JP5471964B2 - パルス幅制御回路及び半導体メモリ - Google Patents

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本願は、製造プロセスのばらつきに応じてパルス幅を制御するパルス幅制御回路及び半導体メモリに関する。
集積回路では、製造プロセスのばらつきによって回路特性が変わる。例えば、配線幅がばらつくことにより配線抵抗が変動するため、配線ディレイがばらつく。また、トランジスタのプロセス依存によりトランジスタ特性が変動するため、インバータディレイがばらつく。
図1は、配線ディレイ、インバータディレイ、それぞれのばらつきの傾向について一例を示す。図1において、(A)は入力パルス、(B)は(A)に配線ディレイが付加されたパルス、(C)は(A)にインバータディレイが付加されたパルスである。一般に配線ディレイとインバータディレイとでは、Slow(電流が流れない側にばらついた場合)、Fast(電流が流れる側にばらついた場合)の各条件における変動が異なる。例えば、図1に示されるように、配線ディレイとインバータディレイとでは、インバータディレイの方がディレイのばらつきが大きくなることがある。
図2は、RAMのワード線をパルス駆動する場合の一般的な構成を示す。パルスジェネレータにより生成されたパルスに基づいて、ドライバを介してワード線がパルス駆動される。パルスジェネレータは、例えば、インバータを用いたチョッパー回路を有する。配線ディレイ、インバータディレイがばらついても仕様を満たすようにパルス幅が決定される。
上記の背景技術に関連して、例えば、特許文献1、2、3が開示されている。
特表2008−526011号公報 特開2000−228626号公報 特開2003−332435号公報
図3は、図2の構成でワード線をパルス駆動した場合の波形を示す模式図である。通常、トランジスタのプロセス依存に関して、プロセスがSlowの条件に合わせてパルス幅が決定される場合がある。図3(A)に示されるように、プロセスSlowの状態(Slow基準における通常の状態)では、図2のドライバ出力における入力パルス(1)は狙い値通りのパルス幅を有し、配線の先における波形(2)は配線抵抗の影響によって鈍りながらも十分な振幅を確保することができている。しかし、図3(B)に示されるように、プロセスがFastに振れた場合には、図2のドライバ出力における入力パルス(1)のパルス幅が小さくなる。一方で、そのような場合でも、配線抵抗は変わらないことが多く、配線の先における波形(2)は配線抵抗の影響によってつぶれてしまい、十分な振幅が得られなくなってしまう。
また、プロセスがFastに振れた場合にもパルスがつぶれないように、トランジスタのプロセス依存と配線幅のばらつきとの両方を加味した場合、実際のデバイスで必要なパルス幅よりも過剰に大きくなる傾向がある。その結果、アクセスタイムやサイクルタイムが大きくなってしまい、マクロの競争力を削いでしまう。
本願は、トランジスタのプロセス依存と配線幅のばらつきとに応じて適切なパルス幅に制御することが可能なパルス幅制御回路及び半導体メモリを提供することを目的とする。
本願に開示されているパルス幅制御回路は、配線による遅延とインバータによる遅延とを比較する比較回路と、インバータ段数によりパルス幅を調整するパルス幅調整回路と、を備え、前記パルス幅調整回路は、前記比較回路の比較結果に基づいて、前記インバータによる遅延が前記配線による遅延よりも小さくなった場合に、前記インバータ段数を多くし、前記パルス幅を増加させる。
開示のパルス幅制御回路、半導体メモリによれば、トランジスタのプロセス依存と配線幅のばらつきとに応じて適切なパルス幅に制御することが可能で、アクセスタイムやサイクルタイムを過大にすることなく動作マージンを確保することができる。
