JP5435227B2 - ポジ型感光性樹脂組成物及びその硬化膜並びに表示素子 - Google Patents
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Description
すなわち、第1観点として、(A)成分として、下記式(1)で表される構造単位を持つポリイミド前駆体又はそれから得られるポリイミドと、(B)成分として、光により酸を発生する化合物とを含有し、それらが(C)溶剤に溶解したポジ型感光性樹脂組成物。
第2観点として、前記式(2)中、R3がスルホニル基を有する有機基である、第1観点に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
第3観点として、前記式(2)中、R4及びR5のうち少なくとも一方が水素原子である、第1観点又は第2観点に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
第4観点として、前記式(1)中、R2が下記式(3)で表される構造を有する、第1観点乃至第3観点のうちいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
第5観点として、前記(A)成分が、下記式(4)で表される化合物を含むテトラカルボン酸成分と、ジアミン成分とを重合して得られるポリイミド前駆体又はそれから得られるポリイミドである、第1観点乃至第4観点のうちいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
第6観点として、前記テトラカルボン酸成分が、前記式(4)で表される化合物に加え、下記式(5)乃至式(8)で表される化合物のうち少なくとも1種を含むテトラカルボン酸成分である、第5観点に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
第7観点として、前記式(4)で表される化合物が、前記テトラカルボン酸成分中、40乃至99モル%を占める、第5観点又は第6観点に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
第8観点として、前記ジアミン成分が、下記式(9)で表されるジアミン化合物を含むジアミン成分である、第5観点乃至第7観点のうちいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
第9観点として、前記ジアミン成分がジアミノシロキサン化合物を含むジアミン成分である、第5観点乃至第8観点のうちいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
第10観点として、前記(B)成分がナフトキノンジアジドスルホン酸エステル化合物である、第1観点乃至第10観点のうちいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
第11観点として、前記(C)溶剤が、炭素原子を4個以上有するアルコール又はアルキルエステルからなる群から選択される少なくとも1種である、第1観点乃至第10観点のうちいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
第12観点として、(A)成分の100質量部に基づいて、0.01乃至100質量部の(B)成分を含有する、第1観点乃至第11観点のうちいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
第13観点として、(D)成分として下記(10)で表されるマレイミド化合物を更に(A)成分の100質量部に基づいて5乃至100質量部を含有する、第12観点に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
第14観点として、前記式(10)中、R14が下記式(11)で表される構造を有する、第13観点に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
第15観点として、前記式(11)中、lとkが1であり、X5とX7が酸素原子であり、X6がジメチルメチル基である、第14観点に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
第16観点として、(E)成分として架橋性化合物を更に(A)成分の100質量部に基づいて5乃至100質量部を含有する、第15観点に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
第17観点として、第1観点乃至第16観点のうちいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物を用いて得られる硬化膜。
第18観点として、第17観点に記載の硬化膜を有する電子部品。
第19観点として、第18観点に記載の硬化膜を有する有機EL素子。
