JP5473265B2 - 多層構造計測方法および多層構造計測装置 - Google Patents
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Description
波長を掃引する光源からの光を測定光と参照光とに分割し、眼の角膜の付近を支点として前記眼の網膜に対して前記測定光を走査する走査手段を介して前記測定光を照射した前記網膜からの戻り光と参照光路を介して導かれた前記参照光との合成光の波数スペクトルに基づいて前記網膜の多層構造のそれぞれの層を計測する多層構造計測方法であって、
前記波数スペクトルから、層厚の光学距離に対応した情報を計算する第1の工程と、
前記光学距離に対応した情報から、各層の光学距離に対応した情報を分離して抽出する第2の工程と、
前記各層の光学距離に対応した情報をそれぞれ再度波数スペクトルに変換する第3の工程と、
前記第3の工程の結果から、干渉が発生している波数または波長を求める第4の工程と、
前記第4の工程で求めた波数または波長と、各層の光学距離とから、干渉次数を算出する第5の工程と、
前記第5の工程で求めた干渉次数を整数近似することによって整数の干渉次数を求め、前記整数の干渉次数と、干渉が発生している波数または波長とから、各層の光学距離を計算する第6の工程と、
前記計算された各層の光学距離を反映した前記網膜の断層像を得る工程と、
を含むことを特徴とする。
波長を掃引する光源と、
前記光源からの光を測定光と参照光とに分割し、眼の角膜の付近を支点として前記眼の網膜に対して前記測定光を走査する走査手段を介して前記測定光を前記網膜に導くとともに、前記眼の網膜からの戻り光を検出位置に導き、かつ、前記参照光を参照光路を介して前記検出位置に導く光学系と、
前記検出位置に配置され、前記戻り光と前記参照光の合成光の波数スペクトルを検出する分光器と、
検出された波数スペクトルから、前記網膜の多層構造のそれぞれの層を計測する解析手段と、を備え、
前記解析手段は、
前記波数スペクトルから、層厚の光学距離に対応した情報を計算する第1の工程と、
前記光学距離に対応した情報から、各層の光学距離に対応した情報を分離して抽出する第2の工程と、
前記各層の光学距離に対応した情報をそれぞれ再度波数スペクトルに変換する第3の工程と、
前記第3の工程の結果から、干渉が発生している波数または波長を求める第4の工程と、
前記第4の工程で求めた波数または波長と、各層の光学距離とから、干渉次数を算出する第5の工程と、
前記第5の工程で求めた干渉次数を整数近似することによって整数の干渉次数を求め、前記整数の干渉次数と、干渉が発生している波数または波長とから、各層の光学距離を計算する第6の工程と、
前記計算された各層の光学距離を反映した前記網膜の断層像を得る工程と、
を実行することを特徴とする。
。第2の工程では、光学距離に対応した情報から、多層構造の各層の光学距離に対応した情報を分離して抽出する。第3の工程では、各層の光学距離に対応した情報を逆フーリエ変換などによって再度波数スペクトルに変換する。第4の工程では、その波数スペクトルから干渉が発生している波数(または波長)を求める。第5の工程では、求めた波数(波長)と各層の光学距離から、干渉次数を算出する。そして、第6の工程では、干渉次数が理論的に整数になること用いて、干渉次数を整数に近似(補正)し、これと干渉が発生している波数(波長)とから各層の光学距離を計算する。
第1の実施形態においては、本発明を適用した光干渉装置について図面を用いて説明する。
最初に、図1を参照して、光干渉装置の構成を大まかに説明する。光源101から出射した計測光がレンズ102、ビームスプリッタ103、XYスキャナ104、対物レンズ105を介して観察対象である半導体などの試料106に到達する。試料表面には透過性の膜が配置されており、それらの表面および界面で反射された光は、対物レンズ105、XYスキャナ104、ビームスプリッタ103、結像レンズ107を介して、分光器108に到達する。
図2を用いて多層構造の干渉条件について説明する。なお、簡単のため多重反射の影響は考慮しない。
本発明の信号処理工程について、図3A〜Dを用いて説明する。ここでは図2に示す構成の膜を測定する場合を例にとって説明する。なお、以下の各処理はコンピューター111によって実行されるものである。
幅301は図3Cに示されるように、N1D1,N2D2およびN12D12のピークに応じて設定する。ちなみに、これらの光学距離はS7の工程で再度呼び出せるようにメモリーなどに格納する。
っていないような場合にはどちらの数式を用いればよいのか分からない。このような場合には、数式1および数式2を用いて、mをそれぞれ計算する。その後、km+1、km+2、・・・において光学距離ndを計算する。ndの誤差が最小になる方を選択することによって、mを決定することができる。また、これによって層間の屈折率の大小関係を知ることができる。
ここで簡単に数値を使って説明する。作製した試料が設計どおりの構成になっているかを計測したい場合を想定する。すなわち、試料が設計値から大きくずれていないような状況である。
換(図3AのS2)の結果としてこの付近にピークが発生することになる。