配線ディレイ、インバータディレイのばらつきの傾向について一例を示す図である。 RAMのワード線をパルス駆動する場合の一般的な構成を示す図である。 図2の構成でワード線をパルス駆動した場合の波形を示す模式図である。 本実施形態のパルス幅制御回路を搭載する半導体メモリの全体ブロック図である。 本実施形態のパルス幅制御回路を示す図である。 比較回路の一例を示す図である。 配線ディレイ回路の一例を示す図である。 インバータディレイ回路の一例を示す図である。 パルス幅調整回路の一例を示す図である。 本実施形態のパルス幅制御回路の動作タイミングを示す模式図である。
図4は、本実施形態のパルス幅制御回路を搭載する半導体メモリの全体ブロック図である。ロウアドレスバッファ1に入力されたアドレスは、ロウデコーダ2でデコードされる。デコードされた情報に基づいてワードドライバ3は、メモリセルアレイ4に接続されたワード線をパルス駆動する。また、カラムアドレスバッファ5に入力されたアドレスは、カラムデコーダ及びスイッチ6を制御する。カラムデコーダ及びスイッチ6は、入力されたアドレスに従って、メモリセルアレイ4に接続されたビット線をセンスアンプ、ライトアンプ7に接続する。センスアンプ、ライトアンプ7にはI/O81、I/O82、・・・が接続されており、データ入出力端子Din、Doutを介してデータの入出力が行われる。また、半導体メモリを構成する各ブロックには、基準クロックclkを基にクロックバッファ9からクロック信号が供給される。
本実施形態のパルス幅制御回路は、例えば、上記の構成を有する半導体メモリのワードドライバ3の部分に適用される。図5は、本実施形態のパルス幅制御回路を示す。図5に示されるように、パルス幅制御回路は、配線ディレイとインバータディレイとを比較する比較回路11と、比較回路11の比較結果に基づいてパルス幅を調整するパルス幅調整回路12とを含む。
比較回路11とパルス幅調整回路12とについて具体的に説明する。図6は、比較回路11の一例を示す。配線ディレイ回路D0、インバータディレイ回路D1乃至D4には、それぞれクロック信号CK(a)が入力される。
配線ディレイ回路D0は、例えば、図7に示されるように、ドライバ51、52の間にワード線と同様のレイアウトパターンで複製された配線を備える構成とすることで、配線のRC変化によるワード線信号の遅延を検知することができる。また、例えば、ドライバ51としてワードドライバの複製を用いることで、プロセス変動によるワードドライバの駆動能力の変化に伴う遅延を検知することができる。
インバータディレイ回路D1乃至D4は、例えば、図8に示されるように、ドライバ53、54の間にインバータが直列に接続された構成とすることで、プロセス変動によるインバータ駆動能力の変化に伴う遅延を検知することができる。ここで、インバータディレイ回路D4は、例えば、Typical(狙い値通りの標準的な場合)の条件下で配線ディレイ回路D0と同等の遅延値を有するように設定され、以下、インバータディレイ回路D3、D2、D1の順にインバータ段数が増やされる。
フリップフロップFF11乃至FF14は、ともに配線ディレイ回路D0の出力(b)に応じてリセットされる。また、フリップフロップFF11乃至FF14は、それぞれインバータディレイ回路D1乃至D4の出力(c)、(e)、(g)、(i)に応じてセットされる。フリップフロップFF21乃至FF24は、それぞれフリップフロップFF11乃至FF14の出力(d)、(f)、(h)、(j)を取り込む。
インバータINV1は、フリップフロップFF21の出力信号を反転して、パルス幅調整回路12に出力する。論理積ゲートAND1は、フリップフロップFF21の出力信号とフリップフロップFF22の出力の反転信号との論理積信号をパルス幅調整回路12に出力する。論理積ゲートAND2は、フリップフロップFF22の出力信号とフリップフロップFF23の出力の反転信号との論理積信号をパルス幅調整回路12に出力する。論理積ゲートAND3は、フリップフロップFF23の出力信号とフリップフロップFF24の出力の反転信号との論理積信号をパルス幅調整回路12に出力する。
