JP5442012B2 - 座標入力装置および座標入力機能付き表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、例えばタッチパネルに代表されるような、所定の平面状の入力領域に対して使用者が入力操作した箇所を入力位置として検出する座標入力装置、およびこれを備えた座標入力機能付き表示装置に関する。

座標入力装置では、基板上にマトリックス状に間隔を空けて配列される複数の検出電極を有する複数の検出電極パターンを備えるものがある（例えば、特開２００８−３１０５５０号公報）。

しかしながら、このような座標入力装置では、検出電極の間に電極が形成されていない。そのため、検出電極間の領域での光の透過率は検出電極の形成領域の透過率に対して高くなるとともに、検出電極間の領域での光の反射率は検出電極の形成領域の光の反射率よりも低くなる場合がある。この光の透過率および反射率の違いによって、座標入力装置の入力領域での検出電極間の領域が目立ってしまい、製品の表示品位が低下する場合があった。この課題は、静電容量方式の座標入力装置以外の、指もしくはペンなどの位置を検出するための検出電極を有する抵抗膜方式などの座標入力装置であっても、同様である。

本発明は、このような事情のもとで考え出されたものであって、製品の表示品位を向上させることを目的とする。

本発明の一実施形態に係る座標入力装置は、基板と、複数の検出電極を含み、複数の前記検出電極が少なくとも一方向に沿って前記基板上に配列された検出電極パターンと、平面視して、前記検出電極間に設けられており、前記検出電極と電気的に絶縁され、かつ前記検出電極と同じ材料を含む調整パターンと、を備え、前記検出電極パターンは、第１方向に沿って配列された第１検出電極パターンと、第２方向に沿って配列された第２検出電極パターンと、を有し、前記第１検出電極パターンが含む前記検出電極と、前記第２検出電極パターンが含む前記検出電極と、前記調整パターンとは、同一平面上に位置しており、前記第１検出電極パターンと前記第２検出電極パターンとは、互いに交差する交差部を有し、平面視して、前記調整パターンは、前記交差部に近づくにつれて細くなる端部を有する。

本発明の第１の実施形態の座標入力装置を表す平面図である。 図１に示す座標入力装置の断面図であって、（ａ）はＩｂ−Ｉｂに沿った断面図であり、（ｂ）はＩＩｂ−ＩＩｂに沿った断面図である。 図１に示す座標入力装置のＩＩＩｂ−ＩＩＩｂに沿った断面図である。 図１に示す座標入力装置の導電層と絶縁層とを表す平面図である。 図１のＲ部分の拡大平面図である。 本発明の実施形態の座標入力機能付き表示装置を表す断面図である。 液晶表示パネルを表す斜視図である。 本発明の第２の実施形態の座標入力装置を表す平面図である。 図８に示す座標入力装置の絶縁層および導電層を表す平面図である。 図８に示す座標入力装置のＩＶｂ−ＩＶｂに沿った断面図である。 本発明の第３の実施形態の座標入力装置を表す平面図である。 （ａ）は図１１に示す座標入力装置の基板側を表す分解平面図であり、（ｂ）は図１１に示す座標入力装置の保護用基板側を表す分解平面図である。 本発明の他の実施形態の座標入力機能付き表示装置を表す断面図である。 図１０に示す座標入力装置の変形例を示す断面図である。 図５に示す座標入力装置の変形例を示す平面図である。

［第１の実施形態］
まず、本発明の第１の実施形態における静電容量方式の座標入力装置Ｘ１および座標入力機能付き表示装置Ｙについて説明する。

座標入力装置Ｘ１は、基板１０と、導電層２０と、絶縁層３０と、第１検出電極パターン４０と、第２検出電極パターン５０と、調整パターン６０と、接合部材７０と、保護用基板８０とを備える。

