JP5467422B2 - 複合体の製造方法 - Google Patents
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Description
本発明の複合体の製造方法は、凹凸のパターンが形成されたモールド及び基板を用い、まず、このモールド又は基板上に、光重合性基を有する化合物と所定の光重合開始剤とを含有する光硬化性組成物からなる光硬化性組成物層を設ける。
(実施例1)
光重合性基を有する化合物としてテトラヒドロフルフリルアクリレートを40重量部、ポリエチレングリコールジアクリレートを45重量部、トリメチロールプロパンテトラアクリレートを15重量部、光重合開始剤としてビスアシルホスフィンオキサイドを2重量部を配合し、室温で撹拌混合して、液状の光硬化性組成物を調製した。
各成分の配合量を表1に示すようにした以外は、実施例1と同様の操作を行った。
この結果、実施例1〜4では光硬化層は完全に硬化しており、ビスアシルホスフィンオキサイドの含有量が少ない実施例5は実施例1〜4に比べ若干光硬化性が低下したが、光学部材として支障のない程度であった。また、実施例1〜3及び5では黄変などの着色も見られず無色透明であり、ビスアシルホスフィンオキサイドの含有量が多い実施例4では、光硬化層に若干の着色が見られたが光学部材として支障のない程度であった。得られた結果等を表1に示す。
後露光用光重合開始剤として、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン(商品名:ダロキュア1173、チバ・ジャパン(株)製)を4重量部配合した以外は実施例1〜5と同様の操作を行った。得られた複合体について、さらに、超高圧水銀ランプを使用して光硬化層側から露光量200mJ/cm2で後露光を行って、実施例6〜10の複合体を得た。得られた複合体の光硬化層の光硬化性と着色の度合いを評価した。
ビスアシルホスフィンオキサイドを配合せずダロキュア1173を10重量部配合した以外は実施例1と同様の操作を行った。その結果、用いた光重合開始剤ダロキュア1173は波長370nm以上の波長領域の光に感光しないため、光重合反応の効率が著しく低下し、十分に硬化しなかった。得られた結果等を表1に示す。
ビスアシルホスフィンオキサイドの代わりに2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4モルフォリノフェニル)−1−ブタノン(商品名:イルガキュア369、チバ・ジャパン(株)製)を2重量部配合した以外は、実施例1と同様の操作を行った。その結果、用いた光重合開始剤イルガキュア369は可視光領域に吸収を有するが当該領域での吸収強度が減少する特性を有していないため、光硬化性組成物は十分に硬化したものの、光硬化層に着色が見られた。得られた結果等を表1に示す。
実施例1〜10及び比較例1〜2の複合体にサンシャインウェザーメーター(スガ試験機(株)製)を用いて波長300〜700nm、照度250W/m2の光に、基板側から72時間暴露し、試験前後の波長300〜700nmの透過率変化を測定した。実施例1〜10の光硬化性組成物ではいずれの波長においても透過率変化は5%未満であり、着色等の外観変化も生じず、良好な耐光性を示した。一方、比較例1〜2は、波長400nm付近において5%以上の透過率の低下、及び着色が観察された。得られた結果等を表1に示す。
2 光硬化性組成物層
3 モールド
4 光硬化層
5 複合体
Claims (5)
- 凹凸のパターンが形成されたモールド及び可視光に対して実質的に透明で370nm未満の波長の全領域における各波長の光透過率が10%以下である基板を用いて光インプリントリソグラフィにより基板と光硬化層とからなる複合体を製造する方法であって、
前記基板又は前記モールド上に、少なくとも1つの光重合性基を有する化合物と、370nm以上の波長領域の光に感光して前記光重合性基を有する化合物の重合開始剤として作用すると共に構造が変化して可視光領域にある吸収強度が減少する特性を有する光重合開始剤と、可視光に感光せず370nm未満の波長領域の光に感光して前記光重合性基を有する化合物の重合開始剤として作用する後露光用光重合開始剤とを含有する液状の光硬化性組成物からなる光硬化性組成物層を形成する工程と、前記基板及び前記モールドで前記光硬化性組成物層を挟み込む工程と、前記基板及び前記モールドで挟み込まれた状態のままの前記光硬化性組成物層を前記基板側から370nm以上の波長領域を含む光で露光して光硬化層とする工程と、前記光硬化層から前記モールドを離型する工程と、前記光硬化層から前記モールドを離型する工程の後、前記光硬化層を前記光硬化層の側から370nm未満の波長領域を含む光で露光する後露光工程とを有することを特徴とする複合体の製造方法。 - 前記光重合性基を有する化合物100重量部に対して、前記光重合開始剤の含有量は0.05〜5重量部であることを特徴とする請求項1に記載の複合体の製造方法。
- 前記光重合開始剤が、光ラジカル重合開始剤であることを特徴とする請求項1又は2に記載の複合体の製造方法。
- 前記光重合開始剤がアシルホスフィンオキサイド類であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の複合体の製造方法。
- 前記モールドが、前記光硬化層とする工程で露光する前記370nm以上の波長領域を含む光を透過しないことを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の複合体の製造方法。
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