパー部が形成され、
前記オゾンガス供給機構は、前記テーパー部に、円周状に配列するように設けられたオゾンガス吐出口を有し、
前記排気機構は、前記載置台および前記反射部材を囲繞するように設けられた排気ユニットを有し、前記排気ユニットは、前記載置台上の被処理基板の外側に円周状に形成されたガス取り込み口を有し、
前記レーザー照射部から放射状に射出されたリング状のレーザー光が、前記反射部材の前記反射面で反射して、前記被処理基板の裏面に環状に付着した前記ポリマーに一括照射されるとともに、前記オゾンガス吐出口から前記被処理基板の裏面に環状に付着した前記ポリマーの全体にオゾンガスが供給され、かつ前記ガス取り込み口から反応後のオゾンガスが取り込まれて排気されることを特徴とするポリマー除去装置。 - 前記被処理基板に冷却ガスを供給する冷却ガス供給機構をさらに具備することを特徴とする請求項1に記載のポリマー除去装置。
- 円形の被処理基板の裏面の周縁部に環状に付着したポリマーを除去するポリマー除去方法であって、
裏面の周縁部に環状にポリマーが付着した被処理基板の裏面の周縁部を除く部分を前記被処理基板の周縁部に対応する部分にテーパー部が形成された載置台に載置する工程と、
前記載置台の中央上方に設けられたレーザー照射部から、被処理基板の外縁よりも外側部分を通過するように放射状にリング状のレーザー光を射出する工程と、
前記載置台を囲繞するように円筒状に反射部材を配置し、その上面のすり鉢状の反射面で前記放射状に射出されたリング状のレーザー光を反射させて、前記被処理基板の裏面に環状に付着した前記ポリマーに一括照射する工程と、
前記レーザー光を照射している際に、前記テーパー部に、円周状に配列するように設けられたオゾンガス吐出口から前記被処理基板の裏面の周縁部に環状に付着した前記ポリマーの全体にオゾンガスを供給する工程と、
前記載置台および前記反射部材を囲繞するように設けられた排気ユニットの前記載置台上の被処理基板の外側に円周状に形成されたガス取り込み口からオゾンガスを排気する工程と
を有することを特徴とするポリマー除去方法。 - 前記レーザー光を照射している際に、前記被処理基板に冷却ガスを供給する工程をさらに有することを特徴とする請求項3に記載のポリマー除去方法。
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