基板１０は、導電層２０と、絶縁層３０と、第１検出電極パターン４０と、第２検出電極パターン５０と、調整パターン６０とを支持する役割を有している。図１に示すように、基板１０の平面視形状は、例えば矩形状とされている。基板１０の材料は、絶縁性および透光性を有するものが挙げられ、例えばガラス、プラスチックなどである。ここで、透光性とは、可視光に対する透過性を意味する。また、基板１０の材料としてガラスを用いる場合、充分な形状安定性を確保するとともに、静電容量の変化を検知し易くするために、基板１０の厚さを０．１ｍｍ以上１．０ｍｍ以下に設定することが好ましい。

この基板１０の一方主面には、略全面的に形成された導電層２０が設けられている。

導電層２０は、シールド電極２１と、第２接続電極２２とを有している。

シールド電極２１は、例えば表示装置の駆動信号などのノイズが後述の第１検出電極４１ａおよび第２検出電極５１ａに影響を及ぼすことを低減する役割を有している。シールド電極２１は、第２接続電極２２の部分を除いて連続した層となっており、グランド電位などの基準電位に設定されている。

第２接続電極２２は、隣り合う第２検出電極５２ａ間を電気的に接続する役割を有するものである。図２（ａ）、図２（ｂ）および図４に示すように、第２接続電極２２は、その周縁がシールド電極２１から離間し、シールド電極２１と電気的に絶縁される島状に点在する部分である。

導電層２０の材料は、透光性および導電性を有するものが挙げられ、例えば、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide：インジウムスズ酸化物）、ＩＺＯ（Indium Zinc Oxide：インジウム亜鉛酸化物）、ＡＴＯ（Antimony Tin Oxide：アンチモン錫酸化物）、酸化錫、酸化亜鉛などである。

この導電層２０上には、略全面的に形成された絶縁層３０が設けられている。

絶縁層３０は、シールド電極２１と第１検出電極パターン４０とを絶縁するとともに、シールド電極２１と第２検出電極パターン５０とを絶縁する役割を有している。

また、絶縁層３０は、第１貫通孔３１を有している。図２（ａ）および図４に示すように、第１貫通孔３１は、絶縁層３０における第２接続電極２２の両端部に対応する位置に設けられており、絶縁層３０を厚み方向に貫通している。絶縁層３０の材料は、透光性および絶縁性を有するものが挙げられ、例えばアクリル樹脂などの樹脂である。

この絶縁層３０上には、複数の第１検出電極パターン４０と、複数の第２検出電極パターン５０と、複数の調整パターン６０とが設けられている。

第１検出電極パターン４０は、第１検出電極列４１と、配線導体４２とを有している。

第１検出電極列４１は、複数の第１検出電極４１ａと、第１接続電極４１ｂとを有している。また、複数の第１検出電極列４１は、矢印ＣＤ方向に沿って配列されている。

第１検出電極４１ａは、矢印ＣＤ方向での、入力領域に接近された指などの位置検出を行う役割を有している。第１検出電極４１ａは、矢印ＡＢ方向および矢印ＣＤ方向に沿って間隔を空けてマトリックス状に配置されている。矢印ＡＢ方向に隣り合う第１検出電極４１ａは、第１接続電極４１ｂによって互いに電気的に接続される。図１および図５に示すように、本実施形態における第１検出電極４１ａは、平面視形状がひし形状をしているが、この形状には限られない。第１検出電極４１ａの材料は、導電層２０と同様のものが挙げられる。

第１接続電極４１ｂは、隣り合う第１検出電極４１ａを電気的に接続する役割を有している。また、図２（ａ）および図２（ｂ）に示すように、絶縁層３０を介して第１接続電極４１ｂは第２接続電極２２と対向している。言い換えれば、図５に示すように、第１検出電極パターン４０の第１接続電極４１ｂと第２検出電極パターン５０の第２接続電極２２とは、平面視において交差する交差部Ｈを有している。