第20観点として、第1観点乃至第16観点のうちいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物を基板上に塗布し、加熱乾燥した後に、紫外線を照射して現像する、レリーフパターンの形成方法。
中でも、本発明の最も好適な態様は以下の[1]〜[15]に示すとおりである。
[1](A)成分として、下記式(1)で表される構造単位を持つポリイミド前駆体又はそれから得られるポリイミドと、(B)成分として、光により酸を発生する化合物であるo−キノンジアジド化合物とを含有し、それらが(C)溶剤に溶解したポジ型感光性樹脂組成物であって、
前記(A)成分が、下記式(4)で表される化合物を含むテトラカルボン酸成分と、
下記式(9)で表されるジアミン化合物と
ジアミノシロキサン化合物とを含むジアミン成分
とを重合し、そして上記式(1)中のR 4 及びR 5 がそれぞれ独立して炭素原子数1乃至
20の有機基を表すときは、更に、グリシジル基化合物又はアクリレート化合物を反応させるか又は反応溶液に一級アミン類を加えて塩を形成させることにより
得られるポリイミド前駆体又はそれから得られるポリイミドである、
ポジ型感光性樹脂組成物。
[2]前記ジアミノシロキサン化合物が、ビス(3−アミノプロピル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサンである、[1]に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
[3]前記テトラカルボン酸成分が、前記式(4)で表される化合物に加え、下記式(5)乃至式(8)で表される化合物のうち少なくとも1種を含むテトラカルボン酸成分である、[1]又は[2]に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
[4]前記式(4)で表される化合物が、前記テトラカルボン酸成分中、40乃至99モル%を占める、[1]乃至[3]のうちいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。[5]前記(B)成分がナフトキノンジアジドスルホン酸エステル化合物である、[1]乃至[4]のうちいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
[6]前記(C)溶剤が、アルキルエステル又は炭素原子を4個以上有するアルコールからなる群から選択される少なくとも1種である、[1]乃至[5]のうちいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
[7](A)成分の100質量部に基づいて、0.01乃至100質量部の(B)成分を含有する、[1]乃至[6]のうちいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
[8](D)成分として下記(10)で表されるマレイミド化合物を更に(A)成分の100質量部に基づいて5乃至100質量部を含有する、[1]乃至[7]のうちいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
[9]前記式(10)中、R14が下記式(11)で表される構造を有する、[8]に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
[10]前記式(11)中、lとkが1であり、X5とX7が酸素原子であり、X6がジメチルメチル基である、[9]に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
[11](E)成分として架橋性化合物を更に(A)成分の100質量部に基づいて5乃至100質量部を含有する、[1]乃至[10]のうちいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
[12][1]乃至[11]のうちいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物を用いて得られる硬化膜。
[13][12]に記載の硬化膜を有する電子部品。
[14][12]に記載の硬化膜を有する有機EL素子。
[15][1]乃至[11]のうちいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物を基板上に塗布し、加熱乾燥した後に、紫外線を照射して現像する、レリーフパターンの形成方法。
本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、(A)成分のポリイミド前駆体又はそれから得られるポリイミド、(B)成分の光酸発生剤を含有し、それらが(C)溶剤に溶解したものであり、且つ、それぞれ所望により、(D)成分のマレイミド化合物、(E)成分の架橋性化合物、また界面活性剤等その他添加剤を含有する組成物である。
以下、各成分の詳細を説明する。
(A)成分は、下記式(1)で表される構造単位を有するポリイミド前駆体又はそれから得られるポリイミドである。
