JP5459945B2 - 位相シフトフォトマスク及びその製造方法 - Google Patents
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Description
本発明の実施形態は、一般的に、半導体業界で用いる集積回路を製造するためのフォトマスクに関し、特に、位相シフトフォトマスク及びその製造方法に関する。
集積回路(IC)又はチップの製造において、チップの異なる層のパターンは、再利用可能なフォトマスク又はレチクルを用いて作成される。一般的に、15〜30以上のセットのレチクルを用いてチップを構築する。レチクルは繰り返し用いることができる。本明細書では、「フォトマスク」及び「レチクル」という用語は、同じ意味で用いられる。各フォトマスクは、半導体基板上に配置されたフォトレジスト層に、各チップ層の設計をリソグラフィー的に転写又は印刷する。フォトマスクの精度は非常に重要である。というのは、フォトマスクの欠陥はチップに転写されて、回路性能に悪影響を及ぼす可能性があるためである。
一実施形態において、Cr層208は、少なくとも1種類の塩素含有ガス(例えば、塩素(Cl2))又は少なくとも1種類のフッ素含有ガス(例えば、六フッ化硫黄(SF6)又は四フッ化炭素(CF4))を含むプラズマを用いてエッチングされる。Crをエッチングするかかるプロセスは、2006年3月28日発行の本発明の譲受人に譲渡された米国特許第7,018,934 B2号に記載されている。Cr層208をエッチングするのにその他の好適なエッチングプロセスを利用してもよいものと考えられている。
Claims (17)
- リソグラフィーシステムの照射源により生成される種類の光に対して実質的に透明な基板と、
前記基板上に形成され、少なくとも1つの開口部を有するパターン化フィルムスタックとを含む位相シフトフォトマスクであって、
フィルムスタックは、
前記基板に配置され、前記光に対して所定値の透明度を有する第1の層と、
第1の層上に配置された第2の層であって、前記第1及び第2の層を選択して、前記第1及び第2の層を通して形成された前記開口部を通過する光に対して、前記第1及び第2の層を通過する光において180度位相シフトとなるようにし、前記第2の層が二酸化ケイ素(SiO 2 )層である第2の層と、
前記第2の層上に配置され、クロムを含む第3の層を含む位相シフトフォトマスク。 - 前記第1の層がタンタル(Ta)層であり、前記基板が石英又はガラスから形成されている請求項1記載のフォトマスク。
- 前記フィルムスタックがMoSixOyNzスタックとして形成されている請求項1記載のフォトマスク。
- 前記第1の層がタンタル(Ta)から形成されており、約5〜約50nmの厚さを有し、
前記第2の層が約50〜約300nmの厚さを有する請求項1記載のフォトマスク。 - 前記フィルムスタック及び基板が、前記基板のみを通過する光に対して、前記フィルムスタックを通過する光の180度位相シフトとなる特徴を有している請求項2記載のフォトマスク。
- リソグラフィーシステムの照射源により生成される光に実質的に透明な基板を提供する工程であって、前記基板がフィルムスタックと基板を含み、前記フィルムスタックに形成された開口部を通過する光に対して前記フィルムスタックを通過する光の180度位相シフトとなる特徴を有し、前記フィルムスタックが、
犠牲上層と、
前記光に対して所定値の透明度を有し、金属で形成された第1の層と、
前記光に実質的に透明な、誘電体で形成された第2の層を更に含む工程と、
前記犠牲上層上にパターン化エッチングマスクを形成する工程と、
前記犠牲上層の露出部分をエッチングする工程と、
前記第2の層の露出部分をエッチングする工程と、
エッチングストップ層として前記基板を用いて、前記第1の層の露出部分をエッチングする工程であって、前記第1の層の露出部分をエッチングする工程は、塩素及びアルゴンを約1:20〜約20:1の範囲内の流量で処理チャンバ内に供給する工程を含み、前記第1の層のエッチングは、少なくとも約10:1の前記基板に対する前記第1の層の選択性を有する工程と、
前記パターン化エッチングマスクを除去する工程と、
前記犠牲上層を除去する工程を含み、
