JP5467371B2 - 誘導結合型プラズマ処理装置及び誘導結合型プラズマ処理方法 - Google Patents
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Description
以下、本発明の実施の形態1について、図1及び図2を参照して説明する。
以下、本発明の実施の形態2について、図3を参照して説明する。
以下、本発明の実施の形態3について、図4を参照して説明する。
以下、本発明の実施の形態4について、図5を参照して説明する。
以下、本発明の実施の形態5について、図6を参照して説明する。
以下、本発明の実施の形態6について、図7を参照して説明する。
以下、本発明の実施の形態7について、図8を参照して説明する。
2 基材
T 誘導結合型プラズマトーチユニット
3 ソレノイドコイル
4 第一石英ブロック
5 第二石英ブロック
8 プラズマ噴出口
9 プラズマガスマニホールド
10 プラズマガス供給配管
11 プラズマガス供給穴
13 シールドガスノズル
14 シールドガスマニホールド
15,21 冷媒流路
16 接地銅板
22 薄膜
Claims (8)
- 内部誘電体ブロックと外部誘電体ブロックの間の空間として画定された環状チャンバと、前記環状チャンバに連通する開口部と、前記環状チャンバの内部にガスを導入するためのガス供給配管と、前記環状チャンバの近傍に設けられたコイルと、からなる誘導結合型プラズマトーチユニットを有し、前記コイルに接続された高周波電源と、基材を載置する基材載置台とを備えた誘導結合型プラズマ処理装置であって、
前記内部誘電体ブロックの内部に導体部材を備えたこと、
を特徴とする誘導結合型プラズマ処理装置。 - 前記導体部材が接地されている、請求項1記載の誘導結合型プラズマ処理装置。
- 前記環状チャンバが、長尺な形状であり、前記開口部が、長尺で線状であり、前記コイルが、前記開口部の長手方向と平行な向きに長尺な形状をもち、前記開口部の長手方向に対して垂直な向きに、前記環状チャンバと前記基材載置台とを相対的に移動可能とする移動機構を備えた、請求項1記載の誘導結合型プラズマ処理装置。
- 前記内部誘電体ブロックの内部に、前記開口部の長手方向に対して平行に冷媒流路が設けられている、請求項2記載の誘導結合型プラズマ処理装置。
- 前記開口部の長手方向に対して平行で、内部が冷媒流路となっている誘電体管が、前記内部誘電体ブロックに接合されている、請求項2記載の誘導結合型プラズマ処理装置。
- 前記環状チャンバと前記開口部とを連通させる通路が、1mm以下の隙間から成る、請求項1記載の誘導結合型プラズマ処理装置。
- 前記環状チャンバの太さが、1mm以上10mm以下である、請求項1記載の誘導結合型プラズマ処理装置。
- 内部に導体部材を設けた内部誘電体ブロックと、外部誘電体ブロックの間の空間として画定された環状チャンバ内にガスを供給しつつ、前記環状チャンバに連通する開口部から基材に向けてガスを噴出すると共に、コイルに高周波電力を供給することで、前記環状チャンバ内に高周波電磁界を発生させて高温のプラズマを発生させ、前記基材の表面を処理することを特徴とする誘導結合型プラズマ処理方法。
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