また、第１接続電極４１ｂの平面視での面積は、第１検出電極４１ａの平面視での面積に比べて小さく設定されている。

第１接続電極４１ｂの材料は、導電層２０と同様のものが挙げられる。

配線導体４２は、第１検出電極４１ａに電圧を印加する役割を有するものである。図１に示すように、配線導体４２は、その一端部が第１検出電極列４１の端部に位置する第１検出電極４１ａに接続され、その他端部が外部導通領域１１に位置している。なお、配線導体４２は第１検出電極列４１の両端部に接続されていてもよい。配線導体４２の材料は、導電性を有するものが挙げられ、例えばアルミニウム、アルミニウム合金、銀、銀合金などの金属である。

第２検出電極パターン５０は、第２検出電極列５１と、配線導体５２とを有している。
第２検出電極列５１は、第２検出電極５１ａと、立体配線５１ｂとを有している。図１に示すように、第２検出電極列５１は、矢印ＡＢ方向に沿って配列されている。

第２検出電極５１ａは、矢印ＡＢ方向での、入力領域に接近させた指などの位置検出を行う役割を有している。また、第２検出電極５１ａは、矢印ＡＢ方向および矢印ＣＤ方向に沿って間隔を空けてマトリックス状に配置されている。また、図２（ａ）に示すように、矢印ＣＤ方向に隣り合う第２検出電極５１ａは、導電層２０の第２接続電極２２によって互いに電気的に接続される。また、第２検出電極５１ａは、平面視形状がひし形状をしているが、この形状に限られない。

第２検出電極５１ａは、第１検出電極４１ａの近傍に位置している。ここで、近傍とは、例えば、断面視での検出電極間の離間距離が１００μｍ〜２００μｍであることをいう。第２検出電極５１ａの材料は、導電層２０と同様のものが挙げられる。

立体配線５１ｂは、隣り合う第２検出電極５１ａを第２接続電極２２を介して電気的に接続させる役割を有している。図２（ａ）に示すように、立体配線５１ｂは、絶縁層３０の第１貫通孔３１内に設けられている。立体配線５１ｂの材料は、導電層２０と同様のものが挙げられる。なお、立体配線５１ｂは、第２検出電極５１ａと一体であってもよいし、別体としてもよい。

配線導体５２は、第２検出電極５１ａに電圧を印加する役割を有している。図１に示すように、配線導体５２は、その一端部が第２検出電極列５１の端部に位置する第２検出電極５１ａに接続され、その他端部が外部導通領域１１に位置している。なお、配線導体５２は、第２検出電極列５１の両端部に接続されていてもよい。配線導体５２の材料は、配線導体４２と同様のものが挙げられる。

調整パターン６０は、絶縁層３０上に位置している。また、図１、図３および図５に示すように、調整パターン６０は、隣り合う第１検出電極４１ａ間、隣り合う第２検出電極５１ａ間、および隣り合う第１検出電極４１ａと第２検出電極５１ａとの間に設けられている。また、調整パターン６０は、第１検出電極４１ａおよび第２検出電極５１ａと同じ材料を含む。

座標入力装置Ｘ１では、調整パターン６０が、平面視において、隣り合う第１検出電極４１ａ間、隣り合う第２検出電極５１ａ間、および隣り合う第１検出電極４１ａと第２検出電極５１ａとの間に設けられている。これにより、第１検出電極パターン４０もしくは第２検出電極パターン５０が形成されている領域と、第１検出電極パターン４０および第２検出電極パターン５０が形成されていない領域とにおける可視光の透過率および反射率の差を低減できる。したがって、座標入力装置Ｘ１では、入力領域での可視光の透過率および反射率がより均一化でき、例えば座標入力装置Ｘ１を表示装置に搭載した場合において表示品位が向上する。

なお、上記では、調整パターン６０が、隣り合う第１検出電極４１ａ間、隣り合う第２検出電極５１ａ間、および隣り合う第１検出電極４１ａと第２検出電極５１ａとの間に設けられている例について説明したが、これには限られない。すなわち、調整膜パターン６０は、隣り合う第１検出電極４１ａ間、隣り合う第２検出電極５１ａ間、および隣り合う第１検出電極４１ａと第２検出電極５１ａとの間のいずれかに設けられていてもよい。