また、(A)成分の化合物は、水分の吸着によって素子の信頼性が低下する虞があることから、現像液に可溶である範囲においてイミド化されていることが望ましい。イミド化の割合は50乃至99.9%が望ましく、素子信頼性と現像性の観点から、60乃至90%がより望ましい。
上記式(1)で表される構造単位を有するポリイミド前駆体又はそれから得られるポリイミドで用いられる酸成分は、下記式(4)の構造で表される。なお、後述するジアミン成分との反応によって、大部分が前記式(2)で表される骨格に転換する。
上記式(1)で表される構造単位を有するポリイミド前駆体又はそれから得られるポリイミドで用いられるジアミン成分は、下記式(9)の構造で表される。
(B)成分の光酸発生剤は、露光等に使用される光の照射によって直接又は関節的に酸を発生し、光照射部分のアルカリ現像液への溶解性を高める機能を有するものであれば特にその種類及び構造などは限定されない。また光酸発生剤は1種又は2種以上を組み合わせて使うこともできる。
o−キノンジアジド化合物は、通常、o−キノンジアジドスルホニルクロリドと、ヒドロキシ基及びアミノ基から選ばれる少なくとも一方の基を有する化合物とを、塩基性触媒の存在下で縮合反応させることにより、o−キノンジアジドスルホン酸エステルもしくはo−キノンジアジドスルホンアミドとして得られる。
本発明のポジ型感光性樹脂組成物に用いる(C)溶剤の代表的な溶媒としてブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、γ−ブチロラクトン、乳酸エチル及び乳酸ブチル、n−ブタノール、sec−ブタノール、t−ブタノール、メトキシメチルペンタノール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブチルカルビトール、ブチルカルビトールアセテート、エチルカルビトール、エチルカルビトールアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノプロピルエーテル、2−エトキシエタノール、2−ブトキシエタノール、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n−ブチル
、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸メチルエチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸プロピル、3−メトキシプロピオン酸ブチル又はブチルブチレートが挙げられる。これらの溶剤は2種類以上の混合溶剤であってもかまわない。中でも、(A)成分(式(1)で表される構造単位を有するポリイミド前駆体又はそれから得られるポリイミド)の溶解性が高い点、(B)成分(光酸発生剤)並びに後述する他の成分との相溶性が良好である点、及びポジ型感光性樹脂組成物において取扱いが容易となる点、さらには低公害系有機溶媒である点から、アルキルエ
ステル又は炭素原子を4個以上有するアルコールなどが望ましい。
本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、(D)成分としてマレイミド化合物を含有することができる。(D)成分のマレイミド化合物は、本発明のポジ型感光性樹脂組成物を用いて得られる塗膜の現像工程において、アルカリ現像液に可溶な化合物であれば、特に限定されない。(D)成分のマレイミド化合物としては、マレイミド部位が芳香環に直結し、隣接する芳香族炭素に水素原子が直結していれば、構造は特に限定されない。
特に、前記式(11)中、lとkが1であり、X5とX6が酸素原子であり、X6がジメチルメチル基であることが好ましい。
なお、上記化合物の中でも、入手が容易である点から4,4’−ジマレイミドジフェニルメタン及び2,2’−ビス[4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル]プロパンが望ましく、さらに感光特性の観点から、2,2’−ビス[4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル]プロパンであることがより好ましい。
本発明における(D)成分のマレイミド化合物は、2種類以上組み合わせて使用することができる。
本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、(E)成分として架橋性化合物を含有することができる。(E)成分の架橋性化合物は、本発明のポジ型感光性樹脂組成物を用いて得られる塗膜を硬化膜に転換する工程(以下、最終硬化時という。)において、(A)成分のポリイミド前駆体、又は(B)成分の光酸発生剤のうち少なくとも一方に含有される有機基と反応し得る基を有する化合物であれば、特に限定されない。
また、本発明における(E)成分の架橋性化合物は、2種類以上組み合わせて使用することができる。