パルス幅調整回路12は、前段回路から入力された信号に従い、比較回路11の比較結果に基づいてパルス幅を調整し、ワードドライバに出力する。パルス幅調整回路12は、例えば、図9に示されるように、インバータを用いたチョッパー回路と、否定論理積ゲートNAND1とを備え、入力された信号とチョッパー回路を経由した信号との否定論理積信号を出力する。チョッパー回路の途中には、トランスファーゲートTG1乃至TG4が配置される。トランスファーゲートTG1乃至TG4は、例えば、NMOSとPMOSとを含むスイッチである。トランスファーゲートTG1乃至TG4の何れかがオン状態となってインバータ段数を必要な段数に切り替えることによって、パルス幅が調整される。本実施形態では、トランスファーゲートTG1、TG2、TG3、TG4は、それぞれインバータINV1、論理積ゲートAND1、論理積ゲートAND2、論理積ゲートAND3の出力信号によって、オンオフ制御される(図6参照)。
また、前述したインバータディレイ回路D1乃至D4(図8参照)の各々について、トランスファーゲートTG1乃至TG4によって切り替えられるパルス幅調整回路12のインバータ段数と同じ段数のインバータが接続された構成とすることができる。これにより、パルス幅調整回路12について、プロセス変動によるインバータ駆動能力の変化に伴う遅延を検知することができ、パルス幅調整回路12により調整されるパルス幅が適切か否かを検知することができる。
続いて、上記の構成を有する本実施形態のパルス幅制御回路の作用、効果を説明する。図10は、本実施形態のパルス幅制御回路の動作タイミングを示す模式図であり、図6の各部の信号について適宜パルス極性を合わせて表示している。
プロセスSlowのとき、図10(A)に示されるように、フリップフロップFF11乃至FF14の出力(d)、(f)、(h)、(j)は、(d,f,h,j)=(1,1,1,0)となる。したがって、パルス幅調整回路12(図9参照)において、トランスファーゲートTG4がオン状態となってインバータ段数は5段に設定され、パルス幅が調整される。
プロセスがFastに振れた場合、図10(B)に示されるように、インバータディレイ回路D1乃至D4の出力(c)、(e)、(g)、(i)は、図10(A)のプロセスSlowのときに比べて大きく変動する。それに対して、配線ディレイ回路D0の出力(b)は、変動幅が小さい。そのため、インバータディレイ回路D3の遅延が配線ディレイ回路D0の遅延よりも小さくなる(インバータディレイ回路D3の出力(g)と配線ディレイ回路D0の出力(b)とを参照)。その結果、フリップフロップFF11乃至FF14の出力(d)、(f)、(h)、(j)は、(d,f,h,j)=(1,1,0,0)となる。したがって、パルス幅調整回路12(図9参照)において、トランスファーゲートTG3がオン状態となってインバータ段数は7段に設定され、パルス幅が調整される。
プロセスがFastから更にFast+に振れた場合、図10(C)に示されるように、フリップフロップFF11乃至FF14の出力(d)、(f)、(h)、(j)は、(d,f,h,j)=(1,0,0,0)となる。したがって、パルス幅調整回路12(図9参照)において、トランスファーゲートTG2がオン状態となってインバータ段数は9段に設定され、パルス幅が調整される。
このように、プロセスがFast側に振れるのに伴って、パルス幅調整回路12のチョッパー回路で用いられるインバータ段数が増える。これにより、パルス幅は広がる方向に調整される。したがって、トランジスタのプロセス依存によりパルス幅が小さくなるのを抑え、ワード線の先でも十分な振幅を確保することができる。
以上、詳細に説明したように、前記実施形態によれば、比較回路11が配線による遅延とインバータによる遅延とを比較し、インバータによる遅延が配線による遅延よりも小さくなった場合に、パルス幅調整回路12はチョッパー回路のインバータ段数を多くする。これにより、パルス幅は広がる方向に調整される。したがって、トランジスタのプロセス依存と配線幅のばらつきとに応じたパルス幅に制御することが可能で、アクセスタイムやサイクルタイムを過大にすることなく動作マージンを確保することができる。