また、調整パターン６０の厚みが、第１検出電極４１ａおよび第２検出電極５１ａとの厚みと略同一であると、可視光の透過率および反射率がより均一化するため、好ましい。ここで、略同一の厚みとは、例えば厚みの差が１０μｍ以内のものをいう。

また、調整パターン６０は、第１検出電極４１ａおよび第２検出電極５１ａの有する可視光の透過率および反射率と同一の可視光の透過率および反射率を有すると、さらに好ましい。ここで、同一の可視光の透過率および反射率とは、例えば、調整パターン６０の有する可視光の透過率および反射率と、第１検出電極４１ａおよび第２検出電極５１ａの有する可視光の透過率および反射率との差が、第１検出電極４１ａおよび第２検出電極５１ａの有する可視光の透過率および反射率を基準として±１０％の範囲にあることをいう。

また、図５に示すように、調整パターン６０は、第１検出電極パターン４０と第２検出電極パターン５０との交差部Ｈに近づくにつれてその幅が小さくなる鋭端部６０ａを有している。これにより、交差部Ｈの近傍の狭い領域に調整パターン６０を形成することが可能となり、調整パターン６０を第１検出電極パターン４０と第２検出電極パターン５０との交差部Ｈに近づけて配置できる。

また、調整パターン６０は、第１検出電極４１ａおよび第２検出電極５１ａが設けられている絶縁層３０上に位置している。これにより、第１検出電極４１ａおよび第２検出電極５１ａの形成と同時に調整パターン６０を形成でき、座標入力装置Ｘ１の生産性が向上し、好ましい。

接合部材７０は、第１検出電極パターン４０と第２検出電極パターン５０とが形成された絶縁層３０上に、保護用基板８０を張り合わせる役割を有している。接合部材７０の材料は、例えば、エポキシ樹脂等が挙げられる。

保護用基板８０は、第１検出電極パターン４０と第２検出電極パターン５０とに、外部の物体が直接接触するのを抑制する役割を有している。保護用基板８０の材料は、例えばアクリル、ガラスなど、可視光に対して良好な透光性を有するものが挙げられる。

座標入力装置Ｘ１では、保護用基板８０に指などの導電体を押圧もしくは近接することにより、この導電体が押圧もしくは近接した位置を入力位置として検出する。具体的には、入力領域に導電体を押圧もしくは近接させると、導電体と第１検出電極４１ａおよび第２検出電極５１ａとの間の静電容量が変化する。この静電容量の変化を、図示しないドライバで検出する。ドライバは、静電容量の変化に基づいて入力位置を検出する。このようにして、座標入力装置Ｘ１は、入力位置を検出することができる。

次に、座標入力装置Ｘ１を備える座標入力機能付き表示装置Ｙについて説明する。

座標入力機能付き表示装置Ｙは、図６に示すように、座標入力装置Ｘ１と、表示装置Ｚとを備えている。また、表示装置Ｚは、液晶表示パネル９０と、光源装置１００と、筐体１１０とを備えている。

液晶表示パネル９０は、座標入力装置Ｘ１の第１検出電極４１ａ、第２検出電極５１ａおよび調整パターン６０と対向するようにして配置されている。

液晶表示パネル９０は、図７に示すように、第１基体９１と、第２基体９２と、封止部材９３とを備えており、第１基体９１と第２基体９２との間に液晶層（図示せず）を介在させ、該液晶層を封止部材９３により封止することにより、画像を表示するための複数の画素をからなる表示領域ＤＡが形成されている。

光源装置１００は、液晶表示パネル９０に向けて光を照射する役割を担うものであり、液晶表示パネル９０の下方の配置されている。

筐体１１０は、液晶表示パネル９０および光源装置１００を収容するための部材であり、上側筐体１１１および下側筐体１１２を有する。筐体１１０の材料は、ポリカーボネート樹脂などの樹脂、ステンレス、アルミニウムなどの金属などが挙げられる。