エポキシ基を2個以上含有する化合物としては、エポリードGT−401、エポリードGT−403,エポリードGT−301、エポリードGT−302、セロキサイド2021、セロキサイド3000(以上、ダイセル化学工業(株)製)などのシクロヘキセン構造を有するエポキシ化合物、エピコート1001、エピコート1002、エピコート1003、エピコート1004、エピコート1007、エピコート1009、エピコート1010、エピコート828(以上、ジャパンエポキシレジン(株)製)などのビスフェノールA型エポキシ化合物、エピコート807(ジャパンエポキシレジン(株)製)などのビスフェノールF型エポキシ化合物、エピコート152、エピコート154(以上、ジャパンエポキシレジン(株)製)、EPPN201、EPPN202(以上、日本化薬(株)製)などのフェノールノボラック型エポキシ化合物、ECON−102、ECON−103S、ECON−104S、ECON−1020、ECON−1025、ECON−1027(以上、日本化薬(株)製)、エピコート180S75(ジャパンエポキシレジン(株)製)などのクレゾールノボラック型エポキシ化合物、デナコールEX−252(ナガセケムテックス(株)製)、CY175、CY177、CY179、アラルダイトCY−182、アラルダイトCY−192、アラルダイトCY−184(以上、CIBA−GEIGY A.G製)、エピクロン200、エピクロン400(以上、大日本インキ化学工業(株)製)エピコート871、エピコート872(以上、ジャパンエポキシレジン(株)製)ED−5661、ED−5662(以上、セラニーズコーティング(株)製)などの脂環式エポキシ化合物、デナコールEX−611、デナコールEX−612、デナコールEX−614、デナコールEX−622、デナコールEX−411、デナコールEX−512、デナコールEX−522、デナコールEX−421、デナコールEX−313、デナコールEX−314、デナコールEX−312(以上、ナガセケムテックス(株)製)などの脂肪族ポリグリシジルエーテル化合物が挙げられる。
更に、本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、必要に応じて、界面活性剤、レオロジー調整剤、シランカップリング剤等の接着補助剤、顔料、染料、保存安定剤、消泡剤、又は多価フェノール、多価カルボン酸等の溶解促進剤等を含有することができる。
上記界面活性剤は、一種単独で、又は二種以上の組合せで使用することができる。
また界面活性剤が使用される場合、その含有量は、ポジ型感光性樹脂組成物100質量%中に通常0.2質量%以下であり、好ましくは0.1質量%以下である。界面活性剤の使用量が0.2質量%を超える量に設定されても、上記塗布性の改良効果は鈍くなり、経済的でなくなる。
本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、(A)成分のポリイミド前駆体又はそれから得られるポリイミド、(B)成分の光酸発生剤及び(C)溶剤を含有し、それぞれ所望により、(D)成分のマレイミド化合物、(E)成分の架橋性化合物及び界面活性剤などのその他添加剤のうち一種以上を更に含有することができる組成物である。
[1]:(A)成分100質量部に基づいて、0.01乃至100質量部の(B)成分を含有し、これら成分が(C)溶剤に溶解したポジ型感光性樹脂組成物。
[2]:上記[1]の組成物に、更に(D)成分を(A)成分100質量部に基づいて5乃至100質量部含有するポジ型感光性樹脂組成物。
[3]:上記[2]の組成物に、更に(E)成分を(A)成分100質量部に基づいて5乃至100質量部含有するポジ型感光性樹脂組成物。
而して、調製されたポジ型感光性樹脂組成物の溶液は、孔径が0.2μm程度のフィルタなどを用いて濾過した後、使用することが好ましい。
一般に、スピンコート、浸漬、印刷等の公知の方法により、例えば、本発明のポジ型感光性樹脂組成物をITO基板、シリコンウェハー、ガラス板、セラミックス基板、或いは酸化膜又は窒化膜などを有する基材上に塗布し、その後、温度60℃乃至160℃、望ましくは70℃乃至130℃で予備乾燥することにより、本発明のポジ型感光性樹脂組成物からなる塗膜を形成することができる。
上記のアルカリ現像液の濃度は一般に10質量%以下であり、工業的には0.1乃至3.0質量%のアルカリ性水溶液が使用される。また、アルカリ現像液は、アルコール類又は界面活性剤などを含有することもでき、これらはそれぞれ、0.05乃至10質量%程度含有することが望ましい。
以下の実施例で用いる略記号の意味は、次のとおりである。
<ジアミン成分>
BAHF:2,2’−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン
BATF:2,2’−ビス(3−アミノ−4−トレイル)ヘキサフルオロプロパン
DDM:4,4'−ジアミノジフェニルメタン
APDS:ビス(3−アミノプロピル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン
DBA:1,3−ジアミノ−5−カルボキシベンゼン
TFMB:2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン
<テトラカルボン酸成分>
6FDA:4,4’−ヘキサフルオロイソプロピリデンジフタル酸無水物
DSDA:3,3'−4,4'−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸無水物
PMDA:ピロメリット酸無水物
ODPA:3,3',4,4'−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸無水物
<溶剤>
PGMEA:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
PGME:プロピレングリコールモノメチルエーテル
NMP:N−メチルピロリドン
γ−BL:γ−ブチロラクトン
<光酸発生剤>
P200:東洋合成工業(株)製 P−200(商品名)4,4’−[1−[4−[1−(4−ヒドロキシフェニル)−1メチルエチル]フェニル]エチリデン]ビスフェノール1モルと1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−スルホニルクロリド2モルとの縮合反応によって合成される感光剤
<マレイミド成分>
BMI−80:2,2’−ビス[4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル]プロパン
以下の合成例に従い、ポリマーの重量平均分子量(以下Mwと略す)と分子量分布は、日本分光(株)製GPC装置(Shodex(登録商標)カラムKF803L及びKF805L)を用い、溶出溶媒としてジメチルホルムアミドを流量1ml/分でカラム中に(カラム温度:50℃)流して溶離させるという条件で測定した。なお、Mwはポリスチレン換算値にて表される。
イミド化率は、NMR装置(JNM−LAシリーズ、日本電子(株)製)を用いてH−NMRを測定し、ポリマー骨格の芳香族のプロトン比とポリアミック酸のNH部位のプロトン比から算出した。
<ポリアミド酸溶液の製造(合成例1)>
BAHF 26.6g(0.199モル)、APDS 5.51g(0.0022モル)DSDA 71.5g(0.199モル)をPGME 850gに溶解させ濃度15wt%とした後、60℃で24時間反応させた。得られたポリマーのMwは8600、分子量分布1.55であった。この、得られたポリマー溶液の1.00gをアルミカップに移し、ホットプレートで2時間加熱することで、固形分を算出した。得られた固形分の固形分濃度は、16.39wt%であった。また、このポリマーをポリマー溶液8倍量(4000g)の50wt%メタノール水溶液に沈殿させ、減圧乾燥しポリアミド酸粉末を得た。得られたポリマーの収率は91%、またイミド化率は62%であった。なお、得られたポリマーはPGMEとPGMEAに可溶であった。
各種ジアミンと酸二無水物をPGME中に濃度15wt%になるように溶解させ、合成例1と同様な方法を用いてポリマーを合成した。このとき用いたジアミン、酸二無水物、溶媒の使用量、得られたポリマーのMwと分子量分布、得られたポリマー溶液の固形分濃度、並びにイミド化率を表1に示した。なお、これらのポリマーはPGMEAに可溶であった。
各種ジアミンを溶解させたNMP無水物を添加し、4時間反応させ、ポリマーを合成した。その後、反応溶液50gを純水1000mlに投入し、沈殿物をろ過後、減圧乾燥しポリアミド酸を得た。このとき用いたジアミン、酸二無水物、溶媒の使用量、得られたポリマーのMwと分子量分布、固形分濃度、並びにイミド化率を表1に示した。得られたポリマーはPGME又はPGMEAのいずれにも不溶であったため、反応溶液をそのまま後出のポジ型感光性樹脂組成物の調製に用いた。
なお、合成例1と同様に、各種ジアミンを溶解させたPGME中でポリマーを合成した結果、反応後1時間でポリマーは析出した。
次の表2に示す組成に従い、(A)成分、(B)成分、(C)溶剤、(D)成分、並びにフッ素系界面活性剤(大日本インキ化学工業(株)製、メガファックR−30)0.0002gを所定の割合で混合し、室温で3時間以上攪拌して均一な溶液とすることにより、各実施例及び各比較例のポジ型感光性樹脂組成物を調製した。
得られた実施例1乃至3並びに比較例1乃至4の各ポジ型感光性樹脂組成物について、感光性特性を次の手法で評価した。得られた結果を表3に示す。
ポジ型感光性樹脂組成物を段差25mm×25mmのITO基板(山容真空工業(株)製)上にスピンコーターを用いて塗布した後、温度100℃で120秒間ホットプレート上においてプリベークを行い、塗膜を形成した。なお膜厚は接触式膜厚測定器((株)ULVAC製Dektak 3ST)を用いて測定した。
得られた塗膜に100μm/200μmのライン/スペースのマスクを通してキヤノン(株)製紫外線照射装置PLA−501により、紫外光を11秒間(70mJ/cm2)照射した。露光後、23℃の水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液(各実施例で使用した水溶液濃度は表3に記載)に30秒間浸漬して現像を行い、現像後の膜厚を測定した。