≒27.5/0.4)のピクセル付近にピークが発生することになる。ピークの間隔がそれぞれ離れていることから、S3の工程で3つの帯域にバンドパスフィルターを設定してこれらのピークを分離することができる。S4の工程で逆離散フーリエ変換をする。まず、層厚の光学距離が7.5μmである場合、強めあう条件として、m=19(λ=789.4nm)〜37(λ=405.5nm)のピークが400nm〜800nmの範囲に現
れる。また、層厚の光学距離が20μmである場合、強めあう条件として、m=50(λ=800nm)〜100(λ=400nm)のピークが現れる。ただし、両端はピークであることが判別できないため、実際には51〜99になる。
ンド幅が最小分解能(1ピクセル)のときは離散フーリエ変換の結果と一致することになる。なぜなら、周辺にリークしたデータを活用できないからである。従って、離散フーリエ変換で十分なバンド幅で分離できるときに本発明の方式は有効な手法となる。また、屈折率が波長に依存するような場合は波長に対応した屈折率を用いることができるのでさらに高精度な計測が可能となる。
第2の実施形態においては、参照ミラーを使う構成の光干渉装置について図面を用いて説明する。ここでは、主に第1の実施形態との相違点を説明する。
まず、図4を用いて光干渉装置の装置構成について説明する。光源101から出射した光がビームスプリッタ103によって参照光404と測定光112とに分割される。測定光は、観察対象である試料106によって反射され、戻り光113となって戻される。一方、参照光は参照ミラー401によって反射される。なお、参照ミラー401は位置調整機構402によって光路長を調整することができる。参照光はビームスプリッタ103によって、戻り光と合波される。このように、本実施形態における光干渉装置の光学系は、光源からの光を、測定光と参照光に分割し、測定光を試料106に導きその戻り光を検出位置に導くとともに、参照光路を介して参照光を検出位置に導くものである。
次に、図5を用いて多層構造の構成ついて説明する。なお、簡単のため多重反射の影響は考慮しない。また、参照ミラー501は等価的に試料と同軸上にあるとしてよいので図のような配置とする。ここで、戻り光と参照光の光路差は、参照ミラーから試料表面までの距離をL0として表される。また、参照ミラーから第1の界面および参照ミラーから第2の界面までの光学距離をそれぞれNm1L1、Nm2L2とする。なお、多層構造の試料は屈折率Nsの基板204の上に屈折率N2の第2の層203、屈折率N1の第1の層202の構成で、屈折率N0の媒質に配置されているとする。各層の空間距離はD1およびD2である。
本実施形態における信号処理工程のうち、第1の実施形態との差異について、図5の構成を例に説明する。S1の工程において、分光器からのスペクトルデータを取得する。このときのデータが図6Aに模式的に示されている。
第3の実施形態においては、本発明を適用した眼科用OCT装置の光学系について図7を用いて詳しく説明する。基本的な構成は、第2の実施形態の参照ミラーを使うタイプである。
図7は、全体としてマッハツェンダー干渉系を構成している。光源701から出射した光がビームスプリッタ703−1によって参照光705と測定光706とに分割される。測定光706は、観察対象である眼707によって反射や散乱により戻り光708となって戻された後、ビームスプリッタ703−2によって、参照光705と合波され、分光器721に入射する。
れる。
ここで、数値を使って説明する。対象物は目であり、その物理的大きさおよび構造は人によって大きく変わらない。ただし、ここでは簡単のため次のような構造とする。まず、網膜全体の空間距離を560μmとし、7層で構成され、各層の空間距離が80μmとする。また、屈折率を1.5(各層の屈折率は異なっていないと界面で反射しないがここでは簡単な数値計算をするため全て同じとする)とする。従って、各層の光学距離は120μmで、全体の光学距離は840μmとなる。ミラーの位置は、空間距離でL0=400μmとなるような位置とし、光学距離は600μmとなる。
大幅に改善するということが言える。
102:レンズ
103:ビームスプリッタ
104:XYスキャナ
105:対物レンズ
106:試料
107:結像レンズ
108:分光器
109:回折格子
110:撮像素子
111:コンピューター
201:計測光
202:第1の膜
203:第2の膜
204:基板
205:表面
206:第1の界面
207:第2の界面
301:バンド幅
302:閾値
401:参照ミラー
402:位置調整機構
403:プリズム型分光器
404:参照光
405:プリズム
501:参照ミラー
601:第1の領域
602:第2の領域
603:バンド幅
604:閾値
701:光源
703:ビームスプリッタ
705:参照光
706:測定光
707:眼
708:戻り光
710:シングルモードファイバー
711:レンズ
714:ミラー
715:分散補償用ガラス
717:電動ステージ
719:XYスキャナ
720:レンズ
721:分光器
722:角膜
723:網膜
724:検出器
725:コンピューター
Claims (11)