座標入力装置Ｘ１と表示装置Ｚとは、両面テープＴを介して接着される。なお、座標入力装置Ｘ１と表示装置Ｚとの固定方法に使用される固定用部材は両面テープＴには限られず、例えば熱硬化性樹脂や紫外線硬化性樹脂などの接着部材もしくは座標入力装置Ｘ１と表示装置Ｚとを物理的に固定する固定構造体でもよい。

本発明に係る座標入力機能付き表示装置Ｙは、上述のように座標入力装置Ｘ１を備えている。そのため、製品の表示品位を向上させることができる。

［第２の実施形態］
次に、図８〜図１０を参照しながら、本発明の第２の実施形態の座標入力装置Ｘ２について説明する。

座標入力装置Ｘ２は、絶縁層３０に代えて絶縁層３０Ａを採用した点で座標入力装置Ｘ１と異なる。なお、座標入力装置Ｘ２に関して、座標入力装置Ｘ１と重複する部分の説明は省略する。

図９に示すように、絶縁層３０Ａは、第１貫通孔３１Ａと、第２貫通孔３２Ａとを有している。第１貫通孔３１Ａは、絶縁層３０Ａの第２接続電極２２の両端部に対応した位置に設けられており、絶縁層３０Ａを厚み方向に貫通している。第２貫通孔３２Ａは、図１０に示すように、絶縁層３０のシールド電極２１に対応する部位に設けられており、少なくともその内壁面には導電性部材が設けられている。

図１０に示すように、調整パターン６０は、絶縁層３０Ａの第２貫通孔３２Ａの導電性部材を介してシールド電極２１と電気的に接続されている。すなわち、第２貫通孔３２Ａは導通スルーホールとしての役割を有している。なお、調整パターン６０とシールド電極２１と電気的な接続方法は導通スルーホールによるものに限られない。

座標入力装置Ｘ２では、調整パターン６０が、絶縁層３０Ａの第２貫通孔３２Ａの導電性材料を介してシールド電極２１と電気的に接続されている。そのため、第１検出電極４１ａと第２検出電極５１ａとの間で発生する浮遊電荷を、調整パターン６０を介してシールド電極２１へ逃がすことができる。これにより、第１検出電極４１ａおよび第２検出電極５１ａの位置検出感度を向上させることができる。

また、座標入力装置Ｘ２では、調整パターン６０は、絶縁層３０Ａ上に位置している。すなわち、調整パターン６０は、第１検出電極４１ａおよび第２検出電極５１ａと同一平面上に位置しており、調整パターン６０を第１検出電極４１ａおよび第２検出電極５１ａにより近接させることができ、第１検出電極４１ａと第２検出電極５１ａとの間で発生する浮遊電荷をより調整パターン６０を介してシールド電極２１へ逃がしやすくなる。

座標入力機能付き表示装置Ｙでは、座標入力装置Ｘ１の代わりに座標入力装置Ｘ２を採用してもよい。

［第３の実施形態］
次に、図１１および図１２を参照しながら、本発明の第３の実施形態の座標入力装置Ｘ３について説明する。

座標入力装置Ｘ３は、基板１０と、第１検出電極パターン４０と、第２検出電極パターン５０Ｂと、調整パターン６０と、接合部材７０と、保護用基板８０とを有している。以下、座標入力装置Ｘ３の説明に関して、座標入力装置Ｘ１と重複する部分の説明は省略する。

図１２（ｂ）に示すように、第２検出電極パターン５０Ｂは、第２検出電極列５１Ｂと、配線導体５２Ｂとを有しており、保護用基板８０の一方主面側に設けられている。第２検出電極列５１Ｂは、第２検出電極５１Ｂａと、第２接続電極５１Ｂｂとを有しており、矢印ＡＢ方向に沿って配列されている。

図１１に示すように、座標入力装置Ｘ３は、第１検出電極４１ａと第２検出電極５１Ｂａとが平面視で重ならないようにして、接合部材７０によって基板１０と保護用基板８０とを張り合わせてなる。