また、現像後の塗膜を光学顕微鏡で観察し、パターン剥離なくライン/スペースが形成された最小の線幅を解像度とした。
<1.>の手順同様、段差ITO基板に形成した感光性樹脂塗膜をホットプレート上100℃で120秒間加熱した。次に、露光をせずに230℃30分加熱した後、膜厚を測定した。
<2.>で得られたポリイミドパターン(なお、比較例4は現像後にパターンが全て溶解したため、段差ITO基板上に塗布後、現像せずポリイミドフィルムを得た。)をUVオゾン洗浄装置((株)テクノビジョン製)で40分間洗浄し、その後、ND−1032(日産化学工業(株)製)をスピンコートで塗布し、ホットプレート上で200℃にて1時間熱処理(焼成)し、厚さ30nmのフィルムを得た。その後、中央から15mm2四方を残して削り取り、真空条件下、素子成分としてα−NPD、Alq3、FLi、Alの順に蒸着し、素子を作製した。蒸着成分は晶振動式成膜コントローラ CRTM−6000(日本真空技術(株)製)で測定した。その後、素子に9Vの電流を通電し発光面を光学顕微鏡で観察した。素子成分、蒸着量、及び発光面の観察評価結果を表4に示した。
P1又はP2を用いた素子では、ポリイミドパターンエッジ部も鮮明な発光が見られた。このことは、実施例1乃至3のポリイミドを使用した隔壁素子は、発光面へ悪影響を与えずに画素を作製することが可能であることを示している。
一方、HP1乃至HP4を用いた素子では、ポリイミドパターンエッジ部と発光面の界面に影が存在し、発光不良がみられたことから、比較例1乃至4のポリイミドを素子に用いた場合、発光面不良を引き起こすことが懸念される結果となった。
Claims (15)
- (A)成分として、下記式(1)で表される構造単位を持つポリイミド前駆体又はそれから得られるポリイミドと、(B)成分として、光により酸を発生する化合物であるo−キノンジアジド化合物とを含有し、それらが(C)溶剤に溶解したポジ型感光性樹脂組成物であって、
前記(A)成分が、下記式(4)で表される化合物を含むテトラカルボン酸成分と、
下記式(9)で表されるジアミン化合物と
ジアミノシロキサン化合物とを含むジアミン成分
とを重合し、そして上記式(1)中のR 4 及びR 5 がそれぞれ独立して炭素原子数1乃至20の有機基を表すときは、更に、グリシジル基化合物又はアクリレート化合物を反応させるか又は反応溶液に一級アミン類を加えて塩を形成させることにより
得られるポリイミド前駆体又はそれから得られるポリイミドである、
ポジ型感光性樹脂組成物。 - 前記ジアミノシロキサン化合物が、ビス(3−アミノプロピル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサンである、請求項1に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
- 前記式(4)で表される化合物が、前記テトラカルボン酸成分中、40乃至99モル%を占める、請求項1乃至請求項3のうちいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
- 前記(B)成分がナフトキノンジアジドスルホン酸エステル化合物である、請求項1乃至請求項4のうちいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
- 前記(C)溶剤が、炭素原子を4個以上有するアルコール又はアルキルエステルからなる群から選択される少なくとも1種である、請求項1乃至請求5のうちいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
- (A)成分の100質量部に基づいて、0.01乃至100質量部の(B)成分を含有する、請求項1乃至請求項6のうちいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
- 前記式(11)中、lとkが1であり、X5とX7が酸素原子であり、X6がジメチルメチル基である、請求項9に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
- (E)成分として架橋性化合物を更に(A)成分の100質量部に基づいて5乃至100質量部を含有する、請求項1乃至請求項10のうちいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
- 請求項1乃至請求項11のうちいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物を用いて得られる硬化膜。
- 請求項12に記載の硬化膜を有する電子部品。
- 請求項12に記載の硬化膜を有する有機EL素子。
- 請求項1乃至請求項11のうちいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物を基板上に塗布し、加熱乾燥した後に、紫外線を照射して現像する、レリーフパターンの形成方法。
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