尚、本発明は前記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内での種々の改良、変更が可能であることは言うまでもない。
前記実施形態では、半導体メモリのワードドライバの部分に適用する例を説明したが、他の部分に適用してもよいことは言うまでもない。更に、RAM、ROMなどの半導体メモリだけでなく、内部にパルス駆動する長距離配線を有するシステムLSI(SOC)に広く用いることができる。
尚、比較回路11は比較回路の一例、パルス幅調整回路12はパルス幅調整回路の一例、配線ディレイ回路D0は配線遅延回路の一例、インバータディレイ回路D1乃至D4はインバータ遅延回路の一例、フリップフロップFF11乃至FF14は第1フリップフロップの一例、フリップフロップFF21乃至FF24は第2フリップフロップの一例である。
11 比較回路
12 パルス幅調整回路
D0 配線ディレイ回路
D1〜D4 インバータディレイ回路
FF11〜FF14、FF21〜FF24 フリップフロップ
TG1〜TG4 トランスファーゲート

Claims (5)

  1. 配線による遅延とインバータによる遅延とを比較する比較回路と、
    インバータ段数によりパルス幅を調整するパルス幅調整回路と、
    を備え、
    前記パルス幅調整回路は、前記比較回路の比較結果に基づいて、前記インバータによる遅延が前記配線による遅延よりも小さくなった場合に、前記インバータ段数を多くし、前記パルス幅を増加させる
    ことを特徴とするパルス幅制御回路。
  2. 前記比較回路は、
    前記配線による遅延を検知する配線遅延回路と、
    前記インバータによる遅延を検知するインバータ遅延回路と、
    前記配線遅延回路の出力と前記インバータ遅延回路の出力とに応じてセット、リセットされる第1フリップフロップと、
    前記第1フリップフロップの出力を取り込む第2フリップフロップと、
    を備えることを特徴とする請求項1に記載のパルス幅制御回路。
  3. 前記比較回路は、
    互いに異なる段数のインバータが直列に接続された複数の前記インバータ遅延回路と、
    複数の前記インバータ遅延回路に対応して設けられた複数の前記第1フリップフロップと、
    複数の前記第1フリップフロップの出力を取り込む複数の前記第2フリップフロップと、
    を備え、
    前記パルス幅調整回路は、
    複数のトランスファーゲートを備え、
    複数の前記第2フリップフロップの出力信号に基づいて前記トランスファーゲートをオンオフ制御することで、前記配線による遅延と前記インバータによる遅延との差分に応じて前記パルス幅を調整する
    ことを特徴とする請求項2に記載のパルス幅制御回路。
  4. パルス幅制御回路によってパルス幅を制御し、ワード線をパルス駆動する半導体メモリであって、
    前記パルス幅制御回路は、
    配線による遅延とインバータによる遅延とを比較する比較回路と、
    インバータ段数によりパルス幅を調整するパルス幅調整回路と、
    を備え、
    前記パルス幅調整回路は、前記比較回路の比較結果に基づいて、前記インバータによる遅延が前記配線による遅延よりも小さくなった場合に、前記インバータ段数を多くし、前記パルス幅を増加させる
    ことを特徴とする半導体メモリ。
  5. 前記比較回路は、
    前記ワード線と同様のレイアウトパターンで複製され、前記ワード線による遅延を検知する配線遅延回路と、
    前記パルス幅調整回路のインバータ段数と同じ段数のインバータによる遅延を検知するインバータ遅延回路と、
    前記配線遅延回路の出力と前記インバータ遅延回路の出力とに応じてセット、リセットされる第1フリップフロップと、
    前記第1フリップフロップの出力を取り込む第2フリップフロップと、
    を備えることを特徴とする請求項4に記載の半導体メモリ。
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