調整パターン６０は、基板１０と保護用基板８０とを張り合わせた際に、平面視して第１検出電極４１ａと第２検出電極５１Ｂａとの間に位置するように設けられている。本実施形態では、基板１０上に設けられているが、保護用基板８０上に設けてもよいし、両方に設けてもよい。

座標入力装置Ｘ３では、座標入力装置Ｘ１で説明した効果と同様な効果を有する。

座標入力機能付き表示装置Ｙでは、座標入力装置Ｘ１の代わりに座標入力装置Ｘ３を採用してもよい。

以上、本発明の具体的な実施形態を示したが、本発明はこれに限定されるものではない。

座標入力装置Ｘ１，Ｘ２では、第１接続電極４１ｂと第２接続電極２２とは、第１接続電極４１ｂと第２接続電極２２とが絶縁層３０，３０Ａを介して対向させることで電気的な絶縁しているが、これに限られず、いずれかの接続電極を絶縁膜で被覆するなど両方の接続電極が電気的に絶縁されていればよい。

座標入力装置Ｘ１，Ｘ２では、接合部材７０および保護用基板８０を設けているが、これを設けなくともよい。

座標入力装置Ｘ１，Ｘ２では、シールド電極２１を設けているが、これを設けなくともよい。

座標入力装置Ｘ１，Ｘ２では、基板１０の一方主面上に導電層２０と、絶縁層３０と、第１検出電極パターン４０および第２検出電極パターン５０とを順に積層しているが、基板１０の一方主面上に第１検出電極パターン４０および第２検出電極パターン５０と、絶縁層３０と、導電層２０とを順に積層してもよい。また、この場合、図１３に示すように、表示装置Ｚに搭載する際に、表示装置Ｙの上側基板を保護用基板として兼用してもよい。

座標入力装置Ｘ１，Ｘ２では、調整パターン６０と、第１検出電極４１ａおよび第２検出電極５１ａとが離間しているが、これに限らず、互いに電気的に絶縁されていればよい。例えば調整パターン６０を絶縁膜で被覆してもよい。

座標入力装置Ｘ２では、調整パターン６０は、絶縁層３０Ａの第２貫通孔３２Ａを介して、シールド電極２１と電気的に接続しているが、図１４に示すように、第２貫通孔３２Ａ内で調整パターン６０をシールド電極２１上に直接に設けてもよい。

座標入力装置Ｘ３では、シールド電極２１を設けてもよい。シールド電極２１を設けると、例えば表示装置の駆動信号に起因して発生するノイズが検出電極４１ａ，５１ａに与える影響を抑制できるため好ましい。

座標入力装置Ｘ１，Ｘ２，Ｘ３では、調整膜パターン６０の代わりに調整パターン６０Ａを設けてもよい。ここで、調整パターン６０Ａは、円弧状の端部を有している。これにより、円弧状部分で透過光および反射光を散乱させやすくなるので、調整パターン６０Ａが視認されにくくなり、好ましい。

また、タッチパネルＸ１，Ｘ２，Ｘ３として、静電容量方式の座標入力装置を例に説明したが、これに限定されない。例えば、本発明は、抵抗膜方式の座標入力装置にも適用することができる。

表示装置Ｙでは、表示パネルが液晶表示パネル９０である例について説明したが、これに限定されない。すなわち、表示パネルは、ＣＲＴ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機ＥＬディスプレイ、ＬＥＤディスプレイ、蛍光表示管、電界放出ディスプレイ、表面電界ディスプレイ、電子ペーパーなどであってもよい。

Ｘ１，Ｘ２，Ｘ３ 座標入力装置
Ｙ 座標入力機能付き表示装置
Ｚ 表示装置
１０ 基板
２０ 導電層
３０，３０Ａ 絶縁層
４０ 第１検出電極パターン
５０，５０Ｂ 第２検出電極パターン
６０，６０Ａ 調整パターン
７０ 接合部材
８０ 保護用基板
９０ 液晶表示パネル
１００ 光源装置
１１０ 筐体