前記残りのフィルムスタック及び基板が、前記フィルムスタックの開口部を通過する光に対して前記フィルムスタックを通過する光の180度位相シフトとなる特徴を有する位相シフトフォトマスクを製造する方法。 - 前記基板が石英で形成されており、
前記パターン化エッチングマスクがフォトレジストを含み、
前記犠牲上層がクロム(Cr)で形成され、約20〜約200nmの厚さを有し、
前記第1の層がタンタル(Ta)で形成され、約5〜約50nmの範囲の所定の厚さを有し、
前記第2の層が二酸化ケイ素(SiO2)で形成され、約50〜約300nmの範囲の所定の厚さを有する請求項6記載の方法。 - 前記犠牲上層の前記露出部分をエッチングする工程が、
少なくとも1種類の塩素含有ガス又は少なくとも1種類のフッ素含有ガスを含むプラズマを提供する工程を更に含む請求項7記載の方法。 - 前記第2の層の前記露出部分をエッチングする工程が、
四フッ化炭素(CF4)及びトリフルオロメタン(CHF3)を、約1:50〜約10:1の範囲の流量比CF4:CHF3で流す工程と、
約100〜約1500Wのプラズマ電源を印加する工程と、
約10〜約200Wのバイアス電力を印加する工程と、
前記処理チャンバのガス圧を約0.5〜約20ミリトルに維持する工程とを更に含む請求項7記載の方法。 - 前記第1の層の前記露出部分をエッチングする工程が、
約75〜約1500Wのプラズマ電源を印加する工程と、
約5〜約100Wのバイアス電力を印加する工程と、
前記処理チャンバのガス圧を約1〜約20ミリトルに維持する工程とを含む請求項7記載の方法。 - パターン化エッチングマスクを、アッシングプロセス又はウェットエッチングプロセスを用いて除去する工程を更に含む請求項7記載の方法。
- 前記犠牲上層を、少なくとも1種類の過塩素酸系溶剤、又は少なくとも1種類の塩素含有ガス又は少なくとも1種類のフッ素含有ガスを含むプラズマを用いて除去する工程を更に含む請求項7記載の方法。
- タンタル(Ta)層と、二酸化ケイ素(SiO2)層と、クロム(Cr)含有層と、前記Cr含有層上にパターン化フォトレジストエッチングマスクとを有する石英基板を提供する工程と、
前記エッチングマスクを通して露出した前記Cr含有層の部分をエッチングする工程と、
前記エッチングされたCr含有層を通して露出した前記SiO2層の部分をエッチングする工程と、
前記エッチングされたSiO2層を通して露出した前記Ta層の部分を、前記基板をエッチングストップ層として用いてエッチングする工程であって、前記Ta層の露出部分をエッチングする工程は、塩素及びアルゴンを約1:20〜約20:1の範囲内の流量で処理チャンバ内に提供する工程を含み、Taのエッチングは、少なくとも約10:1の前記石英基板に対する前記Ta層の選択性を有する工程と、
前記パターン化エッチングマスクを除去する工程と、
前記Cr含有層を除去する工程とを含む位相シフトフォトマスクを製造する方法。 - 前記Cr含有層が約20〜約200nmの厚さを有し、前記SiO2層が約50〜約30nmの厚さを有しており、前記Ta層が約5〜約50nmの厚さを有している請求項13記載の方法。
- 前記SiO2層の前記露出部分をエッチングする工程が、
四フッ化炭素(CF4)及びトリフルオロメタン(CHF3)を、約1:50〜約10:1の範囲の流量比CF4:CHF3で処理チャンバ内に提供する工程と、
約100〜約1500Wのプラズマ電源を印加する工程と、
約10〜約200Wのバイアス電力を印加する工程と、
前記処理チャンバのガス圧を約0.5〜約20ミリトルに維持する工程とを更に含む請求項13記載の方法。 - 前記Ta層の前記露出部分をエッチングする工程が、
約75〜約1500Wのプラズマ電源を印加する工程と、
約5〜約100Wのバイアス電力を印加する工程と、
前記処理チャンバのガス圧を約1〜約20ミリトルに維持する工程とを更に含む請求項13記載の方法。 - 前記Cr含有層を除去する工程が、少なくとも1種類の過塩素酸系溶剤、又は少なくとも1種類の塩素含有ガス又は少なくとも1種類のフッ素含有ガスを含むプラズマに前記Cr含有層を曝露する少なくとも1つの工程を更に含む請求項13記載の方法。
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