- 波長を掃引する光源からの光を測定光と参照光とに分割し、眼の角膜の付近を支点として前記眼の網膜に対して前記測定光を走査する走査手段を介して前記測定光を照射した前記網膜からの戻り光と参照光路を介して導かれた前記参照光との合成光の波数スペクトルに基づいて前記網膜の多層構造のそれぞれの層を計測する多層構造計測方法であって、
前記波数スペクトルから、層厚の光学距離に対応した情報を計算する第1の工程と、
前記光学距離に対応した情報から、各層の光学距離に対応した情報を分離して抽出する第2の工程と、
前記各層の光学距離に対応した情報をそれぞれ再度波数スペクトルに変換する第3の工程と、
前記第3の工程の結果から、干渉が発生している波数または波長を求める第4の工程と、
前記第4の工程で求めた波数または波長と、各層の光学距離とから、干渉次数を算出する第5の工程と、
前記第5の工程で求めた干渉次数を整数近似することによって整数の干渉次数を求め、前記整数の干渉次数と、干渉が発生している波数または波長とから、各層の光学距離を計算する第6の工程と、
前記計算された各層の光学距離を反映した前記網膜の断層像を得る工程と、
を含むことを特徴とする多層構造計測方法。 - 前記第1の工程は、前記波数スペクトルに対してフーリエ変換を施す工程であり、
前記第3の工程は、光学距離に対応した情報に対して逆フーリエ変換を施す工程であることを特徴とする請求項1に記載の多層構造計測方法。 - 前記第2の工程は、バンドパスフィルターによって各層の光学距離に対応した情報を抽出するものであり、それぞれの層についての抽出範囲が可変であることを特徴とする請求項1または2に記載の多層構造計測方法。
- 前記第5の工程では、各層の光学距離の2倍が波長の整数倍あるいは半整数倍であることを利用して、干渉次数を算出することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載
の多層構造計測方法。 - 前記第5の工程では、各層の光学距離の2倍が波長の整数倍であることを仮定して第1の干渉次数を算出し、各層の光学距離の2倍が波長の半整数倍であることを仮定して第2の干渉次数を算出し、前記第1および第2の干渉次数のうち、干渉次数から各層の光学距離を求めた場合に誤差が小さい方の干渉次数を選択する、ことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の多層構造計測方法。
- 前記第5および第6の工程では、各層の光学距離として、前記第1の工程の結果においてピークをとる光学距離を用いることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の多層構造計測方法。
- 前記第3の工程の結果から干渉が発生している波数または波長を複数求め、求めた波数または波長と干渉条件とから各層の光学距離を算出する工程を含み、前記第5および第6の工程では、上記工程で算出した光学距離を干渉次数の算出に用いることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の多層構造計測方法。
- 前記参照光と、前記網膜の表面で反射する戻り光との光路長差の光学距離が、前記網膜の多層構造全体の光学距離より長いことを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の多層構造計測方法。
- 請求項1〜8のいずれか1項に記載の多層構造計測方法の各工程をコンピュータに実行させるためのプログラム。
- 波長を掃引する光源と、
前記光源からの光を測定光と参照光とに分割し、眼の角膜の付近を支点として前記眼の網膜に対して前記測定光を走査する走査手段を介して前記測定光を前記網膜に導くとともに、前記眼の網膜からの戻り光を検出位置に導き、かつ、前記参照光を参照光路を介して前記検出位置に導く光学系と、
前記検出位置に配置され、前記戻り光と前記参照光の合成光の波数スペクトルを検出する分光器と、
検出された波数スペクトルから、前記網膜の多層構造のそれぞれの層を計測する解析手段と、を備え、
前記解析手段は、
前記波数スペクトルから、層厚の光学距離に対応した情報を計算する第1の工程と、
前記光学距離に対応した情報から、各層の光学距離に対応した情報を分離して抽出する第2の工程と、
前記各層の光学距離に対応した情報をそれぞれ再度波数スペクトルに変換する第3の工程と、
前記第3の工程の結果から、干渉が発生している波数または波長を求める第4の工程と、
前記第4の工程で求めた波数または波長と、各層の光学距離とから、干渉次数を算出する第5の工程と、
前記第5の工程で求めた干渉次数を整数近似することによって整数の干渉次数を求め、前記整数の干渉次数と、干渉が発生している波数または波長とから、各層の光学距離を計算する第6の工程と、
前記計算された各層の光学距離を反映した前記網膜の断層像を得る工程と、
を実行することを特徴とする多層構造計測装置。 - 前記第1の工程は、前記波数スペクトルに対してフーリエ変換を施す工程であり、
前記第3の工程は、光学距離に対応した情報に対して逆フーリエ変換を施す工程であることを特徴とする請求項10に記載の多層構造計測装置。
Priority Applications (4)
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