Claims (8)

1. 基板と、
   複数の検出電極を含み、複数の前記検出電極が少なくとも一方向に沿って前記基板上に配列された検出電極パターンと、
   平面視して、前記検出電極間に設けられており、前記検出電極と電気的に絶縁され、かつ前記検出電極と同じ材料を含む調整パターンと、を備え、
   前記検出電極パターンは、第１方向に沿って配列された第１検出電極パターンと、第２方向に沿って配列された第２検出電極パターンと、を有し、
   前記第１検出電極パターンが含む前記検出電極と、前記第２検出電極パターンが含む前記検出電極と、前記調整パターンとは、同一平面上に位置しており、
   前記第１検出電極パターンと前記第２検出電極パターンとは、互いに交差する交差部を有し、
   平面視して、前記調整パターンは、前記交差部に近づくにつれて細くなる端部を有する、座標入力装置。
2. 前記基板上には、基準電位に設定された導電層と、絶縁層とが順次積層され、
   複数の前記検出電極および前記調整パターンは、前記絶縁層上に位置し、
   前記調整パターンは導電性材料を含むとともに、前記導電層と電気的に接続されている、請求項１に記載の座標入力装置。
3. 前記絶縁層には、前記絶縁層を厚み方向に貫通する導通スルーホールが設けられており、
   前記調整パターンと前記導電層とは、前記導通スルーホールを介して接続されている、請求項２に記載の座標入力装置。
4. 前記調整パターンの厚みは、前記検出電極の厚みと略同一である、請求項１に記載の座標入力装置。
5. 前記第１検出電極パターンは、複数の第１検出電極を含み、
   前記第２検出電極パターンは、複数の第２検出電極を含み、
   平面視して、前記調整パターンは、隣り合う前記第１検出電極間、隣り合う前記第２検出電極間および隣り合う前記第１検出電極と前記第２検出電極との間に位置している、請求項１に記載の座標入力装置。
6. 基板と、
   複数の検出電極を含み、複数の前記検出電極が少なくとも一方向に沿って前記基板上に配列された検出電極パターンと、
   平面視して、前記検出電極間に設けられており、前記検出電極と電気的に絶縁され、かつ前記検出電極の有する光の透過率と同じ光の透過率を有する調整パターンと、を備え、
   前記検出電極パターンは、第１方向に沿って配列された第１検出電極パターンと、第２方向に沿って配列された第２検出電極パターンと、を有し、
   前記第１検出電極パターンが含む前記検出電極と、前記第２検出電極パターンが含む前記検出電極と、前記調整パターンとは、同一平面上に位置しており、
   前記第１検出電極パターンと前記第２検出電極パターンとは、互いに交差する交差部を有し、
   平面視して、前記調整パターンは、前記交差部に近づくにつれて細くなる端部を有する、座標入力装置。
7. 基板と、
   複数の検出電極を含み、複数の前記検出電極が少なくとも一方向に沿って前記基板上に配列された検出電極パターンと、
   平面視して、前記検出電極間に設けられており、前記検出電極と電気的に絶縁され、かつ前記検出電極の有する光の反射率と同じ光の反射率を有する調整パターンと、を備え、
   前記検出電極パターンは、第１方向に沿って配列された第１検出電極パターンと、第２方向に沿って配列された第２検出電極パターンと、を有し、
   前記第１検出電極パターンが含む前記検出電極と、前記第２検出電極パターンが含む前記検出電極と、前記調整パターンとは、同一平面上に位置しており、
   前記第１検出電極パターンと前記第２検出電極パターンとは、互いに交差する交差部を有し、
   平面視して、前記調整パターンは、前記交差部に近づくにつれて細くなる端部を有する、座標入力装置。
8. 請求項１、６、または７に記載の座標入力装置と、
   前記座標入力装置の前記検出電極および前記調整パターンに対向配置される表示パネルと、を備える座標入力機能付き表示装置。

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